
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
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
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設(shè)計(jì)五課王西
(Ext.663)xi.wang@深入了解
IC
內(nèi)部結(jié)構(gòu)—Hardwareapplication**課程大綱**I/OportconfigurationOscillatorsResetcircuitAudiooutput:DACAudiooutput:PWMSomethingaboutESDEOSphenomenonLatch-upSomepopularcircuitsDebugexperienceI/OportconfigurationMOS場(chǎng)效應(yīng)管PMOSNMOSGDS轉(zhuǎn)移特性電路符號(hào)簡(jiǎn)化邏輯符號(hào)電路符號(hào)簡(jiǎn)化邏輯符號(hào)轉(zhuǎn)移特性GSD
IDIDCMOS反相器、緩沖器邏輯符號(hào)內(nèi)部結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖邏輯符號(hào)內(nèi)部結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖緩沖器反相器基本的輸入端口類型PureinputPull-lowinputPull-highinput輸入端口的特性InputPort一般為施密特觸發(fā)器(SchmittTrigger)結(jié)構(gòu),三個(gè)重要參數(shù)為:VT+:輸入正向翻轉(zhuǎn)電壓;VT-:輸入負(fù)向翻轉(zhuǎn)電壓;VH=VT+-VT-:遲滯電壓。Vo-Vi特性曲線波形圖實(shí)例改進(jìn)的
pull-low
結(jié)構(gòu)有些IC提供了改進(jìn)的InputPull-low結(jié)構(gòu):當(dāng)Controlreg為High時(shí),Pull-low特性打開,高阻的WeakPull-lowResistor(約1MΩ)和低阻的StrongPull-lowResistor(約100kΩ)兩者并聯(lián)在Pin和VSS之間。當(dāng)Input為L(zhǎng)ow時(shí),StrongPull-low打開,輸入阻抗較低;而當(dāng)Input變?yōu)镠igh時(shí),StrongPull-low被禁止,此時(shí)的WeakPull-low僅消耗較小的輸入電流。這樣的結(jié)構(gòu)具有更好的輸入噪聲抑制能力。右圖反映了InputVoltage呈Low
High
Low連續(xù)變化時(shí),由WeakPull-lowResistor和StrongPull-lowResistor并聯(lián)而成的動(dòng)態(tài)電阻阻值的變化情況。基本的輸出端口類型OutputValuePortStatus
0011OutputValuePortStatus
001FloatingOutputValuePortStatus
0Floating11緩沖輸出(Buffer)NMOS漏極開路輸出(OpenDrainNMOS)PMOS漏極開路輸出(OpenDrainPMOS)(Sink)(Send)PMOSNMOSNMOSPMOS應(yīng)用舉例I2C器件連接到I2C總線NMOS漏極開路輸出在I2C總線中的應(yīng)用:SDA和SCL都是雙向線路,都通過(guò)一個(gè)電流源或上拉電阻連接到正的電源電壓。當(dāng)總線空閑時(shí),這兩條線路都是高電平,連接到總線的器件輸出級(jí)必須是漏極開路或集電極開路才能執(zhí)行線與的功能。CMOS反相器的電壓傳輸曲線應(yīng)用中需注意的問(wèn)題1.
在輸入端口配置成內(nèi)部pull-low/pull-high的應(yīng)用中,當(dāng)輸入信號(hào)源的內(nèi)阻較大時(shí),需注意內(nèi)部pull-low/pull-high電阻的影響(此電阻的典型值:50kΩ~200kΩ)。內(nèi)部pull-low/pull-high電阻與信號(hào)源的內(nèi)阻相串聯(lián),IC之inputport上的實(shí)際電壓為輸入信號(hào)電壓在內(nèi)部pull-low/pull-high電阻上產(chǎn)生的分壓,故此時(shí)IC讀到的high/low狀態(tài)可能不正確。2.
若使用pureinput模式時(shí),需注意不要使此I/Opin懸浮,僅從耗電的角度來(lái)解釋,其原因有二:
a)從右圖中CMOS反相器的電壓傳輸曲線來(lái)看,在輸入高低電平轉(zhuǎn)換期間(圖中A-B之間的區(qū)域),內(nèi)部PMOS或NMOS處于可變電阻區(qū)及飽和區(qū),此時(shí)流過(guò)的電流相對(duì)較大。當(dāng)I/Opin懸浮時(shí)輸入電平不定,頻繁地在high<-->low之間轉(zhuǎn)換,會(huì)有更多的機(jī)會(huì)進(jìn)入到A-B區(qū)域,增加了IC的耗電;
b)如果此I/O口是wake-up輸入端口,還可能導(dǎo)致IC在sleep<-->wake-up之間的頻繁轉(zhuǎn)換,增加IC的耗電。3.
