TAEEPA 001-2023 鉻污染場地生物電化學(xué)強(qiáng)化反應(yīng)性阻隔技術(shù)指南

ICS13.020.40CCSZ00團(tuán) 體 標(biāo) 準(zhǔn)T/AEEPA001—2023鉻污染場地生物電化學(xué)強(qiáng)化反應(yīng)性阻隔技術(shù)指南Technicalguidelinesforbioelectrochemicalenhancedreactivebarriertechnologyinchromium-contaminatedsites2023-12-22發(fā)布 2023-12-22實(shí)施安徽省態(tài)環(huán)護(hù)協(xié)會(huì) 發(fā)布T/AEEPA001T/AEEPA001—2023II目 次前 言 II1范圍 1規(guī)性用件 1術(shù)和義 1工流程 2用分析 2計(jì)施工 2測評估 2技適性析 3期料集理 3征染補(bǔ)監(jiān)測 3地念型建 3術(shù)用評價(jià) 3阻修工設(shè)及工 4隔復(fù)應(yīng)位擇 4隔電井設(shè)計(jì) 4隔復(fù)程工 4阻修監(jiān)及效估 5隔復(fù)果測 5隔復(fù)統(tǒng)護(hù) 6隔復(fù)效估 6附錄A 7T/AEEPA001T/AEEPA001—2023IIII前 言本文件按照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定起草。本文件由安徽省生態(tài)環(huán)境保護(hù)協(xié)會(huì)歸口。T/AEEPA001T/AEEPA001—2023PAGEPAGE2鉻污染場地生物電化學(xué)強(qiáng)化反應(yīng)性阻隔技術(shù)指南范圍本文件適用于鉻污染場地污染源與高度敏感受體之間、污染羽邊緣區(qū)域鉻污染阻隔。（GB/T14848地下水質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)HJ25.1HJ25.2HJ25.3HJ25.4建設(shè)用地土壤修復(fù)技術(shù)導(dǎo)則HJ25.6污染地塊地下水修復(fù)和風(fēng)險(xiǎn)管控技術(shù)導(dǎo)則HJ164地下水環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范HJ610環(huán)境影響評價(jià)技術(shù)導(dǎo)則地下水環(huán)境HJ682HJ682界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。鉻污染場地chromiumcontaminatedsites（污染場地特征參數(shù)characteristicparametersofcontaminatedsites描述受到環(huán)境污染影響地點(diǎn)或區(qū)域環(huán)境特性的量化數(shù)據(jù)或測量值。注：污染場地特征參數(shù)可以包括土壤污染物濃度、地下水污染物濃度、土壤pH、有機(jī)質(zhì)含量、污染物種類、地下水流動(dòng)速度、地下水流向、土壤類型、地下水位、地下水質(zhì)量、周圍地質(zhì)條件等指標(biāo)。生物電化學(xué)強(qiáng)化bioelectrochemicalenhancement通過微電場的構(gòu)建引入外部電子并使得微生物降解污染物能力提高的過程。電極井electrodewell用于安裝反應(yīng)電極的新建專用井，或利用已有傳統(tǒng)監(jiān)測井內(nèi)置電極方式構(gòu)建。注：電極井包括陽極井和陰極井。虛擬阻隔帶virtualbarrierarea采用電極井組合的方式在一定區(qū)域內(nèi)構(gòu)建用于阻隔鉻污染擴(kuò)散的低壓密度靜電場。高度敏感受體highlysensitivereceptors污染場地周圍對于鉻污染或有害物質(zhì)特別敏感或易受影響的對象。污染羽邊緣區(qū)域contaminantplumefringearea環(huán)境中污染物質(zhì)擴(kuò)散的邊緣地帶。微生物固定化材料microbialimmobilizationcarriermaterial能為微生物生長繁殖提供支撐及負(fù)載條件的材料。工作步驟工作流程圖鉻污染場地（以下簡稱“場地”）生物電化學(xué)強(qiáng)化反應(yīng)性阻隔技術(shù)應(yīng)用工作流程見圖1。圖1 工作程圖參照HJ25.1HJ25.2、HJ25.3、HJ25.4及HJ25.6，HJ25.2HJ610HJ164（。通過加密布點(diǎn)及補(bǔ)充布點(diǎn)方式開展特征污染物補(bǔ)充監(jiān)測分析，獲取場地鉻污染源及污染羽分布特征?；趫龅卣{(diào)查數(shù)據(jù)，參照HJ25.65.1所示。