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2020年全國(guó)特種設(shè)備無(wú)損檢測(cè)考試題庫(kù)500題[含答
案]
一、選擇題
1.22可水洗型滲透探傷,施加干粉顯象劑應(yīng)在()
A.施加滲透劑之后B.去除滲透劑之后
C.去除滲透劑,適當(dāng)干燥之后D.去除滲透劑,徹底干燥之后
2.表面活性劑有哪些性質(zhì)和作用。()
A.潤(rùn)濕B.乳化C.加溶D.以上均是
3.在下列裂紋中,哪種毛細(xì)管作用最強(qiáng)()
A.寬而長(zhǎng)的裂紋B.長(zhǎng)而填滿污物的裂紋
C.細(xì)而清潔的裂紋D.寬而淺的裂紡
4.潤(rùn)濕能力是哪種參數(shù)度量的?()
A.比重B.密度C.接觸面D.表面張力
5.為使水具有比較好的滲透性能則必須()
A.加入潤(rùn)濕劑以提高潤(rùn)濕能力B.加入潤(rùn)濕劑以減少潤(rùn)濕能力
C.加入潤(rùn)濕劑以增大表面張力D.水是好的滲透劑,不必添加別的成分
6.熒光滲透液中最常見(jiàn)的污染是()
A金屬屑B油C洗滌劑D水
7.過(guò)濾性微粒滲透液比較適宜檢查的材料是()
A鋁、銀及其合金B(yǎng)塑料、橡膠
C粉末冶金材料、石墨、陶土制品D以上都是
8.33以下關(guān)于過(guò)濾性微粒滲透液探傷的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的()
A.施加滲透劑不能刷涂,只能噴涂或浸涂
B.染料的顏色應(yīng)與零件表面顏色形成最大反差
C.滲透液的溶劑應(yīng)根據(jù)被檢零件材料性質(zhì)來(lái)選擇
D.此種探傷液不需要顯象劑
9.9用粗水珠噴射法清洗施加過(guò)可水洗型滲透液的表面.為什么能去除多余的滲透液而不把
缺陷中的滲透液去除掉?()
A.由于滲透液已被顯像劑吸出,故不會(huì)從缺陷中被消洗掉
B.由于可水洗滲透液溶于水,噴洗時(shí)只要把滲透液推出表面即可。這就是采用噴洗法的原
因。
C.由于水滴很大,不會(huì)進(jìn)入人多數(shù)缺陷中
D.不得使用水噴槍消洗,只能使用蘸水的布擦洗
10.10自乳化水洗型滲透液中乳化劑的作用是0
A.增強(qiáng)滲透液的滲透能力B.提高滲透速度
C.減少滲透時(shí)間D.有助于用水清洗多余滲透液
11.6滲透探傷中要求顯像劑()
A白度要高B.顆粒度小
C.噴灑均勻D.以上都是
12.下述無(wú)損檢測(cè)中,能夠檢測(cè)鍛件折疊缺陷的方法是
AUT直探頭直接接觸法BUT斜直探頭直接接觸法
CMT線圈磁化法DMT磁軌磁化法
13.顯像劑通過(guò)哪種方式促進(jìn)不連續(xù)性中的滲透液顯像?()
A.后清洗B.乳化過(guò)程C.滲出過(guò)程D干燥過(guò)程
14.8檢測(cè)螺栓橫向裂紋較合適的方法是()
A磁輒法、連續(xù)法、黑磁粉
B通電法、剩磁法、黑磁粉
C線圈法、連續(xù)法、高濃度熒光磁懸液
D線圈法、連續(xù)法、低濃度熒光磁懸液
15.27新配制的濕式顯像劑0
A.應(yīng)用比重計(jì)校驗(yàn)B.應(yīng)攪拌30-40分鐘
C每加侖顯像劑應(yīng)加入28.35-42.52g的氮,并使混合液穩(wěn)定
D應(yīng)放置4-5小時(shí)再使用
16.30對(duì)非常光滑的表面進(jìn)行熒光滲透探傷時(shí),使用哪種顯象劑最好()
A松軟的干式顯象劑B.規(guī)則的干式顯象劑
C濕式顯象劑D.以上都不好
17.14滲透探傷前的零件清洗是()
A.不需要的
B.很重要的。因?yàn)槿绻慵桓蓛艟筒荒苷_地施加顯像劑
C.必須的。因?yàn)楸砻嫖廴究赡茏柚節(jié)B透液滲入不連續(xù)性中
D為了防止產(chǎn)生不相關(guān)顯示
18.20滲透液中的氯和空氣中的水(或預(yù)清洗遺留的水分)反應(yīng)能生成鹽酸,時(shí)間越長(zhǎng)鹽
酸越多,會(huì)使工件()
A、受到表面腐蝕B、受到晶間腐蝕
C、產(chǎn)生腐蝕裂紋D、以上都是
19.28將零件浸入滲透液槽中施加滲透劑時(shí)()
A在整個(gè)滲透時(shí)間內(nèi)工件必須自始至終地浸在滲透液中
B.浸漬時(shí)間至少為滲透時(shí)間的一半
C.在浸漬時(shí)間內(nèi),只要保證零件表面全部覆蓋滲透液即可
D.浸漬時(shí)間不得超過(guò)5分鐘
20.去除滲透液前,零件必須被滲透液潤(rùn)濕多長(zhǎng)時(shí)間()
A時(shí)間長(zhǎng)短取決于使用的滲透劑種類,被檢驗(yàn)材料的種類,要求的靈敏度和欲檢驗(yàn)的缺陷
的種類。
B由于滲透劑在若干秒時(shí)間內(nèi)就能滲入任何尺寸的露出表面的不連續(xù)中,所以施加滲透劑
后,可以盡快去除滲透劑。
C3分鐘D5分鐘
21.43為有效地滲透,確定滲透時(shí)間應(yīng)考慮下列那些因素?(.)