對(duì)于輸出端口,由于其內(nèi)部開啟的MOS管存在導(dǎo)通內(nèi)阻,隨著輸出電流的增大,MOS管上的壓降也將增大,I/O口實(shí)際的輸出電壓將降低。ABOscillators典型的振蕩器1.
R-Coscillator2.
CMOSCrystal
oscillator*假定所有非門在Input=?VDD時(shí)輸出轉(zhuǎn)態(tài)。第一暫穩(wěn)態(tài)(X點(diǎn)電壓波形下降階段):下降時(shí)間:3/2VDD
1/2
VDD此階段電容C2放電:
U(t)=U(0)
e–t/RC1/2VDD=3/2VDDe–T1/RC
T1=RCln3第二暫穩(wěn)態(tài)(X點(diǎn)電壓波形上升階段):上升時(shí)間:-1/2VDD
1/2
VDD此階段電容C2充電:
U(t)=U(∞)+[U(0)-U(∞)]e
–t/RC1/2VDD=VDD+[-1/2VDD-VDD]e
–T2/RC
T2=RCln3振蕩頻率計(jì)算:
T=T1+T2=2
RCln3
f
=1/(2
RCln3)
=1/(2×100k×0.1μ×1.1)
=45.45HzR-
C振蕩器分析XY-1/2VDD1/2VDDT13/2VDD注意:實(shí)際IC
電路因有反向保護(hù)二極管,電壓只會(huì)大到VDD+0.6V
及VSS-0.6V
。0tUUt0T2實(shí)用R-
C振蕩器1.Rext
為鏡像電流源電路之Bias電阻,決定鏡像電流源電路的輸出電流Ic。2.Ic
愈大,電容C充電越快,時(shí)鐘頻率愈快。3.電容C由設(shè)計(jì)與制程決定。UVDDVT+VT-t0
Vc
及Clock波形詳圖電路示意圖ClockVc初始狀態(tài):電容上沒有電荷,電路從t
=
0時(shí)刻開始工作。R-
C振蕩器的應(yīng)用特性工作時(shí),一般VB(UROSC)電壓約為1.0V~1.7V之間。Sleepmode時(shí),UROSC=VDD。ROSC
愈大,F(xiàn)ROSC
愈慢,F(xiàn)ROSC呈指數(shù)型下降;反之愈快。(圖1)ROSC
值不變而VDD變化時(shí),F(xiàn)ROSC也會(huì)隨之變化。(圖2)一般低溫時(shí)FROSC變慢。若不特別篩選,Lot.byLot.的FROSC誤差可能達(dá)到
+/-
20%
。(圖1)(圖2)CMOS晶體振蕩器CMOS反相器線性應(yīng)用,與負(fù)反饋偏置電阻R1一起構(gòu)成反相小信號(hào)放大器。Crystal與電容C1、C2構(gòu)成π型網(wǎng)絡(luò),形成180度相移電路。這一正反饋支路,也構(gòu)成了共鳴回路。對(duì)于振蕩電路來(lái)說(shuō),必須有正反饋,且閉環(huán)增益必須大于1。電阻R1導(dǎo)致了負(fù)反饋,增大了放大器的開環(huán)增益需求。R1通常盡量的大,以將反饋減到最小,同時(shí)克服上電時(shí)的電流泄漏。當(dāng)使用1MHz~20MHz的晶體時(shí),R1應(yīng)該在1MΩ~10MΩ的范圍里。對(duì)于陶瓷共振器,R1一般用1MΩ。許多MCU集成了反相放大器,用來(lái)與外部晶體或陶瓷共振器一起構(gòu)成皮爾斯(pierce)振蕩器結(jié)構(gòu)。標(biāo)準(zhǔn)皮爾斯振蕩器結(jié)構(gòu),晶體工作頻率:1MHz~20MHzCrystal
應(yīng)用關(guān)鍵參數(shù)振蕩頻率精度:
Crystal:+/-10ppm~100ppm.(3,5ppm也有)Resonator:+/-2,000ppm~10,000ppm串連電阻Rs;串連電感Ls;串連電容Cs;并聯(lián)電容Cp:
其中Rs影響振蕩,Ls,Cs,Cp(<
7~
10pF)影響精度。
TypicalRef.(大概范圍,詳細(xì)請(qǐng)查供應(yīng)商資料)
Rs<50
kΩ@32768Hz,
Rs<1
kΩ@<
2MHz
Rs<150Ω@<
30MHz
3.Loadcapacitance:10pF~50pF
Rs晶體等效電路LsCsCpCrystal
應(yīng)用注意事項(xiàng)若32768OSC拉得太遠(yuǎn),時(shí)間每天可能快幾分鐘;若6MHzOSC
