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文檔簡介
失效分析工具失效分析工具---SEM掃描電子顯微鏡ScanningElectronMicroscopeSEM與光學(xué)顯微鏡OM和TEM的成象方式不同,,它不用透鏡放大、成象,而是以類似電視攝影顯象的方式,用細(xì)聚焦電子束在樣品表面掃描時激發(fā)產(chǎn)生的某些物理信號來調(diào)制成象。SEM的特點:彌補(bǔ)了OM(分辨率和放大倍數(shù)低,景深小)和TEM(制樣困難)的不足之處,SEM即可以直接觀察大塊的樣品,10倍到18萬的放大倍數(shù)連續(xù)可調(diào);具有景深大、分辨率高等特點,尤其適合粗糙表面的觀察研究;SEM多附加EPMA功能,在進(jìn)行顯微結(jié)構(gòu)觀察的同時研究微區(qū)化學(xué)組成.不足之處是要求樣品導(dǎo)電,對絕緣材料需要預(yù)先鍍Au或C導(dǎo)電層。失效分析工具---SEMSEM結(jié)構(gòu):
由電子光學(xué)系統(tǒng)(鏡筒)、掃描系統(tǒng)、信號接收處理、顯示記錄系統(tǒng)、電源系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成SEM工作原理:聚焦的e束在樣品表面掃描,激發(fā)樣品產(chǎn)生二次e,背散射e等信息;這些信息的波長(能量)和強(qiáng)度取決于受激區(qū)域的形貌和成分等;該信息經(jīng)處理放大饋送到顯象管柵極調(diào)制顯象管的亮度表面任一點收集的信息強(qiáng)弱與顯像管上相應(yīng)的亮度之間是一一對應(yīng)的,CRT上能獲得反映樣品表面各種特征的掃描圖象。顯象管中e束和鏡筒e束是同步掃描;顯像管亮度是由試樣激發(fā)出來的信息所調(diào)制;失效分析工具---FIBFocusedIonBeam(聚焦離子束系統(tǒng))是用聚焦離子束代替掃描電鏡(SEM)及透射電鏡(TEM)中所用的電子作為儀器光源的顯微分析加工系統(tǒng)聚焦離子束系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖1.液態(tài)金屬離子源主要有Ga、si、Be、Pd、As、sb、In等多種離子源,其尺寸可小至50nm一100nm,亮度高達(dá)106A/(cm2·sr),發(fā)射穩(wěn)定,可滿足微納米尺度聚焦離子束加工的要求失效分析工具---FIB-SEMFIB-SEM聚焦離子束一電子束雙束系統(tǒng)充分發(fā)揮了聚焦離子束和電子束的長處,成為目前聚焦離子束系統(tǒng)發(fā)展的一個重要趨勢在FIB.SEM雙束系統(tǒng)中,聚焦離子束和掃描電子束優(yōu)勢互補(bǔ)。離子束成像襯度大,但對樣品損傷較大且分辨率較低,掃描電子顯微像高分辨率、對樣品損傷小,但襯度相對較低,兩者組合可獲得材料更準(zhǔn)確的信息.失效分析工具---EDS能譜儀EnergyDispersiveSpectrometer(EDS)EDS利用半導(dǎo)體檢測器對特征X射線的能量進(jìn)行鑒別。由檢測系統(tǒng)、信號放大系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)和顯示系統(tǒng)組成,失效分析工具---EMMIEMMI(EmissionMicroscope)即微光顯微鏡對於故障分析而言,微光顯微鏡(EmissionMicroscope,EMMI)是一種相當(dāng)有用且效率極高的分析工具。主要偵測IC內(nèi)部所放出光子。在IC元件中,EHP(ElectronHolePairs)Recombination會放出光子(Photon)。舉例說明:在pnJunction加偏壓,此時n的電子很容易擴(kuò)散到p,而p的電洞也容易擴(kuò)散至n然後與p端的電洞(或n端的電子)做EHPRecombination。
偵測得到亮點之情況:
會產(chǎn)生亮點的缺陷-漏電結(jié)(JunctionLeakage);接觸毛刺(Contactspiking);(熱電子效應(yīng))Hotelectrons;閂鎖效應(yīng)(Latch-Up);氧化層漏電(Gateoxidedefects/Leakage(F-Ncurrent));多晶硅晶須(
Poly-siliconfilaments);襯底損傷(Substratedamage);(物理損傷)Mechanicaldamage等。原來就會有的亮點-Saturated/Activebipolartransistors;-SaturatedMOS/DynamicCMOS;Forwardbiaseddiodes/Reverse;biaseddiodes(breakdown)等。
偵測不到亮點之情況:
不會出現(xiàn)亮點的故障-歐姆接觸;金屬互聯(lián)短路;表面反型層;硅導(dǎo)電通路等。亮點被
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