A.欲發(fā)現(xiàn)的不連續(xù)性的種類B.零件形狀
C.零件尺寸D.表面粗糙度
22.50使用溶劑去除型滲進(jìn)劑時(shí),普遍公認(rèn)最重要的注意事項(xiàng)是0
A.不要施加過(guò)量的乳化劑B.不要施加過(guò)量的溶劑
C.清洗壓力應(yīng)足夠大D.應(yīng)用紫外燈檢查清洗效果
23.56最容易使后乳化滲透檢驗(yàn)失敗的是()
A.滲透時(shí)間過(guò)長(zhǎng)B顯像時(shí)間過(guò)長(zhǎng)
C.乳化時(shí)間過(guò)長(zhǎng)D乳化前過(guò)分清洗
24.58熒光滲透劑清洗不足會(huì)造成()
A.零件表面腐蝕B.施加顯象劑困難
C.滲出過(guò)多D.熒光背景過(guò)亮
25.11顯像劑通過(guò)哪種方式促進(jìn)滲透液顯現(xiàn)()
A.提供一個(gè)干凈的表面B.提供一個(gè)與滲透液相反襯度的背景
C.提供一個(gè)干燥的表面D.使?jié)B透液乳化
26.19用濕法連續(xù)法對(duì)零件進(jìn)行夾頭通電磁化后,要求在進(jìn)行線圈通電磁化。為了正確地
進(jìn)行線圈磁化,需要:()
A將零件上所用的慈懸液擦掉并進(jìn)行徹底的清洗厚再進(jìn)行線圈磁化
B退磁后在進(jìn)行線圈磁化
C評(píng)定夾頭通電磁化的顯示后將零件放入線圈繼續(xù)進(jìn)行檢驗(yàn)
D以上都不對(duì)
27.在下列情況下,磁場(chǎng)最強(qiáng)的是:()
A.磁化電壓波動(dòng)時(shí)B.磁化電流存在時(shí)
C.材料呈現(xiàn)高矯頑力時(shí)D.磁化電流變小時(shí)
28.把鐵磁性材料放入線圈中時(shí),磁感應(yīng)線會(huì)集中于材料中,并且()
A.建立一個(gè)縱向磁場(chǎng)B.建立一個(gè)周向磁場(chǎng)那
C.建立一個(gè)復(fù)合磁場(chǎng)D.材料中不存在磁場(chǎng)
29.下圖表示線圈法對(duì)一種短圓柱形試件進(jìn)行探傷,在下列四種放置方法中,磁化強(qiáng)度最
大的方法是:()
A.B.C.D.
30.13下列關(guān)于用觸頭法探測(cè)鋼板對(duì)接焊縫的說(shuō)法,正確的是:()
A.為了檢出橫向缺陷,觸頭連接應(yīng)予焊縫垂直
B.在探傷范圍內(nèi)。磁場(chǎng)強(qiáng)度的方向和大小并不是完全相同的
C.必須注意通電時(shí)試件的燒損問(wèn)題
D.以上都是
31.黑光燈的強(qiáng)度應(yīng)用什么測(cè)量?()
A.紫外輻射計(jì)B.照度計(jì)
C.磁強(qiáng)計(jì)D.高斯計(jì)
32.在磁粉探傷中,干法和濕法常用的磁粉粒度范圍分別是()
A.300-400目和80-160目B.80-160目和300-400目
C.50-100目和400-600目D.400-600目和50-100目
33.用于磁粉探傷的磁粉應(yīng)具備的性能是:()
A.無(wú)毒B.磁導(dǎo)率高C.頑磁性低D.以上都是
34.干法方法中應(yīng)用的純鐵磁粉的最好形狀是:()
A.扁平的B.球形的C.細(xì)長(zhǎng)的D.B和C混合物
35.11下列關(guān)于水磁懸液的制作,正確的是:()
A.把磁粉很快投入大量水中,然后仔細(xì)攪拌
B.先把磁粉和少量水?dāng)嚢瑁缓笙♂?/p>
C.先把磁粉用表面活性劑仔細(xì)攪拌,再用水沖淡,分散于多量的水中
D.在熒光磁粉中加入表面活性劑,放進(jìn)研缽,仔細(xì)研磨后再分散于多量的水中
36.20磁粉探傷中采用靈敏度試片的目的是:()
A.檢驗(yàn)磁化規(guī)范是否適當(dāng)B.確定工件表面的磁力線的方向
C.綜合評(píng)價(jià)檢測(cè)設(shè)備和操作技術(shù)D.以上都對(duì)
37.乳化濟(jì)的H,L,B值越低則0
A.親水性越強(qiáng)B.親油性越強(qiáng)
C.親水、親油性均越強(qiáng)D.親水、親油性均越弱
38.16下面哪種方法是檢測(cè)埋藏較深的缺陷的最好方法?()
A直流電磁化的干式剩磁法
B半波整流電磁化的濕式連續(xù)法
C全波整流電磁化的濕式剩磁法
D半波整流電磁化的干式連續(xù)法
39.下列哪種零件不能用滲透探傷法檢驗(yàn)?()
A.非松孔性材料零件B.鑄鋁件
C.松孔性材料零件D.鑄鐵件
40.22檢驗(yàn)大型鑄件的最有效的磁粉探傷方法是:()
A局部多方向磁化B芯棒法磁化
C螺管線圈法D直接通電磁化
41.37以下關(guān)于退磁的敘述,正確的是乂)
A退磁應(yīng)在零件清洗后立即進(jìn)行
B退磁應(yīng)在磁粉探傷前進(jìn)行
C所用的零件都有進(jìn)行退磁
D當(dāng)剩磁對(duì)以后的加工或使用有影響時(shí)才需進(jìn)行退磁
42.45退磁時(shí),通電的時(shí)間很少超過(guò)()
A5sB50sC120sD240s
43.12由磁場(chǎng)的不規(guī)則性形成的非相關(guān)顯示可能是哪種原因引起的()
A夾渣B磨削裂紋
C零件硬度急劇變化D以上都不是
44.15解釋磁粉顯示時(shí),必須考慮的因素是0
A磁場(chǎng)的方向B磁粉顯示處的漏磁場(chǎng)強(qiáng)度
C磁粉顯示的形狀和方向D以上都是
45.22平行和接近零件表面的鍵槽或鉆孔會(huì)產(chǎn)生()
A.與零件內(nèi)部形狀對(duì)應(yīng)的寬而模糊的顯示
B.與零件內(nèi)部形狀對(duì)應(yīng)的清晰而明顯的顯示
C.無(wú)顯示D.A和B
46.26下列哪種缺陷能用磁粉探傷檢出?()
A.鋼錠中心的縮孔B.雙面焊的未焊透
C.鋼材表面裂紋D.鋼板內(nèi)深為20mm的分層
47.32鍛造折迭:()
A.可能發(fā)生在表面的任何部位,與零件軸線無(wú)關(guān)
B.總是在熱中心線上發(fā)現(xiàn)
C.位于零件表面,與長(zhǎng)軸成90角
D.可發(fā)生在零件中的任何部位,總是沿著鍛造方向延伸
48.42下列關(guān)于磁痕跡記錄的敘述中,正確的是:()
A現(xiàn)場(chǎng)記錄磁痕,如有可能應(yīng)采用復(fù)印法
B磁痕復(fù)印需在磁痕干燥后進(jìn)行
C用拍照法記錄磁痕時(shí),須把量尺同時(shí)拍攝進(jìn)去。
D以上都是
49.4以下那一種方法吧適合焊縫坡口的磁化()
A觸頭法B磁輾法C中心導(dǎo)體法D繞電纜法
50.去除多余的水洗型滲透劑的最好方法是()
A.立刻將零件浸入水洗槽中B.在水龍頭下用流水沖洗
C.在熱水中煮或用蒸汽噴洗D.用軟管和噴嘴產(chǎn)生有利的水柱噴洗
51.磁化、斷電,然后給零件施加磁粉或磁懸液的檢驗(yàn)方法叫做:()
A.連續(xù)法B.濕法C.剩磁法D.干法
52.45如欲使工件具有一定的強(qiáng)度,同時(shí)又有較高的塑性和沖擊韌性,即有良好的綜合機(jī)
械性能,應(yīng)采用的熱處理方法是()
A.退火;B.不完全退火;C.正火;D.調(diào)質(zhì);
53.61水洗型滲透劑被水污染后,造成的影響是()
A.降低滲透劑的滲透性B.對(duì)水洗型滲透劑產(chǎn)生有害影響
C.A和B都是DA和B都不是
54.寫(xiě)出溶劑清洗型滲透探傷法的工藝流程和適用范圍。
55.簡(jiǎn)述偽缺陷跡痕的來(lái)源及辨別方法。
56.簡(jiǎn)述滲透探傷報(bào)告應(yīng)包括的主要內(nèi)容。
57.在鍋爐壓力容器內(nèi)進(jìn)行溶劑清洗型滲透檢驗(yàn)時(shí),應(yīng)采取哪些安全措施?