拉得太遠(yuǎn),就是會(huì)有3-5%工作不良等問(wèn)題。系統(tǒng)會(huì)不時(shí)的出現(xiàn)問(wèn)題,有時(shí)貨已出到客戶手邊才發(fā)生。
π網(wǎng)絡(luò)電容(Ci,Co)的接地一定要接到IC的GND。而不是隨便、方便地接到系統(tǒng)地,否則容易受干擾而死機(jī)(電流回路的原理)。Ci、Co不要因?yàn)镃ostdown就把它省略。否則振蕩會(huì)不穩(wěn)定,抗雜訊能力降低,系統(tǒng)不定時(shí)死機(jī)。
CiCoCrystal
應(yīng)用注意事項(xiàng)Loopgain最好設(shè)計(jì)大于
3
。一般建議Co=Ci
可以正常起振,有問(wèn)題時(shí)可以稍微調(diào)整大Ci(Ci
≤2Co范圍),可以改變一點(diǎn)點(diǎn)頻率,提高一點(diǎn)抗雜訊能力。Ci、Co一般范圍10pF~50pF,較大值起振時(shí)間較慢(x~xxms)。32768Hz振蕩可在inverter輸出串接一個(gè)1~20k的電阻,可增加其穩(wěn)定度,使時(shí)間更為精準(zhǔn)。Crystal的Rs對(duì)起振有較大的影響,注意元件供應(yīng)商的這一項(xiàng)規(guī)格,以32768Hzcrystal而言,Rs
最好小于50kΩ。要振得穩(wěn),crystal與放大器、Ci、Co的溫度系數(shù)要互補(bǔ)。Crystal
應(yīng)用舉例20pF~40pF
某IC的RealTimeClock晶振Crystal:32768Hz
Elan
eSA
的系統(tǒng)時(shí)鐘晶振Crystal:4MHz客戶應(yīng)用常見問(wèn)題1MΩ偏置電阻漏接;(有部份body為內(nèi)建)為Costdown而把
Ci
或
Co
省略;沒有注意到
crystal
的元件誤差,不起振或振不好就怪
IC
不良;PCBlayout未按規(guī)范來(lái)走線。Crystal
與
Resonator
之比較CrystalOscillator(石英晶體振蕩器):
Tuningfork:
低、中頻段(0.1Hz~1MHz),basetoneoscillator。
AT-cut:
高頻段(1.xMHz~1xxMHz),
basetoneOscillatororOvertoneOscillator。CeramicResonator(陶瓷共振器):
低、中頻段3xxkHz~7xMHz陶瓷共振器具有與石英晶體振蕩器十分相似的諧振特性,可以在一些場(chǎng)合代替石英晶體振蕩器使用。Resetcircuit基本復(fù)位電路某IC的Reset電路:ActivelowExternalpull-highElanEM61的Reset電路:ActivelowInternalpull-high上電時(shí),電源上升到MCU的工作電壓,在Oscillator穩(wěn)定之前需要等待一段時(shí)間。因此在復(fù)位引腳上要有時(shí)間延遲。最簡(jiǎn)單的延時(shí)電路就是電阻-電容(RC)網(wǎng)絡(luò),在電流經(jīng)過(guò)電阻時(shí)電容開始充電,一直到電平達(dá)到了能被MCU的復(fù)位電路檢測(cè)到的值為止?;緩?fù)位電路如下圖:復(fù)位電路的改進(jìn)圖1:Activehigh圖2:Activelow基本復(fù)位電路存在的問(wèn)題:當(dāng)IC穩(wěn)定工作后,復(fù)位電容E1已充滿電荷,其兩端電壓=VCC。當(dāng)電源掉電時(shí),因復(fù)位電容僅通過(guò)復(fù)位電阻R1放電,其電壓下降較慢,若當(dāng)RESET端電壓較高時(shí)VCC恢復(fù)而再次上電,則可能導(dǎo)致復(fù)位不良。此外,在Activehigh類型的復(fù)位電路中,當(dāng)電源突然掉電時(shí),還會(huì)在RESET端產(chǎn)生較高的負(fù)電壓(瞬時(shí)可能達(dá)到-VCC)。改進(jìn)方法是在復(fù)位電阻R1處增加一個(gè)反向并聯(lián)的二極管,當(dāng)電源掉電時(shí),可加速電容的放電過(guò)程。