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2-6固體中原子無序ImperfectionsinSolids
DefectsinCrystalsPoint,vacancyandself-interstitial
Frenkeland
Schottkydefect,StoichiometryLinear,edgeandscrewdislocation,BurgersVectorInterfacial,BulkSolidSolution(alloys)substitutionalandinterstitialNoncrystallineDiffusionChapter5第1頁2-6固體中原子無序(ImperfectionsinSolids)
2-6-1固溶體(SolidSolution):雜質(zhì)原子(或離子、分子)均勻分布(溶)于基質(zhì)晶格中固體通常特征:雜質(zhì)和基質(zhì)原子共同占據(jù)原基質(zhì)晶格點(diǎn)陣;有一定成份范圍----固溶度1.
依據(jù)相圖劃分:1)端部固溶體(初級(jí)固溶體):包含純組分固溶體相圖端部2)中部固溶體(二次固溶體):0<任一組元<100%相圖中部(無任一組元結(jié)構(gòu),以化合物為基)第2頁返回上頁第3頁2.依據(jù)溶質(zhì)在點(diǎn)陣中位置劃分:1)
置換型固溶體(Substitutionalsolidsolution):晶體原(離)子被其它原(離)子部分代換后形成置換量不一樣可:
完全互溶;不形成固溶體部分互溶;Figure5.5第4頁
影響置換原因:以下諸原因相同(近)易置換;不然難成固溶體A.
離子大小:同晶型時(shí)半徑差<15%,完全互溶20~40%,部分互溶難置換B.鍵性(極化):Zn++(共價(jià)性)Fe++(離子性)C.晶體結(jié)構(gòu)類型和晶胞大小D.電價(jià):電價(jià)差使置換難(大晶胞中需其它離子補(bǔ)足)第5頁2)間隙型固溶體
(Interstitialsolidsolution):較小原子進(jìn)入晶格間隙形成固溶體
影響原因:A.
晶格結(jié)構(gòu)空隙大小B.
間隙離子進(jìn)入后需空位或其它高價(jià)反電荷離子以置換方式平衡電中性。Figure5.5第6頁固溶體理論密度:ρc=N·A/V·NA
N、V分別為晶胞原子數(shù)和體積A為固溶體平均相對(duì)原子質(zhì)量NA為阿佛伽德羅常數(shù)測(cè)定固溶體實(shí)際密度ρe
若:ρc〈ρe:間隙式ρc=ρe:置換式
ρc〉ρe:缺位式(缺陣點(diǎn)原子)固溶體判斷第7頁3)非化學(xué)計(jì)量化合物
(Nonstoichiometric):組分比偏差于化學(xué)式化合物(含變價(jià)離子)實(shí)質(zhì)是由金屬高氧化態(tài)和低氧化態(tài)形成固溶體其電中性(electroneutrality)由空孔或間隙離子平衡Figure5.4第8頁3.依據(jù)固溶度劃分:1)有限固溶體:固溶度<100%2)無限固溶體(連續(xù)固溶體):固溶度0~100%2)有序固溶體:各組元原子分別占據(jù)各自分點(diǎn)陣,分點(diǎn)陣穿插成復(fù)雜超點(diǎn)陣4.依據(jù)各組元原子分布規(guī)律性劃分:1)
無序固溶體:組元原子分布是隨機(jī)第9頁2-6-2晶體結(jié)構(gòu)缺點(diǎn)(DefectsinCrystals)晶體中原子排列周期性受到破壞區(qū)域,分:
1.
點(diǎn)缺點(diǎn)(PointDefect):任何方向尺寸都遠(yuǎn)小于晶體線度缺點(diǎn)區(qū)空位(vacancy):(a)無原子陣點(diǎn)位置間隙原子(Self-interstitial):
(d)擠入點(diǎn)陣間隙原子肖特基缺點(diǎn)(SchottkyDefect):(c)離子對(duì)空位弗蘭克爾缺點(diǎn)(FrenkelDefect):(e)等量正離子空位和正離子間隙(b)雙空位第10頁EXAMPLEPROBLEM5.1Calculatetheequilibriumnumberofvacanciespercubicmeterforcopperat1000℃.Theenergyforvacancyformationis0.9eV/atom;theatomicweightanddensity(at1000℃)forcopperare63.5g/moland8.40g/cm3,respectively.SOLUTIONThisproblemmaybesolvedbyusingEquation5.1;itisfirstnecessary,however,todeterminethevalueofN,thenumberofatomicsitespercubicmeterforcopper,fromitsatomicweightACu,itsdensity,andAvogadro’snumberNA,accordingto第11頁第12頁Figure5.3第13頁
2.線缺點(diǎn)(位錯(cuò)Dislocation):僅一維尺寸可與晶體線度比擬缺點(diǎn)一或數(shù)列原子發(fā)生有規(guī)則錯(cuò)排
EF⊥BB’1)