58.5深的弧坑裂紋顯示常呈現(xiàn)為()
A小而緊密B圓形C細(xì)線狀D微弱而斷續(xù)
59.6下列哪種缺陷可以歸類為使用導(dǎo)致的缺陷?()
A疲勞裂紋B氣孔C機(jī)加工裂紋D折疊
60.9著色滲透劑的存放應(yīng)避免()
A.潮濕B.高溫C.干燥D.無(wú)限制
三問(wèn)答題
61.承壓殼體中工作應(yīng)力的大小0
A與容器壁厚b和直徑D成正比,與壓力P成反比;
B與壓力P和容器壁厚6成正比,與容器直徑D成反比;
C與壓力P成正比,于容器壁厚b和容器直徑D成反比;
D與壓力P和容器直徑D成正比,與容器壁厚6成反比。
62.24低碳鋼20g常溫下的正常的金相組織是()
A.鐵素體;B.珠光體;
C.鐵素體加珠光體;D.以上都是;
63.去除工序的基本要求是什么?應(yīng)注意什么?
64.44如欲細(xì)化晶粒,均勻組織,降低內(nèi)應(yīng)力,應(yīng)采用的熱處理方法是()
A.退火;B.不完全退火;C.正火;D.調(diào)質(zhì);
65.什么叫去除劑?不同滲透方法使用哪些不同去除劑?
66.48哪一種制造承壓類特種設(shè)備用的鋼板可能采用調(diào)質(zhì)方法進(jìn)行處理()
A.低碳鋼;B.低合金高強(qiáng)度鋼:
C.奧氏體不銹鋼;D.以上均不可以;
67.53以下哪一元素加入鋼中能顯著提高鋼的高溫強(qiáng)度,減少回火脆性()
A.Mn;B.Si;C.Ni;D.Mo;
68.55下列材料中屬于不銹鋼的是()
A.Q235A;B.20g;C.16MnR;D.lCrl7;
69.71以下哪一條不屬于酸性焊條的優(yōu)點(diǎn)()
A.抗裂性好;B.電弧穩(wěn)定,容易施焊;
C.接頭成型美觀;D.不易產(chǎn)生氣孔;
70.80成本較貴,生產(chǎn)效率較低,只能焊薄壁構(gòu)件的焊接方法是()
A.二氧化碳?xì)怏w保護(hù)焊;B.鴇極氮弧焊;
C.手工電弧焊;D.電渣焊;
71.82壓力管道焊接中,較多采用坡口形式是()
AV形坡口;B.X形坡口;
C.單U形坡口;D.雙U形坡口;
72.以下哪一種情況可能出現(xiàn)魏氏組織
A易淬火鋼的淬火區(qū)B易淬火鋼的部分淬火區(qū)
C不易淬火鋼的過(guò)熱區(qū)D以上均可能
73.102為減少焊接接頭過(guò)熱,通常奧氏體不銹鋼焊接操作采取的措施是
A小電流B快速焊C不作橫向擺動(dòng)D以上都是
74.103在銘鎮(zhèn)奧氏體不銹鋼的焊接中,過(guò)高的焊接熱輸入會(huì)導(dǎo)致接頭
A耐蝕性降低B強(qiáng)度降低C韌性降低D以上都是
75.以下哪一種低合金鋼多道焊時(shí)不適于高的層間溫度
A15MnVRB18MnMoNBRC13MnNiMoNBRD15MnNiDR
76.113下列哪一因素不是導(dǎo)致冷裂紋產(chǎn)生的原因
A焊縫和熱影響區(qū)的含氫量B熱影響區(qū)的淬硬程度
C焊接應(yīng)力的大小D焊縫中低熔點(diǎn)共晶物的含量
77.35對(duì)低碳鋼加熱,在達(dá)到哪一溫度線時(shí),其常溫組織鐵素體和珠光體全部轉(zhuǎn)變?yōu)閵W氏
體()
A.AC1;B.AC3;C.Ar3;D.Arl;
78.14能夠正確反映滲透探傷靈敏度的試塊應(yīng)具備的條件是()
A具有符合寬度和長(zhǎng)度要求的表面裂紋
B具有規(guī)定的深度的表面裂紋
C裂紋內(nèi)部不存在粘污物
D以上都是
79.68當(dāng)材料中存在表面和近表面缺陷時(shí),在工件磁化后,就會(huì)在缺陷附近產(chǎn)生一個(gè)磁
場(chǎng),這個(gè)磁場(chǎng)稱為:()
A.剩余磁場(chǎng)B.磁化磁場(chǎng)C.漏磁場(chǎng)D.感應(yīng)磁場(chǎng)
80.使?jié)袷斤@像劑的靈敏度受到嚴(yán)重?fù)p害的是()
A.顯像劑溫度高于環(huán)境溫度B.顯像劑層太厚
C.在顯像劑中添加腐蝕抑制劑D.零件表面經(jīng)過(guò)拋光
81.顯像前干燥時(shí)應(yīng)注意()
A.時(shí)間越長(zhǎng)越好B.在保證零件表面充分干燥條件下,時(shí)間越短越好
C.溫度越高越好D.溫度越高越好
82.試件干燥溫度太高,干燥時(shí)間太長(zhǎng),就會(huì)造成()
A.滲透劑粘度增高B.缺陷中滲透劑被烘干,無(wú)法形成顯示
C.滲透液表面張力增大D.滲透液接觸角增大
83.14后乳化滲透檢驗(yàn)的乳化目的是:()
A.溶解零件上的滲透劑
B.乳化劑滲透到缺陷中以提高熒光液的發(fā)光強(qiáng)度
C.使零件表面的滲透劑變得可以用水消除
D.防止熒光液干在零件表面上
84.滲透法能否檢驗(yàn)出表面開(kāi)口缺陷主要取決于()
A.開(kāi)口處的長(zhǎng)度,而不受寬度、深度的影響
B.開(kāi)口處的寬度,其次是長(zhǎng)度、深度的影響
C.開(kāi)口的寬度,而不受長(zhǎng)度、深度的影響
D.開(kāi)口處的深度*寬度*長(zhǎng)度之積的影響
85.下面哪種滲透探傷方法靈敏度比較低?()
A.可水洗型著色法B.溶劑去除型著色法
C.可水洗型熒光法D.后乳化型著色法
86.27以下關(guān)于滲透檢測(cè)泄漏的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的()
A.應(yīng)選用高靈敏度的后乳化熒光滲透探測(cè)泄漏
B.零件表面粗糙度對(duì)檢測(cè)沒(méi)有影響
C.采取加壓或抽真空等方法有助于加快檢測(cè)過(guò)程,提高靈敏度
D.顯象劑的選擇和使用是保證檢測(cè)質(zhì)量的關(guān)鍵之一
87.著色滲透劑的顯示呈現(xiàn)為()
A.白色背景上的明亮紅色B.灰色背景上的紅色顯示
C.白色背景上的紅色顯示D.發(fā)亮的白色背景上的紅色顯示
88.由于滲透劑污染造成假缺陷的主要原因是:()
A.工作臺(tái)上的滲透液B.操作人員手上的滲透液
C.干的或濕的顯像劑被滲透劑污染D,以上都不對(duì)
89.滲透探傷劑性能鑒定有哪些項(xiàng)目?