(這一電路起作用的前提是:假設(shè)電源電路中無(wú)大電容等儲(chǔ)能元件,當(dāng)電源掉電時(shí),VCC電壓立即下降到接近于零。)同時(shí),因二極管的箝位作用,RESET端的電壓不會(huì)低于-0.6V。(如圖1)用二極管來(lái)箝住復(fù)位引腳的電壓是一種推薦的做法,能防止供電電壓過(guò)度,并且能夠在掉電時(shí)令電容迅速放電。Audiooutput:DACDAC原理淺析電晶體基極(B)的波形電晶體集電極(C)的波形一個(gè)最簡(jiǎn)單的DAC音頻輸出電路如下:VO輸出電流經(jīng)Rb分流后,再經(jīng)電晶體放大而推動(dòng)揚(yáng)聲器發(fā)聲。電晶體的工作點(diǎn)(集電極的直流偏置電壓),由VO輸出電流、Rb的阻值及電晶體的電流放大倍數(shù)(β)等參數(shù)共同決定。將工作點(diǎn)設(shè)在1/2VDD處不易失真,但也要視具體情況而定。工作點(diǎn)設(shè)在1/2VDD~VDD之間,有利于減小揚(yáng)聲器發(fā)聲時(shí)的電流消耗。Figure1Figure2Figure3常用的DAC輸出電路用于低阻抗揚(yáng)聲器的簡(jiǎn)單電路,成本低,缺點(diǎn)是工作電流大。特性與Figure1的相似,用于高阻抗揚(yáng)聲器。電路包含一個(gè)低通濾波器,可提供更好的音質(zhì),但也會(huì)消耗更大的工作電流。Figure4Figure5Figure6常用的DAC輸出電路Figure3電路的改進(jìn)版,在sleep模式下的電流可以由Enablepin加以控制。鏡像電流源模式,可控制音量,它比Figure1-3的電路更穩(wěn)定,且工作電流更低。采用了一個(gè)音頻放大集成電路,音質(zhì)好,工作電流低,但成本更高。工作點(diǎn)的調(diào)整有些IC的調(diào)節(jié)音量方式為:在工作中由程式對(duì)VO輸出電流level做調(diào)整,于是工作點(diǎn)亦會(huì)跑掉,即A點(diǎn)直流偏置電壓可能會(huì)變得過(guò)高或過(guò)低,輸出聲音就可能失真。一種解決方案如圖,電晶體的基極增加一個(gè)電容CB來(lái)隔離VO的直流分量。另由I/O端口(Enable)經(jīng)R2、R3提供恒定的直流分量。當(dāng)調(diào)節(jié)音量時(shí),輸出不會(huì)失真。不需要播音時(shí)可通過(guò)控制Enable來(lái)關(guān)斷直流偏置,以減小耗電。注:電容C1的作用是,當(dāng)Enable電平改變時(shí),使直流偏置電壓緩變,以減小speaker上的“啵”音。VOVOEnableAudiooutput:PWM常用的PWM模式模式1:Push-pullmode10-bit精度應(yīng)用電路VDD優(yōu)點(diǎn):電路簡(jiǎn)單,元件成本低。常用的PWM模式應(yīng)用電路模式2:Single-pindouble-endmode10-bit精度優(yōu)點(diǎn):外部電路調(diào)節(jié)音量方便。常用的PWM模式應(yīng)用電路模式3:Single-pinsingle-endmode9-bit精度(此模式下AUDN沒有信號(hào)輸出)ElanPWM簡(jiǎn)介輸出數(shù)值正脈沖寬度備注1a2a+Δ3a+2Δ4a+3Δ…127a+126Δ=T–b正數(shù)(+1~+127)從PWM之VO1A輸出,此時(shí)VO1B的輸出在一個(gè)周期T內(nèi)恒為L(zhǎng)OW,T為PWM輸出的采樣周期。對(duì)于理想的PWM輸出,應(yīng)有a=b=Δ,以及T=128Δ。實(shí)際PWM輸出的a、b、Δ往往并不相等,但仍然有:T=a+b+126Δ。與上面類似,負(fù)數(shù)(-1~-127)從PWM之VO1B輸出,而VO1A的輸出在一個(gè)周期T內(nèi)恒為L(zhǎng)OW。當(dāng)輸出"零"(00H或80H)時(shí),VO1A與VO1B均為L(zhǎng)OW。PS:StandardΔ=1clock=250ns@fosc=4MHz(8-bitPWM,Push-pullmode)SomethingaboutESD什么是
ESD?
