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硅無(wú)機(jī)非金屬材料一、單質(zhì)硅與半導(dǎo)體材料1.硅元素在自然界中全部以
態(tài)存在,硅元素在地殼中的含量居第
位,僅次于
。2.最早使用的半導(dǎo)體材料
,現(xiàn)在最廣泛使用的半導(dǎo)體材料
。化合鍺硅二氧3.硅的物理性質(zhì)a.單質(zhì)硅有
和
兩種,
它們都是硅元素的
。b.晶體硅是
色、有
光澤、
硬而脆的固體,單質(zhì)硅的導(dǎo)電性介于
.
和
之間,故用來(lái)作
材料。晶體硅無(wú)定形硅灰黑金屬導(dǎo)體
絕緣體半導(dǎo)體同素異形體4.硅的化學(xué)性質(zhì)分別畫(huà)出Si和C的原子結(jié)構(gòu)示意圖。+624C+14284Si(1)常溫下,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定
例如:常溫下,不易與H2、O2、Cl2、硫酸、硝酸、鹽酸等物質(zhì)反應(yīng)(2)只與堿、氫氟酸、氟氣反應(yīng),Si+2NaOH+H2O====Na2SiO3+2H2↑Si+2F2====SiF4Si+4HF====SiF4↑+2H2↑
(3)加熱,Si能與某些非金屬單質(zhì)反應(yīng)(燃燒,放出大量的熱)Si+O2=====SiO2△①②Si+2Cl2======SiCl4高溫5、硅的用途②制集成電路、晶體管、硅整流器等半導(dǎo)體材料③含硅4%的鋼可制變壓器鐵芯④含硅15%的鋼具有耐酸性,制耐酸設(shè)備①硅芯片;半導(dǎo)體材料6.硅的制備SiO2+2C========Si+2CO↑高溫①指出上反應(yīng)中的氧化劑和還原劑。②上述反應(yīng)屬于哪種基本反應(yīng)類(lèi)型?粗硅提純:
將粗硅與Cl2在高溫下反應(yīng),然后把產(chǎn)物蒸餾出后用氫氣在高溫下還原,可得到高純硅。
請(qǐng)根據(jù)所學(xué)知識(shí)和提示,寫(xiě)出粗硅提純的相關(guān)方程式。Si+2Cl2======SiCl4高溫SiCl4+2H2======Si+4HCl高溫SiO2與光導(dǎo)纖維二、二氧化硅與光導(dǎo)纖維1.存在:沙子、石英(透明的石英即水晶)2.二氧化硅的物理性質(zhì)晶體硬度
,熔點(diǎn)
,
溶于水大高難3.二氧化硅的化學(xué)性質(zhì)(1)酸性氧化物的通性不活潑①與強(qiáng)堿反應(yīng)SiO2+2NaOH===Na2SiO3+H2O你學(xué)過(guò)哪些酸性氧化物?能發(fā)生哪些反應(yīng)?結(jié)論:盛放堿液的試劑瓶不能用玻璃塞,可用橡膠塞。③與某些鹽反應(yīng)CaCO3+SiO2====CaSiO3+CO2↑高溫Na2CO3+SiO2====Na2SiO3+CO2↑高溫②與堿性氧化物反應(yīng)SiO2+CaO=====CaSiO3高溫二氧化硅的注意點(diǎn):不與水反應(yīng)
SiO2+H2O≠H2SiO3①②與氫氟酸反應(yīng)SiO2+4HF====SiF4↑+2H2O用途:刻蝕玻璃花紋結(jié)論:氫氟酸不能用玻璃瓶盛裝,而盛在塑料瓶。4.二氧化硅的用途①制造光導(dǎo)纖維和石英表中的壓電材料②水晶:制造電子部件和光學(xué)儀器注意:硅和二氧化硅的用途易混淆③.光導(dǎo)纖維三、硅酸鹽與無(wú)機(jī)非金屬材料高溫高溫強(qiáng)熱冷卻傳統(tǒng)無(wú)機(jī)非金屬材料與新型無(wú)機(jī)非金屬材料的特性對(duì)比
新型無(wú)機(jī)非金屬材料的主要品種、性能及用途本節(jié)內(nèi)容小結(jié):1.硅①硅的存在②硅的化學(xué)性質(zhì)③硅的用途2.SiO2①二氧化硅的化學(xué)性質(zhì)②二氧化硅的用途隨堂訓(xùn)練1.下列說(shuō)法正確的是:A.晶體硅和無(wú)定形硅是兩種不同的物質(zhì)B.二氧化硅可用做半導(dǎo)體材料C.硅可與氧氣反應(yīng),單質(zhì)硅不能在空氣中穩(wěn)定存在D.在SiO2+2C========Si+2CO↑高溫反應(yīng)中,氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量比為
2:12.下列溶液可以盛放在玻璃瓶中,但不能用磨口玻璃塞的是:A.氫氟酸B.濃硝酸C.NaOH溶液D.氯水3.關(guān)于碳和硅的敘述中,不正確的是:A.其最高價(jià)氧化物都能與NaOH溶液反應(yīng)B.單質(zhì)在加熱時(shí)都能與氧氣反應(yīng)C.氧化物
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