90.3用著色滲透探傷過(guò)的試樣通常不得用熒光滲透劑進(jìn)行復(fù)驗(yàn),這是因?yàn)?)
A現(xiàn)象劑可能留在產(chǎn)生背景的表面上B大多數(shù)著色染料會(huì)使熒光熄滅
C滲透劑的顏色亮度可能大大降低D以上說(shuō)法都不對(duì)
91.65水洗型滲透探傷,采用水噴法去除試件表面滲透劑時(shí),那種情況不易將缺陷中的滲
透劑去除?()
A.滲透劑粘度低B.滲透劑粘度高C.滲透劑粘度D.與粘度無(wú)關(guān)
92.15比較兩種滲透劑的裂紋探傷靈敏度的較好方法是()
A比重計(jì)測(cè)量比重B用帶裂紋的A型鋁試塊
C進(jìn)行潤(rùn)濕試驗(yàn)測(cè)量接觸角D用新月試驗(yàn)法
93.16檢查滲透材料系統(tǒng)綜合性能的一種常用方法是()
A確定滲透劑的粘度B測(cè)量滲透劑的潤(rùn)濕能力
C用人工裂紋試塊的兩部分進(jìn)行比較D以上都是
94.17下面關(guān)于裂紋試塊使用目的的說(shuō)法中,哪種是不正確的?()
A為了制定一個(gè)裂紋的標(biāo)準(zhǔn)尺寸,這種裂紋可以根據(jù)需要復(fù)制
B為了確定兩種不同滲透劑是否由于污染而失去降低了熒光亮度
C為了確定滲透劑是否由于污染失去或降低熒光亮度
D為了確定從零件表面上去除滲透劑而不將裂紋中的滲透劑去除掉所需要的清洗程度或清
洗方法
95.17下列哪種缺陷是原材料缺陷?()
A.疲勞裂紋B.腐蝕裂紋C.熱處理裂紋D.疏松
96.19燒結(jié)的未涂釉的陶瓷產(chǎn)品上出現(xiàn)的交織在一起的鋸齒狀的網(wǎng)絡(luò)可能是()
A.熱激變裂紋B.疲勞裂紋C.縮裂D.磨削裂紋
97.26鍛件折疊的滲透劑顯示通常是()
A.圓形的或近似圓形的顯示B.集的顯示
C.連續(xù)的線條D.斷續(xù)的線條
98.試寫(xiě)出各種彎曲液面的附加壓強(qiáng)計(jì)算式。
99.什么是乳化劑和乳化現(xiàn)象?簡(jiǎn)述乳化機(jī)理?
100.簡(jiǎn)述輻射強(qiáng)度,光通量,發(fā)光強(qiáng)度和照度的定義。
101.什么是溶解度?它對(duì)滲透探傷靈敏度有何影響?
102.滲透液分類方法有哪幾種?各分為哪幾類?簡(jiǎn)述其主要特點(diǎn)。
103.在沒(méi)有書(shū)面的驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)時(shí),零件的驗(yàn)收或拒收依賴于下列哪一條?()
A.無(wú)損檢測(cè)人員的文化水平B.零件的設(shè)計(jì)和用途
C.合適的滲透標(biāo)準(zhǔn)件D.滲透劑的選擇
104.以下關(guān)于康普頓效應(yīng)的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的()
A.散射光子的波長(zhǎng)肯定小于入射光子;
B.反光子與散射光子能沖電子的能量為入射量之差;
C.散射角a越大,散射光子能量越??;
D.康普頓效應(yīng)發(fā)生幾率隨入射光子能量增大而減小。
105.44第二臨界角是:()
A、折射縱波等于90°時(shí)的橫波入射角B、折射橫波等于90°時(shí)的縱波入射角
C、折射縱波等于90。時(shí)的縱波入射角D、入射縱波接近90。時(shí)的折射角
106.當(dāng)光子能量超過(guò)200KEV后,對(duì)于人體組織的吸收劑量與照射量換算關(guān)系大致為
0
A.1戈瑞=0.01倫琴B.1戈瑞=0.1倫琴
C.1戈瑞=10倫琴D.1戈瑞=100倫琴
107.GB4792-84標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:放射工作人員受全身均勻照射的年劑量不應(yīng)超過(guò)0
A.50mSvB.50rEmC.150mSvD.500mSv
108.以下哪一種探測(cè)器,不是利用射線在空氣中電離效應(yīng)原理0
A.電離室B.正比計(jì)數(shù)器
C.蓋革-彌勒記數(shù)管D.閃爍探測(cè)器
109.輻射損傷隨機(jī)效應(yīng)的特點(diǎn)是0
A.效應(yīng)的發(fā)生率與劑量無(wú)關(guān)
B.劑量越大效應(yīng)越嚴(yán)重
C.只要限制劑量便可以限制效應(yīng)發(fā)生
D.以上B和C
110.直線加速器中,電子以何種方式加速?()
A.高頻電波;B.加速磁鐵:
C.中子轟擊;D.改變交流電磁鐵磁場(chǎng)。
111.以下哪一點(diǎn)不是高能射線照相的優(yōu)點(diǎn)()
A.穿透力強(qiáng)B.曝光時(shí)間短
C.散射比小D.總的不清晰度小
112.放大照相所用的X射線機(jī)應(yīng)是()
A.軟X射線機(jī)B.被窗口X射線機(jī)
C.微焦點(diǎn)X射線機(jī)D.以上都是
113.以下哪一條不是運(yùn)動(dòng)中射線照相法的優(yōu)點(diǎn)()
A.透照過(guò)程連續(xù)進(jìn)行、效率高
B.照射場(chǎng)范圍小、輻射危害低
C.采用連續(xù)膠片作為記錄介質(zhì)處理、閱讀、貯存方便
D.可通過(guò)投影放大技術(shù)提高分辨率
114.測(cè)試射線實(shí)時(shí)成像系統(tǒng)圖像分辨力通常用0
A.孔型象質(zhì)計(jì)B.線對(duì)測(cè)試卡
C.雙絲象質(zhì)計(jì)D.B和C
115.為正確識(shí)別底片上的表面幾何影像,評(píng)片人員應(yīng)(D)
A.仔細(xì)了解試件結(jié)構(gòu)和焊接接頭形式;C.掌握試件和焊縫表面質(zhì)量情況
B.熟悉不同焊接方法和焊接位置的焊縫成形特點(diǎn)D.以上都是
116.以下關(guān)于光電效應(yīng)的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的()