ESD:
Electro-StaticDischarge∕靜電放電是兩個(gè)電位不同的物體之間通過(guò)直接接觸或者電場(chǎng)感應(yīng)而引起的電荷轉(zhuǎn)移。
靜電的形成︰
*物體互相摩擦(人走在地毯上可累積的靜電電壓有可能高達(dá)35kV@RH10%,但在RH65%~90%則降至1.5kV)。
*當(dāng)元件通過(guò)強(qiáng)電場(chǎng)后,可能形成靜電的累積。ESD對(duì)電子系統(tǒng)的影響
ESD對(duì)電子元器件的影響:ESD未必總造成元器件的完全失效,它會(huì)造成一般測(cè)試無(wú)法檢測(cè)到的元器件潛在缺陷,這種“脆弱”的元器件在系統(tǒng)工作期間,如遇到惡劣的環(huán)境條件,就可能在現(xiàn)場(chǎng)發(fā)生失效。
ESD怎樣干擾系統(tǒng)?1.當(dāng)有靜電放電的發(fā)生,此放電電流產(chǎn)生了一個(gè)高頻輻射雜訊,此雜訊可以透過(guò)電路板的銅箔走線或系統(tǒng)中的任何導(dǎo)線耦合到系統(tǒng),造成系統(tǒng)不穩(wěn)定或是喪失功能。
2.有些靜電放電是直接以系統(tǒng)為放電的標(biāo)的,此放電電流可能干擾系統(tǒng),也有可能造成元件永久性破壞。評(píng)估DeviceESD的模型
HumanBodyMode
(HBM):
是模擬人體累積靜電后放電到IC元件的結(jié)果。
MachineMode(MM):
是模擬機(jī)器在生產(chǎn)作業(yè)中,接觸到IC元件所可能產(chǎn)生的放電行為。ChargeDeviceModel(CDM):
是模擬IC元件本身可能充滿靜電后,再接觸到可放電的物體所產(chǎn)生的放電行為。
元件ESDlevel
要多少?
WhatESDprotectionleveldoIneed?
HBM
MM
CDM“Okay”
2kV 200V 1kV“Safe”
4kV 400V 1.5kV“Super”
10kV 1kV 2kV系統(tǒng)ESD與DeviceESD的不同?
SystemESD與DeviceESD兩者評(píng)估的標(biāo)的與精神是不同的:
DeviceESD,是評(píng)估IC在做成成品之前的生產(chǎn)過(guò)程所能承受ESD而不被破壞的能力。
SystemESD,是評(píng)估IC在做成成品之后,其電子功能所能承受ESD干擾而能正常運(yùn)作的能力。SystemESDDeviceESD測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)EN61000-4-2MIL–883HBM測(cè)試對(duì)象系統(tǒng)晶圓或IC是否供電測(cè)試時(shí),系統(tǒng)是在供電的操作狀態(tài)測(cè)試時(shí),IC是在不供電狀態(tài)側(cè)重點(diǎn)Systemwork?著重于ESD所產(chǎn)生的噪聲,對(duì)系統(tǒng)所造成的影響。ICdamaged?著重于ESD直接放電到IC接腳,對(duì)IC可能所造成的破壞。能量測(cè)試的ESD能量較大。儲(chǔ)能電容=150pF;放電限流電阻=330Ω;Peakcurrent=7.5A@2kV測(cè)試的ESD能量較小。儲(chǔ)能電容=100pF;放電限流電阻=1500Ω;Peakcurrent=1.3A@2kVSystemESDVS.DeviceESD放電電流曲線與峰值不同SystemESD/I-Peak=7.5A@2kVDeviceESD(HBM)/I-Peak=1.33A@2kVESD測(cè)試嚴(yán)酷等級(jí)嚴(yán)酷
等級(jí)接觸放電(Contactdischarge)空氣放電(Airdischarge)1+/-2kV+/-2kV2+/-4kV+/-4kV3+/-6kV+/-8kV4+/-8kV+/-16kVX特定值特定值
ESD測(cè)試的嚴(yán)酷等級(jí)可分為五級(jí),一般而言,客戶可以接受的等級(jí)是以供貨商與客戶之間的商業(yè)協(xié)議而定,但是IEC對(duì)于各種不同種類的產(chǎn)品也制定了參考的等級(jí)。例如一般資訊、家電產(chǎn)品要求為Cont.+/-4kV,Air+/-8kV。嚴(yán)酷等級(jí)如下表:ESD測(cè)試的方法