表1 技術(shù)用評指及用范圍評價(jià)指標(biāo)適用不適用鉻污染濃度及分布區(qū)域特征①地下水六價(jià)鉻濃度不大于200mg/L；②鉻污染源與高度敏感的受體之間、污染羽邊緣區(qū)域鉻污染①地下水六價(jià)鉻濃度大于200mg/L；②高濃度鉻污染源頭區(qū)域復(fù)合污染因素①不含有強(qiáng)毒性微生物抑制污染物（重金屬或有機(jī)污染）；②硝酸鹽濃度低于150mg/L①含有強(qiáng)毒性微生物抑制污染物（重金屬或有機(jī)污染）；②硝酸鹽濃度大于150mg/L地下水流場特征具有明確的地下水流速流向地下水流速流向不明確監(jiān)測井布設(shè)空間場地非大面積開挖，具有布設(shè)空間條件場地存在大面積開挖區(qū)域，無法提供布設(shè)區(qū)間T/AEEPA001T/AEEPA001—2023PAGEPAGE4阻隔修復(fù)反應(yīng)區(qū)選取應(yīng)考慮虛擬阻隔帶建設(shè)的科學(xué)性及有效性，通常需滿足如下要求：——建設(shè)區(qū)域地下水流向特征明顯，具有明確的上下游區(qū)位關(guān)系?！姌O井及地下水監(jiān)測井布設(shè)應(yīng)具備空間可行性?！獔龅乜商峁┙ň畷r(shí)抽出地下水的臨時(shí)儲(chǔ)存設(shè)施?！姌O井長期保留，盡量避開場地?cái)M建設(shè)通行道路?！ㄔO(shè)區(qū)域相對平坦，工程機(jī)械易進(jìn)場作業(yè)，具備較好的物資運(yùn)輸條件。——場地可為工程施工階段提供充足的電力供應(yīng)。HJ164相關(guān)規(guī)定。所示：圖2 電極布方式施工準(zhǔn)備階段一般采取如下措施：——現(xiàn)場所需材料、設(shè)備及人力資源清單條目應(yīng)進(jìn)行列舉并形成項(xiàng)目采購清單，進(jìn)場前，對材料和設(shè)備采購清單進(jìn)行查漏補(bǔ)缺。——對建設(shè)區(qū)進(jìn)行圍隔實(shí)現(xiàn)場地隔離，設(shè)立管控標(biāo)語（指示牌）防止人員受傷及設(shè)備損壞。——若建設(shè)場地可安全存儲(chǔ)試驗(yàn)設(shè)備及材料，則項(xiàng)目所需設(shè)備和材料可提前運(yùn)送至儲(chǔ)存場地，若無儲(chǔ)存條件，則應(yīng)合理安排建設(shè)進(jìn)度計(jì)劃，確保建設(shè)工程順利開展?！侠磉M(jìn)行任務(wù)分工，依據(jù)施工計(jì)劃確保相關(guān)設(shè)備及人力準(zhǔn)時(shí)進(jìn)場。T/AEEPA001T/AEEPA001—2023PAGEPAGE5阻隔區(qū)建設(shè)階段一般包括：——場地清理及平整。宜使用挖掘機(jī)、推土機(jī)、起重機(jī)、壓路機(jī)等施工機(jī)具將阻隔區(qū)內(nèi)植被清除，并完成場地平整工作。PVC89mm110mm（）PVC管的下管工作，PVC（%~10%）10L~20L0~1m——建井完畢后應(yīng)開展井臺(tái)砌筑，井臺(tái)應(yīng)設(shè)鋼制護(hù)筒。——埋地線槽鋪設(shè)。根據(jù)電極井系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案，將電極井系統(tǒng)連線于現(xiàn)場放線，并據(jù)此開槽并埋設(shè)25mm不銹鋼穿線管，穿線管埋深應(yīng)不少于0.25米。PVC）阻隔修復(fù)技術(shù)裝置啟動(dòng)順序如下：——完成阻隔修復(fù)區(qū)建設(shè)后，應(yīng)立即開展地下水樣品取樣，并以此為修復(fù)零點(diǎn)背景值?！罁?jù)地下水水質(zhì)參數(shù)特征，設(shè)定生物電化學(xué)系統(tǒng)初始電壓及電流強(qiáng)度，完成阻隔修復(fù)技術(shù)裝置的啟動(dòng)。——在生物電化學(xué)系統(tǒng)土著微生物刺激作用外，通過重力流方式向陰極井加注鉻還原菌劑，每次每口井可加注10L~20L鉻還原工程菌劑。——依據(jù)監(jiān)測結(jié)果對生物電化學(xué)強(qiáng)化技術(shù)裝置的運(yùn)行情況進(jìn)行評估，及時(shí)開展異常運(yùn)行狀況糾偏工作。阻隔修復(fù)效果監(jiān)測GB/T14848。（）；（pH（（ORP（TOCDOC（（）；（Cl-）（NO3-）（NO2-）（SO42-）（每月（）；。阻隔修復(fù)系統(tǒng)維護(hù)通過地下水監(jiān)測井監(jiān)測數(shù)據(jù)的分析對微電場耦合技術(shù)的運(yùn)行性能進(jìn)行評定（尤其是對上下游監(jiān)測井六價(jià)鉻濃度進(jìn)行比對分析），待監(jiān)測數(shù)據(jù)達(dá)到修復(fù)目標(biāo)并持續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行3個(gè)月后，可進(jìn)入阻隔修復(fù)系統(tǒng)的維護(hù)階段，該時(shí)段內(nèi)可將監(jiān)測周期及頻次調(diào)整至2~3倍時(shí)段。污染源需完全清除時(shí)，阻隔修復(fù)系統(tǒng)將停止運(yùn)行。阻隔修復(fù)成效評估HJ25.