A.光電效應(yīng)發(fā)生幾率隨光子能量的增大而減??;
B.光電效應(yīng)發(fā)生幾率隨材料的原子序數(shù)增大而增大;
C.光電效應(yīng)過(guò)程中除產(chǎn)生光電子外,有時(shí)還會(huì)產(chǎn)生反沖電子;
D.光電效應(yīng)發(fā)射出的電子的能量肯定小于入射光子的能量。
117.靜電感光的影象一般是()
A.鳥(niǎo)爪型B.樹(shù)枝型
C.點(diǎn)狀或冠狀D.以上都是
118.以下關(guān)于瑞利散射的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的()
A.瑞利散射是相干散射的一種;
B.瑞利散射不改變光子能量,只改變光子的運(yùn)動(dòng)方向:
C.瑞利散射的發(fā)生兒率隨原子序數(shù)的增大而減小;
D.瑞利散射的發(fā)生幾率隨光子能量的增大而急劇減小。
119.射線照相難以檢出的缺陷是()
A.未焊透和裂紋B.氣孔和未熔合
C.夾渣和咬邊D.分層和折疊
120.X射線管中轟擊靶產(chǎn)生X射線的高速電子的數(shù)量取決于()。
A.陽(yáng)極靶材料的原子序數(shù);B.陰極靶材料的原子序數(shù);
C.燈絲材料的原子序數(shù);D.燈絲的加熱溫度。
121.X射線管對(duì)真空度要求較高,其原因是()
A.防止電極材料氧化;
B.使陰極與陽(yáng)極之間絕緣;
C.使電子束不電離氣體而容易通過(guò);
D.以上三者均是
122.實(shí)際使膠片鹵化銀顆粒感光的因素是()
A.X或丫關(guān)量子B.a粒子
C.電子D.中子
123.1.以下關(guān)于諧振動(dòng)的敘述,那一條是錯(cuò)誤的
A、諧振動(dòng)就是質(zhì)點(diǎn)在作勻速圓周運(yùn)動(dòng)、B、任何復(fù)雜振動(dòng)都可視為多個(gè)諧振動(dòng)的合成、
C、在諧振動(dòng)動(dòng)中,質(zhì)點(diǎn)在位移最大處受力最大,速度為零、D、在諧振動(dòng)動(dòng)中,質(zhì)點(diǎn)在平
衡位置速度大,受力為零、
124.16下面哪種超聲波的波長(zhǎng)最短()
A、水中傳播的2MHz縱波B、鋼中傳播的2.5MHZ橫波
C、鋼中傳播的5MHz縱波D、鋼中傳播的2MHz表面波
125.26當(dāng)超聲縱波由鋼垂直射向水時(shí),其反射系數(shù)小于0,這意味著:()
A、透射能量大于入射能量B、反射超聲波振動(dòng)相位與入射聲波互成180"
C、超聲波無(wú)法透入水中D、以上都不對(duì)
126.27垂直入射于異質(zhì)界面得超聲波束得反射聲壓和透射聲壓:()
A、與界面二邊材料的聲速有關(guān)B、與界面二邊材料的密度有關(guān)
C、與界面二邊材料的聲速有關(guān)D、與入射聲波波型有關(guān)
127.31超聲波垂直入射到異質(zhì)界面時(shí),反射波與透過(guò)波聲能的分配比例取決于()
A,界面兩側(cè)介質(zhì)的聲速B、界面兩側(cè)介質(zhì)的衰減系數(shù)
C、界面兩側(cè)介質(zhì)的聲阻抗D、以上全部
128.選擇磁化方法時(shí),必須考慮一個(gè)重要因素是:()
A.磁場(chǎng)強(qiáng)度B.現(xiàn)有設(shè)備能力
C.零件形狀D.以上都是
129.ASME規(guī)范關(guān)于背射監(jiān)測(cè)的規(guī)定是0
A.在每個(gè)暗盒背后貼“B”標(biāo)記;
B.在每個(gè)喑盒前面貼附“B”標(biāo)記;
C.每10個(gè)暗盒中有一個(gè)必須貼附“B”標(biāo)記;
D.無(wú)任何規(guī)定。
130.21透照板厚一定且有余高的焊縫,散射比隨有效能量的提高而()
A.增大B.減小C.不變D.不一定
131.在射線探傷中應(yīng)用最多的三種射線是()。
A.X射線,丫射線和中子射線B.a射線、B射線和丫射線
C.X射線,丫射線和B射線C.X射線,丫射線和a射線
132.原子核外電子能級(jí)量最高的是()。
A.外殼層B.中間殼層
C.內(nèi)殼層D.以上均不是
133.一般放射性比活度高的源其自吸收()
A.較高B.較低
C.兩者無(wú)關(guān)D.無(wú)自吸收
134.X膠片的片基常用的材料是()
A.聚氯乙烯薄膜B.聚氨脂薄膜
C.滌綸薄膜D.聚乙烯薄膜
135.64一直入射光強(qiáng)200CD/m2,則底片黑度為2.3的區(qū)域透過(guò)的光強(qiáng)為:()
A.5CD/m2B.0.56CD/m2
C.lCD/m2D.0.1CD/m2
136.68kl92所發(fā)出的主要丫射線能量為()
A.0.66,0.84,0.91MEVB.0.31,0.47,060MEV
C.0.08,0.05,0.66MEVD.0.15,1.12,0.18MEV
137.“S”通道型y射線機(jī)與直通道型Y射線機(jī)相比,其優(yōu)點(diǎn)是(C)
A.重量輕B.體積小C.輸源管彎曲半徑可以更小D.以上都是
138.鉛伯增感屏的鉛伯表面沾了油污后,后造成(C)
A.底片上會(huì)出現(xiàn)類似裂紋的黑線B.底片上產(chǎn)生黑影C.底片上產(chǎn)生白影D.以上都是
139.8決定細(xì)節(jié)在射線底片上可記錄最小尺寸的是()
A.對(duì)比度B.不清晰度
C.顆粒度D.以上都是
140.9射線照相底片的顆粒性是由什么因素造成的?()
A.影像顆?;蝾w粒團(tuán)塊的不均勻分布;
B.底片單位面積上顆粒數(shù)的統(tǒng)計(jì)變化;
C.顆粒團(tuán)塊的重重疊疊;
D.以上都是。
141.收劑量的SI單位是0
A.倫琴(R)B.戈瑞(Gy)
C拉德(rAD)D.希沃特(Sv)