接觸放電(ContactDischarge):此測(cè)試是針對(duì)產(chǎn)品外表的金屬部分進(jìn)行放電試驗(yàn),其主要目的是模擬“人”在接觸到產(chǎn)品的金屬部分時(shí)可能產(chǎn)生靜電放電,以此檢驗(yàn)放電發(fā)生時(shí)對(duì)系統(tǒng)所造成的影響。
一般而言玩具產(chǎn)品會(huì)裸露的金屬部分,主要是螺絲或一些機(jī)構(gòu),所以它們實(shí)際上大部份都不會(huì)與電子電路相通,由于其凈電荷容量都不多,所產(chǎn)生的放電量少,因此所產(chǎn)生出來(lái)的干擾噪聲號(hào)較小,一般都不會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)出問(wèn)題。
但是有時(shí)候產(chǎn)品若產(chǎn)品設(shè)計(jì)有較大的金屬體,而且該金屬體又靠近IC的話,也會(huì)有機(jī)會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)出問(wèn)題。
有時(shí)候是機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的不恰當(dāng),讓ESD經(jīng)由此金屬部分產(chǎn)生跳火現(xiàn)象,使ESDPulse跳到系統(tǒng)板子上而造成問(wèn)題。
空氣放電(AirDischarge):此測(cè)試主要是仿真人體操作產(chǎn)品時(shí),對(duì)一些按鍵或縫隙,在ESD夠強(qiáng)的情況下有可能產(chǎn)生隔空放電的現(xiàn)象,評(píng)估此類放電對(duì)產(chǎn)品所造成的影響。
目前一些實(shí)驗(yàn)室的測(cè)試方法是,針對(duì)產(chǎn)品任何可能被接觸到的表面,都會(huì)進(jìn)行空氣放電測(cè)試。ESD測(cè)試結(jié)果評(píng)估Level1:在規(guī)格范圍內(nèi),功能正常Level2:暫時(shí)性功能劣化或喪失,但可以自行恢復(fù)Level3:
暫時(shí)性功能劣化或喪失,可由操作人員重置恢復(fù)Level4:劣化或喪失功能,無(wú)法恢復(fù)(重新上電可恢復(fù))(造成永久性損傷)HBMESDdamage
舉例***
半成品出貨到歐洲,客戶每驗(yàn)一次貨就發(fā)現(xiàn)20%左右不良
***有問(wèn)題的出貨都出現(xiàn)在冬季,其他時(shí)間出的貨不會(huì)有這么多不良。不良現(xiàn)象都是key1按鍵功能錯(cuò)誤,經(jīng)分析為該P(yáng)in遭到ESD破壞。***
解法︰告訴客戶破壞的主因及串電阻保護(hù)。***CDMESDdamage
舉例*經(jīng)分析,當(dāng)COB生產(chǎn)完,裝整筒時(shí),COB之間互相摩擦而累積靜電。*/EN
為低位動(dòng)作,所以生產(chǎn)測(cè)試治具是直接接到VSS,當(dāng)測(cè)試針抵到此
Pin,累積在COB上的正電荷就由基底再破壞PMOSGateoxide,往pad放電。Gateoxide被ESD擊穿***生產(chǎn)過(guò)后約有5%不良,而且都?jí)脑?ENpin******
解法︰把VDD測(cè)針加長(zhǎng),讓ESD透過(guò)VDD先放掉。***VDDESDdamage
后的元件特性正常的I/OPort的輸入特性曲線(VDD=3V)。當(dāng)輸入電壓到-0.6V時(shí),負(fù)向的保護(hù)二極管導(dǎo)通,超過(guò)3.6V時(shí),正向的保護(hù)二極管導(dǎo)通,其他時(shí)候輸入電流都很小,約數(shù)十nA。
某樣品被ESD破壞的I/O為CD2,其I/V曲線如圖??赡苁禽斎刖彌_級(jí)的閘極氧化層遭到破壞,而產(chǎn)生漏電,而使I/O功能失常。Ileakage=10mA@2.0V.ESD防護(hù)電路之設(shè)計(jì)概念
靜電放電防護(hù)電路之設(shè)計(jì)概念:許多IC內(nèi)部專門設(shè)計(jì)了靜電放電防護(hù)電路(ESDprotectioncircuits),此電路提供了ESD電流路徑,以免ESD放電時(shí),靜電電流流入IC內(nèi)部電路而造成損傷。人體放電模式(HBM)與機(jī)器放電模式(MM)之ESD都來(lái)自外界,所以ESD防護(hù)電路都是做在PAD的旁邊。在輸出PAD,其輸出級(jí)大尺寸的PMOS及NMOS組件本身便可當(dāng)做ESD防護(hù)組件來(lái)用,但是其布局方式必須遵守DesignRules中有關(guān)ESD布局方面的規(guī)定。在輸入PAD,因CMOS集成電路的輸入PAD一般都是連接到MOS組件的閘極(gate),閘極氧化層是容易被ESD所打穿,因此在輸入PAD的旁邊會(huì)做一組ESD防護(hù)電路來(lái)保護(hù)輸入級(jí)的組件。在VDDPAD與VSSPAD的旁邊也要做ESD防護(hù)電路,因?yàn)閂DD與VSS腳之間也可能遭受ESD的放電。ESD防護(hù)電路之設(shè)計(jì)考量
