參賽作品要求

參賽作品要求1．參賽者應對參賽作品擁有著作權(quán)，參賽者必須保證其所選送的參賽作品不侵犯第三人的合法權(quán)益。如有違反上述規(guī)定的，取消其參賽資格，并由違反本規(guī)定的參賽人承擔相應的法律責任。本大賽不收參賽費，參賽者需同意獲獎作品使用權(quán)歸主辦方所有，（包括用于復制、展覽、出版物、媒體網(wǎng)絡宣傳等），不再另付費用。著作權(quán)、署名權(quán)由作者保留，主辦方必要時可引用作者姓名和其它必要信息，并有權(quán)對獲獎作品進行必要的修改和剪輯。所有獲獎作品若涉及著作權(quán)、版權(quán)等糾紛，均由參賽作者本人負責。凡參賽者將視同承認本次大賽征稿章程中的規(guī)定，主辦單位對本次大賽擁有最終解釋權(quán)。參賽作品應保存為常見格式（JPG、TIF、BMP），大小不超過30M。3．參賽作品原圖應拍攝于以下幾種常規(guī)設(shè)備：（1）光學顯微鏡（包括熒光顯微鏡、激光共聚焦顯微鏡等）（2）電子顯微鏡、聚焦離子束（以及能譜、EBSD、CL等附件）（3）原子力顯微鏡、掃描隧道顯微鏡藝術(shù)創(chuàng)新組圖片修改的過程在保持原圖基本樣貌的基礎(chǔ)上，允許進行諸如調(diào)色，銳化等基本的操作，增加作品藝術(shù)性，但不允許進行合成、畫面布局調(diào)整等破壞原圖基本樣貌的操作。若最終圖與原圖之間存在不限于以上所列出的不允許的修改，主辦方有權(quán)取消其比賽資格。例子1作品是在HitachiSU-70分析型熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡下拍得花狀氟化鈣晶體與聚氨酯靜電紡絲納米纖維復合結(jié)構(gòu)的形貌圖片，電3.0kV，放大倍數(shù)35.0k。圖中花狀結(jié)構(gòu)是稀土摻雜的氟化鈣晶體，來源于由介孔二氧化硅為模板采用濕化學方法生長得到的氟化鈣晶體，樹枝狀物為靜電紡絲得到的熱塑性聚氨酯纖維。本幅作品將原SEM圖經(jīng)過Photoshop噴濺及紋理化濾鏡處理使其呈現(xiàn)出不同的濃淡層次，仿佛用毛筆渲染出的水墨畫。本作品在被賦予水墨風格的同時即呈現(xiàn)出清新淡雅的意境，放棄傳統(tǒng)的著色處理仿佛一位洗盡鉛華的女子，不施粉黛，表現(xiàn)一種清新脫俗、淡雅如菊的氣質(zhì)。套用元代詩人王冕《墨梅》中的一句“朵朵花開淡墨痕”，是本幅圖水墨之花的真實寫照，同時也是借此表現(xiàn)水墨花高潔端莊、幽獨超逸的內(nèi)在氣質(zhì)。4、技術(shù)創(chuàng)新組圖片作品主要考察圖像清晰程度（要求輪廓清楚、細節(jié)信息豐富）、拍照難易度（制樣難易度、是否易荷電、是否易污染、是否易損傷）以及給出的科學信息。例子2由于Ce發(fā)光的5d-4f躍遷受其所處的晶體場影響很大，有必要確立Ce在-SiAlON基體中的結(jié)構(gòu)占位。本作品給出的是原子分辨HAADF像，從中可以清晰地看到了Ce離子（圖中分散的亮點）占據(jù)在晶體結(jié)構(gòu)中的填隙位，通過在原子像上的精確測量，得到了Ce離子的結(jié)構(gòu)坐標。同時從圖中還可以發(fā)現(xiàn)了Ce離子在層錯處的富集（圖中成串的亮點），通過建立結(jié)