142.18當(dāng)象質(zhì)計(jì)金屬絲影像寬度小于某一特定值時(shí),其最小可見(jiàn)對(duì)比度ADmin值()
A.隨影像寬度的減小而減?。籅.隨影響寬度的減小而增大;
C.不隨影像寬度而變化;D.在某一影像寬度處有一極大值。
143.50第一介質(zhì)為有機(jī)玻璃(CL=2700m/s),第二介質(zhì)為銅(CL=4700m/s,CS=2700m/s),
則第II臨界角為()
-12700-12700-12300
ax~sinax=sinax=sin
A、4700B2300c、2700D以上都不對(duì)
144.23用置于透照區(qū)中心附近的伯一鴇雙絲透度計(jì)可以從射線底片上測(cè)出一定管電壓下
的
()
A.吸收系數(shù);B.散射因子;
C.固有不清晰度;D.形狀修正系數(shù)。
145.射線照相中,提高底片反差有利于小缺陷的檢出,但同時(shí)會(huì)產(chǎn)生(D)
A.厚度寬容度減小B.曝光時(shí)間延長(zhǎng)C.底片上有效評(píng)定區(qū)縮小D.以上都是
146.鉛箔增感屏上的深度劃傷會(huì)在射線底片上產(chǎn)生黑線,這是因?yàn)椋?)
A.鉛箔劃傷部位厚度減薄,對(duì)射線吸收減小,從而使該處透射線增多;
B.劃傷使鉛箔表面增大,因而發(fā)射電子面積增大,增感作用加強(qiáng);
C.深度劃傷與膠片之間的間隙增大,散射線增加:
D.以上都對(duì)。
147.21濾板的作用相當(dāng)于()
A.增加密度;B.降低毫安;C.增加千伏;D.降低千伏。
148.25控制透照厚度比K值的主要目的是()
A.提高橫向裂紋檢出率;B.減小幾何不清晰度;
C.增大厚度寬容度;D.提高底片對(duì)比度
149.39下列不需要計(jì)算一次透照長(zhǎng)度的透照方式是(B)
A.環(huán)焊單臂外透法;B.小徑管雙壁雙影法;C.縱縫雙臂單影法;D.環(huán)峰內(nèi)透偏心法。
150.42下列有關(guān)曝光曲線使用的敘述,正確的是(C)
A.只要X射線機(jī)的規(guī)格相同,其曝光曲線都是通用的;
B.曝光曲線一定后,實(shí)際使用中可對(duì)暗室沖洗溫度作修改;
C.曝光曲線一般只適用于透照厚度均勻的平板工件;
D,以上都是。
151.11定影液中的定影劑通常采用0
A.硫代硫酸鈉;B.冰醋酸;
C.明研;D.亞硫酸鈉。
152.15在定影液中能抑制硫酸鈉被分解析出硫的化學(xué)藥品是0
A.CH3COOH2B.H3BO3
C.NA2SO4D.NA2SO3
153.27膠片處理的標(biāo)準(zhǔn)條件和操作要點(diǎn)是(D)
A,顯影溫度20±2℃,時(shí)間4-6min,預(yù)先水浸,顯影過(guò)程中適當(dāng)攪動(dòng);
B.定影溫度16-24°C,時(shí)間5-15min,定影過(guò)程中要充分?jǐn)噭?dòng);
C.干燥溫度W40°C,去除表面水滴后干燥:
D.以上都是。
154.以下關(guān)于觀片燈亮度的敘述,哪一條是正確的()
A.觀光時(shí),燈越亮越好;
B.透過(guò)底片的光強(qiáng)最好為30CD/m2;
C.透過(guò)底片的光強(qiáng)最好為100CD/m2;
D.光源的顏色最好為綠色,白色也可以。
155.13為提高透照底片的清晰度,選擇焦距時(shí),應(yīng)該考慮的因素是()
A.射源的尺寸,射源的強(qiáng)度,膠片類型;
B.工件厚度,膠片類型,射源類型;
C.射源強(qiáng)度,膠片類型,增感屏類型;
D.射源尺寸,幾何不清晰度,工件厚度。
156.30試件中磁均勻間斷與那些參數(shù)的急劇變化有關(guān)?()
A.電感B.電阻率C.電容D.磁導(dǎo)率
157.32在同一界面上,聲強(qiáng)透過(guò)率T與聲壓反射率r之間的關(guān)系是()
A、T=r2B、T=l-r2CsT=l+rD、T=l-r
158.29鍛件探傷時(shí),哪些因素會(huì)在熒光屏上產(chǎn)生非缺陷回波()
A.邊緣效應(yīng)B.工件形狀及外形輪廓
C.缺陷形狀和取向D.以上全部
159.11板厚100mm以上窄間隙焊縫作超聲檢驗(yàn)時(shí),為探測(cè)邊緣未熔合缺陷,最有效的掃
查方法時(shí)()
A.斜平行掃查B.串列掃查
C.雙晶斜探頭前后掃查D.交叉掃查
160.14對(duì)有加強(qiáng)高的焊縫作斜平行掃查探測(cè)焊縫橫向缺陷時(shí),應(yīng)()
A.保持靈敏度不變B.適當(dāng)提高靈敏度
C.增加大K值探頭探測(cè)D.以上B和C
161.17用直探頭探測(cè)焊縫兩側(cè)母材的目的是:()
A.探測(cè)熱影響區(qū)裂縫B.探測(cè)可能影響斜探頭探測(cè)結(jié)果的分層
C.提高焊縫兩側(cè)母材驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn),以保證焊縫質(zhì)量D.以上都對(duì)
162.下列哪一條是磁粉探傷優(yōu)于滲透攤上的地方?()
A.能檢出表面夾有外來(lái)材料的表面不連續(xù)性
B.對(duì)單個(gè)零件檢驗(yàn)塊
C.可檢出盡表面不連續(xù)性
D.以上都是
163.檢測(cè)鋼材表面缺陷較方便的方法是:()
A.靜電法B.超聲波C.磁粉法D.射線法
164.11鐵磁材料的特點(diǎn)是:()
A.受磁鐵強(qiáng)烈吸引B.能被磁化
C.以上都是D.以上都不是
165.15硬磁材料可被用來(lái)制作永久磁鐵的原因是?()
A.磁導(dǎo)率低B.剩磁弱C.剩磁強(qiáng)D.磁導(dǎo)率高
166.18下列有關(guān)試件達(dá)到磁飽和所需要磁場(chǎng)強(qiáng)度的敘述,那條是正確的?()
A.含碳量越低的碳鋼,所需要的磁場(chǎng)越強(qiáng)
B.淬火前的鋼比淬火后的鋼需要更強(qiáng)的磁場(chǎng)