靜電放電防護(hù)電路之設(shè)計(jì)考量:1.ToprovideESDprotectionwithefficientdischargingpathstobypassanyESDstress.2.ToprotectthemselvesagainstESDdamageswithsomedegreeofrobustnessduringESDstress.3.TopassnormalI/OsignalsandremaininactivewhentheICisinthenormaloperatingcondition.4.TocauseacceptableI/Osignaldelays(assmallaspossible)becausetheESDprotectioncircuitsareaddedaroundtheI/Opads.5.ToofferhighESDprotectioncapabilitywithinsmalllayoutarea.6.Tomaintainhighlatch-upimmunityofCMOSIC's.7.TofabricatetheESDprotectioncircuitswithoutaddingextrastepsormasksintotheCMOSprocess.ESD防護(hù)電路的布置一個(gè)全芯片ESD防護(hù)電路的布置如圖所示。InputPAD與OutputPAD要具有防護(hù)各種模式的靜電放電,VDD到VSS也要有ESD防護(hù)電路。RC-InverterNMOS人體放電模型(HBM)其放電波形之上升時(shí)間約為10ns,而IC在Poweron時(shí)其VDD電源之電壓波形上升時(shí)間約為ms量級(jí)。為了符合以上兩種需求,RC之時(shí)間常數(shù)設(shè)計(jì)在次微秒至微秒之間。當(dāng)一個(gè)靜電波形出現(xiàn)在VDD電源上時(shí),由于RC網(wǎng)絡(luò)會(huì)產(chǎn)生延遲(delay)效應(yīng),圖中節(jié)點(diǎn)Vx之電壓上升的速度會(huì)較VDD來(lái)得慢,而在兩者之間產(chǎn)生一電位差。在此同時(shí)相同的電位差亦出現(xiàn)在PMOSMP之閘-源極兩端。當(dāng)此電位差(同時(shí)也是MPPMOS之Vgs)大于其開啟電壓(Vt)時(shí),MP即導(dǎo)通而將節(jié)點(diǎn)A之電位往上拉至接近VDD之電位。因A點(diǎn)即是NMOSMn1之閘極,如此一來(lái)NMOS就會(huì)導(dǎo)通而以通道傳導(dǎo)以疏散靜電電流。ESD電源箝制電路(RC-InverterNMOS)是由一電阻電容網(wǎng)絡(luò)(RCnetwork)、一組反向器(inverter)以及一箝制NMOS所組成;RC網(wǎng)絡(luò)連接到反向器之輸入端,其輸出端再連結(jié)到ESD箝制NMOS之閘極,如圖所示。電源箝制電路平時(shí)IC運(yùn)作時(shí)是不導(dǎo)通的,只有在ESD發(fā)生的瞬時(shí)才導(dǎo)通。理論上如果Mn1之尺寸夠大的話,光是靠通道傳導(dǎo)就可以疏散掉所有的靜電電流而不會(huì)使晶體管操作在崩潰(breakdown)及回轉(zhuǎn)(snapback)區(qū)。RCGate-coupledPMOS閘極耦合技術(shù)(RCGate-coupledPMOS)的應(yīng)用,如圖所示。此技術(shù)亦是利用RC網(wǎng)絡(luò)來(lái)產(chǎn)生ESD箝制MOS之閘-源極電位差。EOSphenomenonJunctionSpikingFailure(PN結(jié)擊穿)什么是