棱位錯(cuò)(刃位錯(cuò)EdgeDislocation)位錯(cuò)線與滑移方向(柏格斯矢量)垂直壓力、拉力第14頁Figure5.7第15頁2)螺旋位錯(cuò)(ScrewDislocation):位錯(cuò)線與滑移方向(柏格斯矢量)平行與位錯(cuò)線垂直平面在螺旋斜面受剪切力作用易發(fā)生AD∥B’B第16頁FIGURE5.8(第17頁位錯(cuò)有兩個(gè)特征:一個(gè)是位錯(cuò)線方向,它表明給定點(diǎn)上位錯(cuò)線方向,如EF,AD,用單位矢量ξ表示,另一個(gè)是為了表明位錯(cuò)存在時(shí),晶體一側(cè)質(zhì)點(diǎn)相對(duì)另一側(cè)質(zhì)點(diǎn)位移,用一個(gè)柏格斯矢量b表示。它是指該位錯(cuò)單位滑移距離,其方向和滑移方向平行b·ξ=0相互垂直,純棱位錯(cuò)b·ξ=-b相互逆向平行,純螺旋位錯(cuò)第18頁柏格斯矢量(BurgersVector)柏格斯回路第19頁右手規(guī)則:拇指----位錯(cuò)線方向
四指轉(zhuǎn)向-----柏格斯回路轉(zhuǎn)向第20頁第21頁混合位錯(cuò)FIGURE5.9
第22頁位錯(cuò)密度:nl/Al=n/AFIGURE5.9第23頁滑移外力推進(jìn)爬移空位和間隙原子無缺點(diǎn)第24頁3.面缺點(diǎn)(InterfacialDefects):僅一平面方向上尺寸可與晶體線度比擬缺點(diǎn)如由一系列刃位錯(cuò)排列成一個(gè)平面形成缺點(diǎn)4.體缺點(diǎn)(VolumeDefects):各方向尺寸均可與晶體線度比擬缺點(diǎn)如空洞、嵌塊等。第25頁2-6-3非晶體(Noncrystalline)1.非晶材料:結(jié)構(gòu)在體積范圍內(nèi)缺乏重復(fù)性材料(非晶型、無定形amorphous)
無平移對(duì)稱,無長(zhǎng)程有序,原子位置排布完全無周期性,含有統(tǒng)計(jì)規(guī)律。(密亂堆垛,無規(guī)網(wǎng)絡(luò)等)第26頁2.
分布函數(shù):
徑向分布函數(shù):J(r)=4πr2ρ(r)
雙體分布函數(shù):以某原子為原點(diǎn),距離r處找到另一原子幾率
g(r)=ρ(r)/ρ0
ρ(r)為r處原子數(shù)目密度;
ρ0
為整個(gè)樣品平均原子數(shù)密度可求兩個(gè)參數(shù):
配位數(shù):第一峰面積原子間距:峰位置第27頁第28頁3、非晶態(tài)結(jié)構(gòu)模型
微晶(不連續(xù))無規(guī)拓樸(連續(xù))第29頁除四面體外,有八、十二、十四面體:6%,4%,4%密度上限:0.637(真密堆:0.74)A.硬球無序密堆致密度第30頁B.無規(guī)網(wǎng)絡(luò)(二氧化硅玻璃)橋氧鍵角改變較大第31頁2-6-4擴(kuò)散(Diffusion)1.
擴(kuò)散現(xiàn)象:原子(或分子)經(jīng)過熱運(yùn)動(dòng)改變位置而移動(dòng)Chapter6第32頁1)
自擴(kuò)散(self-diffusion):純固體中,同種元素原子從一個(gè)點(diǎn)陣位置移動(dòng)到另一個(gè)點(diǎn)陣位置2)互擴(kuò)散(interdiffusion):不一樣種元素接觸后原子相互移動(dòng)換位第33頁3)擴(kuò)散原因原子不是靜止;原子圍繞其平衡位置進(jìn)行小振幅振動(dòng);部分原子含有足夠振幅,位置移動(dòng)。
溫度影響擴(kuò)散;晶體中缺點(diǎn)類型和數(shù)量影響擴(kuò)散。2.?dāng)U散機(jī)制(DiffusionMechanisms)1)
晶體
空位擴(kuò)散(VacancyDiffusion):一個(gè)原子與一個(gè)相鄰空位交換位置
多數(shù)金屬和置換固溶體間隙擴(kuò)散(InterstitialDiffusion):間隙式固溶體H,C,N,O直接交換機(jī)制:極難,極少發(fā)生下頁第34頁Figure6.3第35頁擴(kuò)散通道:沿位錯(cuò)、晶界、外表面擴(kuò)散激活能(ActivationEnergy)–Q:
擴(kuò)散系數(shù)(DiffusionCoefficient)D=Doe–Q/RT金屬Section6.5第36頁金屬擴(kuò)散激活能(kcal/mol)
TmQ第37頁離子材料擴(kuò)散激活能空位機(jī)制第38頁
摻雜:中溫時(shí)少許雜質(zhì)能加速擴(kuò)散NaCl中加CdCl2后鈉離子擴(kuò)散系數(shù)改變第39頁2)非晶體無序結(jié)構(gòu),有空穴,經(jīng)過自由體積進(jìn)行(缺點(diǎn))。在長(zhǎng)鏈聚合物中(高分子)擴(kuò)散有:
自擴(kuò)散:包含分子鏈段運(yùn)動(dòng),而且與材料粘滯流動(dòng)相關(guān)。
外來分子擴(kuò)散:關(guān)系到聚合物展現(xiàn)滲透性和吸收性能。
滲透性:高分子膜分離,耐腐蝕性,分子間隙
吸收性:引發(fā)溶脹,化學(xué)反應(yīng)。第40頁4.?dāng)U散數(shù)學(xué)模型
穩(wěn)態(tài)(Steady-state):?jiǎn)挝粫r(shí)間內(nèi)經(jīng)過垂直于給定方向單位面積
凈原子數(shù)(通量),不隨時(shí)間改變
Fick第一定律:
Jx=-DΔc/Δx
Jx
:擴(kuò)散通量(DiffusionFlux)
D:擴(kuò)散系數(shù),cm2/s(DiffusionCoefficient)
Δc
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