C.同一種鋼,其冷加工比越達(dá),需要的磁場(chǎng)越強(qiáng)
D.矯頑力小的鋼,一般需要強(qiáng)磁場(chǎng)
167.23鍛件探傷中,超聲波的衰減主要取決于()
A.材料的表面狀態(tài)B.材料晶粒度的影響
C.材料的幾何形狀D.材料對(duì)聲波的吸收
168.26鐵磁材料是指:()
A.磁導(dǎo)率略小于1的材料B.磁導(dǎo)率遠(yuǎn)大于1的材料
C.磁導(dǎo)率接近于1的材料D.磁導(dǎo)率等于1的材料
169.21在鍛件探傷中當(dāng)使用底面多次回波計(jì)算衰減系數(shù)時(shí)應(yīng)注意一次底面回波聲程應(yīng):
()
A.非擴(kuò)散區(qū)B.大于近場(chǎng)區(qū)
C.大于3倍近場(chǎng)區(qū)D.無(wú)甚要求
170.31難于磁化的金屬具有:()
A.高磁導(dǎo)率B.低磁導(dǎo)率C.高磁阻D.低頑磁性
171.33當(dāng)外部磁化力撤去后,一些磁疇仍保持優(yōu)勢(shì)方向,為使它們恢復(fù)原來(lái)的無(wú)規(guī)則方
向,所需要的額外的磁化力,通常叫做:()
A.直流電力B.矯頑力C.剩余磁場(chǎng)力D.外加磁場(chǎng)力
172.50下列有關(guān)磁化曲線的正確敘述為()
A.磁化曲線表示磁場(chǎng)強(qiáng)度與磁感應(yīng)強(qiáng)度B的關(guān)系
B.由磁化曲線可以看出,磁場(chǎng)強(qiáng)度與磁通密度呈線性關(guān)系
C.經(jīng)過(guò)一次磁化后,磁場(chǎng)強(qiáng)度最大時(shí)的磁通密度稱為飽和磁通密度
D.經(jīng)過(guò)一次磁化后,磁場(chǎng)強(qiáng)度降為零時(shí)的磁通密度稱為矯頑力
173.51頑磁性表示:()
A.外部磁化力在鐵磁性材料中感應(yīng)磁場(chǎng)的能力
B.材料在它的內(nèi)部阻止建立磁通量的能力
C.表示磁化力去除后,材料保留一部分磁場(chǎng)的能力
D.不是用于磁粉探傷的術(shù)語(yǔ)
174.53撤去外磁場(chǎng)后,保留在可磁化的材料中的磁性叫做:()
A.漂移場(chǎng)B.剩余磁場(chǎng)C.衰減磁場(chǎng)D.永久磁場(chǎng)
175.54矯頑力是描述:()
A.濕法檢驗(yàn)時(shí),在液體中懸浮磁粉的方法
B.連續(xù)法時(shí),使用的磁化力
C.表示去除材料中的剩余磁性需要的反向磁化力
D.不是用于磁粉探傷的術(shù)語(yǔ)
176.56以下有關(guān)磁感應(yīng)強(qiáng)度B和磁場(chǎng)強(qiáng)度H的敘述,哪一條是正確的()
A.磁場(chǎng)強(qiáng)度H只與電流有關(guān),與介質(zhì)無(wú)關(guān)
B.磁場(chǎng)強(qiáng)度H與電流和介質(zhì)均有關(guān)
C.磁感應(yīng)強(qiáng)度B只與H有關(guān),與介質(zhì)無(wú)關(guān)
D.磁感應(yīng)強(qiáng)度B只與電流有關(guān),與介質(zhì)無(wú)關(guān)
177.58因零件長(zhǎng)度太短,從而不可能對(duì)零件進(jìn)行滿意檢驗(yàn)的磁化場(chǎng)合是:()
A.軸向通電周向磁化B.線圈法縱向磁化
C.觸頭法通電磁化D.磁朝法磁化
178.59用芯棒法磁化圓筒零件時(shí),最大磁場(chǎng)強(qiáng)度的位置在零件的:()
A.外表面B.壁厚的一半處C.兩端D.內(nèi)表面
179.62采用線圈法磁化時(shí),要注意()
A,線圈的直徑不要比零件大得太多B.線圈兩端的磁場(chǎng)比較小
C.小直徑的零件應(yīng)靠近線圈內(nèi)壁放置D.以上都是
180.當(dāng)幾種粒子和射線通過(guò)空氣時(shí),其電離效應(yīng)最高的是()o
A.a粒子B.0粒子
C.中子D.X和丫射線
181.22材料磁導(dǎo)率是用來(lái)描述:()
A.材料磁化的難易程度B.零件中磁場(chǎng)的強(qiáng)度
C.零件退磁需要的時(shí)間D.保留磁場(chǎng)的能力
182.36下面哪種材料最適宜做高溫探頭:()
A.石英B.硫酸鋰C.錯(cuò)鈦酸鉛D.鋸酸鋰
183.1波束擴(kuò)散角是晶片尺寸和傳播介質(zhì)中聲波波長(zhǎng)的函數(shù)并且隨()
A、頻率增加,晶片直徑減少而減少B、頻率或晶片直徑減少而增大
C、頻率或晶片直徑減少而減少D、頻率增加,晶片直徑減少而增大
184.13遠(yuǎn)場(chǎng)范圍的超聲波可視為()
A、平面波B、柱面波C、球面波D、以上都不對(duì)
185.14在探測(cè)條件相同的情況下,面積比為2的兩個(gè)平底孔,其反射波高相差()
A.6DBB.12DBC.9DBD.3DB
186.16在探測(cè)條件相同的情況下,直徑比為2的兩個(gè)實(shí)心圓柱體,其曲底面回波相差
()
A、12DBB、9DBC、6DBD、3DB
187.19同直徑的長(zhǎng)橫孔在球面波聲場(chǎng)中距聲源距離增大1倍則回波減弱()
A、6DBB、12DBC、3DBD、9DB
188.22對(duì)于球面波,距聲源距離增大1倍,聲壓變化是()
A、增大6DBB、減少6DBC、增大3DBD、減少3DB
189.12儀器的垂直線性好壞會(huì)影響()
A.缺陷的當(dāng)量比較B.AVG曲線面板的使用
C.缺陷的定位D.以上都對(duì)
190.同步電路每秒鐘產(chǎn)生的觸發(fā)脈沖數(shù)為()
A.1-2個(gè)B.數(shù)十個(gè)到數(shù)千個(gè)C.與工作頻率有同D.以上都不對(duì)
191.放大器的不飽和信號(hào)高度與缺陷面積成比例的范圍叫做放大器的()
A.靈敏度范圍B.線性范圍C.分辨力范圍D.選擇性范圍
192.23探頭的分辨力:()