EOS?EOS:ElectricalOverstress/電過(guò)載是由于瞬態(tài)脈沖導(dǎo)致IC的局部電路過(guò)熱而產(chǎn)生的一種破壞,其破壞程度取決于瞬態(tài)脈沖的大小和持續(xù)時(shí)間。1.瞬態(tài)脈沖<100μs可導(dǎo)致:PN結(jié)擊穿等相對(duì)輕微的損傷;2.瞬態(tài)脈沖>100μs可導(dǎo)致:金屬熔化、邦線開路等較嚴(yán)重的損傷。瞬態(tài)脈沖的長(zhǎng)短不同,EOS作用的后果也不同,一般以100μs來(lái)劃分:MeltedMetallizationFailure(金屬熔化)OpenBondWireFailure(邦線開路)EOS產(chǎn)生的原因
1.帶電連接
/
移除電路的部件;
2.電路板、單元之間未連接好就上電;3.AC線上噪聲過(guò)大而未加濾波器;
4.未加電源的情況下就輸入信號(hào);
5.過(guò)高的電壓,超過(guò)芯片規(guī)格的限制;
6.使用了劣質(zhì)的電源;
7.虛焊、電路接觸不良;
8.測(cè)試設(shè)備沒有接地。**
在操作中應(yīng)盡量避免上述情形,以減少EOS發(fā)生的幾率。**Latch-up由于CMOSIC的特殊結(jié)構(gòu),其內(nèi)部存在著一種4層PNPN雙載子(Bipolar)結(jié)構(gòu),與閘流體(SCR)相似。在正常偏壓的情況下,這些寄生的PNPN路徑不會(huì)導(dǎo)通,但是在某些情況下,它會(huì)被觸發(fā)而進(jìn)入所謂Latch-up狀態(tài),使得此PNPN形成低阻抗通路,而造成VDD-VSS間的大電流。這一現(xiàn)象也稱為"閂鎖效應(yīng)"。當(dāng)IC進(jìn)入Latch-up狀態(tài)后,IC無(wú)法正常動(dòng)作,甚至由于大電流而造成IC燒毀。解除Latch-up狀態(tài)的唯一方法,只有移去PNPN兩端的電源。Latch-up與ESD、EOS之間的關(guān)系:ESD及電壓瞬變都可能引起Latch-up,而Latch-up又可能會(huì)引發(fā)EOS和器件損壞。Latch-up
現(xiàn)象CMOS寄生閘流體的結(jié)構(gòu)
一個(gè)Chip內(nèi)有無(wú)數(shù)個(gè)并聯(lián)的寄生PNPN閘流體結(jié)構(gòu)。若其中有一個(gè)被觸發(fā)導(dǎo)通時(shí),整個(gè)電源將短路。Latch-up
圖解CMOS芯片中的寄生電晶體等效的雙載子PNPN線路Latch-up
圖解Latch-up觸發(fā)的要素:寄生電晶體V-TR和L-TR必須偏壓在主動(dòng)區(qū).βPNP·βNPN>1(正回授放大).PNPN兩端之電源必須能提供基本的Latch-up維持電流IH.
Latch-up觸發(fā)的機(jī)制:
Itn
URw
V-TRon
URs
L-TRon
moreURw
PNPNjunctionturnon.Latch-up
實(shí)例從系統(tǒng)的角度看Latch-up可能觸發(fā)ICLatch-up的因素︰1.IC的I/O端口有超過(guò)額定的高電壓
(高于VDD+0.6V或者低于VSS-0.6V),而導(dǎo)致基底電流。
2.外加電源不穩(wěn),電源的瞬間波動(dòng),由C·
ΔVDD/Δt
產(chǎn)生的暫態(tài)電流。
3.外加電源(VDD-VSS)過(guò)大。
4.大電流輸出腳,接到外部的電感性負(fù)載,產(chǎn)生瞬間的電動(dòng)勢(shì),導(dǎo)致基底電流。
5.射線(X射線、γ射線等)照射IC。系統(tǒng)對(duì)策防Latch-up保持系統(tǒng)電源穩(wěn)定,大的Bulk電容,小的decoupling,Noiseby-pass電容不可省。大電流輸出I/O,注意Layout及Loading。
必要時(shí)Powerline加串小電阻,I/O并聯(lián)
Noiseby-pass電容。
Reset電路、微分電路等易產(chǎn)生超過(guò)額定電壓的地方可增加反向的箝位二極管,限制過(guò)高或過(guò)低的電壓。改善電源,避免電源的阻抗過(guò)高(包括電源內(nèi)阻和引出線電阻)。避免Latch-up三原則:1.Vin≤VDD,Vout≥VSS2.輸入、輸出電流<最高額定值3.VDD<最高額定值IC設(shè)計(jì)中防Latch-up的考量在IC設(shè)計(jì)中,可使用CMOS布局技術(shù)來(lái)防止Latch-up,這一技術(shù)可監(jiān)控ESD等瞬變電壓進(jìn)入器件的各部位(器件的電源引腳、輸入引腳
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