A.與探頭晶片直徑成正比B.與頻帶寬度成正比
C.與脈沖重復(fù)頻率成正比D.以上都不對(duì)
193.28鑄鋼件超聲波探傷頻率一般選擇()
A.0.5?2.5MZHB.1?5MZH
C.2.5?5MzHD.5?10MZH
194.25探頭晶片背面加上阻尼塊會(huì)導(dǎo)致:()
A.Q,"降低,靈敏度提高B.Q,"值增大,分辨力提高
C.Q"值增大,盲區(qū)增大D.Q",值降低,分辨力提高
195.69漏磁場(chǎng)與下列哪些因素有關(guān):()
A.磁化的磁場(chǎng)強(qiáng)度與材料的磁導(dǎo)率
B.缺陷埋藏的深度、方向和形狀尺寸
C.缺陷內(nèi)的介質(zhì)
D.以上都是
196.46以下哪一條,不屬于雙晶探頭的性能指標(biāo)()
A.工作頻率B.晶片尺寸C.探測(cè)深度D.近場(chǎng)長(zhǎng)度
197.50對(duì)超聲探傷試塊材質(zhì)的基本要求是:()
A.其聲速與波探工件聲速基本一致
B.材料中沒(méi)有超過(guò)①2mm平底孔當(dāng)量的缺陷
C.材料衰減不太大且均勻
D.以上都是
198.6缺陷反射聲能的大小,取決于()
A.缺陷的尺寸B.缺陷的類型
C.缺陷的形狀和取向D.以上全部
199.9表面波探傷時(shí),儀器熒光屏屏上出現(xiàn)缺陷波的水平刻度值通常代表()
A.缺陷深度B.缺陷至探頭前沿距離
C.缺陷聲程D.以上都可以
200.15使用半波高度法測(cè)定小于聲束直徑的缺陷尺寸時(shí),所測(cè)的結(jié)果:()
A.小于實(shí)際尺寸B.接近聲束寬度
C.稍大于實(shí)際尺寸D.等于晶片尺寸
201.16棱邊再生波主要用于測(cè)定:()
A.缺陷的長(zhǎng)度B.缺陷的性質(zhì)
C.缺陷的位置D.缺陷的高度
202.17從A型顯示熒光屏上不能直接獲得缺陷性質(zhì)信息、超聲探傷對(duì)缺陷的定性是通過(guò)
下列方法進(jìn)行:()
A.精確對(duì)缺陷定位B.精確測(cè)定缺陷形狀
C.測(cè)定缺陷的動(dòng)態(tài)波形D.以上方法須同時(shí)使用
203.13小口徑無(wú)縫鋼管探傷中多用聚焦探頭,其主要目的是:()
A.克服表明曲率引起超聲散焦B.提高探傷效率
C.提高探傷靈敏度D.以上都對(duì)
204.15管材橫波接觸法探傷時(shí),入射角的允許范圍與哪一因素有關(guān)()
A.探頭楔塊B.管材中的縱、橫波聲速C.管子的規(guī)格D.以上全部
205.16大型鑄件應(yīng)用超聲波探傷檢查的主要困難是:()
A.組織不均勻B.晶粒非常粗C.表明非常粗糙D.以上都對(duì)
206.18利用試塊法校正探傷靈敏度的優(yōu)點(diǎn)是:()
A.校正方法簡(jiǎn)單B.對(duì)大于3N和小于3N的鍛件都適用
C.可以克報(bào)探傷面形狀對(duì)靈敏度的影響D.不必考慮材質(zhì)差異
207.24當(dāng)激勵(lì)探頭的脈沖幅度增大時(shí):()
A.儀器分辨力提高B.儀器分辨力降低,但超聲強(qiáng)度增大
C.聲波穿透力降低D.對(duì)試驗(yàn)無(wú)影響
二、計(jì)算題
208.14解:(l)JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)要求,探傷靈敏度不低于①=2mm當(dāng)量。底波與①2反射波
高DB差應(yīng)為:
2Ax_,
△=20lg.①2已知:x=350mm,入=2.36mm
2X2.36X350
=20出々X22=42.4DB
40<42.4故此探傷靈敏度低于82當(dāng)量,不符合JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)要求。
(2)缺陷與底波反射波高DB差:A=40-29=11DB
2Xx/2,
由A=20lgn①2xBx/=200mmxB=350mm
2入x/22X2.36X2002
得中2=一II:orX350X3.55=43'4
JT?xB,1020
缺陷當(dāng)量:中心7(mm)
209.解:求焦距1000mm,底片黑度1.5所需曝光量:
芻=生
娟斤
_L工21c100tf__..、
E)=E,x—=lOx------=27.8(mA-min)
21F-6002
求焦距1000mm,底片黑度2.5所需曝光量:
lg&=心工生土=0.3
E}y3.3
0J3
E2=Ex-10=27.8x10°=55.86(m4min)
答:需要曝光量為55.86毫安?分。
210.解:已知CL=4700m/s,b=035,求c5
12x(1-0.35)
V1-2x0.35=2.08
4700
Cs=vX?=2260(m/s)
Z.Uo
211.解:sinaR=0R2,己知C"=2730m/s,C?2=2980m/s
-iCLI.2730
simn---sm----
-1
:.aR=CR2=2980=sin0.918
aR=66.4°
鋼中縱波波長(zhǎng)^2=*=*嗎=2.36m/〃
?f2.5xlO6
IZ,lZ-ftavrD'TC\202ccl480cr”
鋼中近場(chǎng)長(zhǎng)度V=-----L--=------------20-----=37.4mm
4%4x2.365900
212.4解:C2
213.6解:利用上題結(jié)果,當(dāng)^鋼=麗,K鋁=1.63
令再=30mm(x2=3$=90mm)
x.=Rsinj3=R,K=R,163=0.85/?=30/nm
71+AT2A/1+1.632
R鋁=35.3mm
214.9解:入=C/F=5.9X10的.5X106=2.36mmN=D加A=400AX2.36=42.4mm
該工件中500mm>3N,可采用球面波公式計(jì)算先算出1000mm處中4靈敏度
△=20lgn①加入x=20lg4X4n/2X2.36X1000=-39.5DB
1000mm與500mm聲程差
△=40lgl000/500=12DB
-39.5+12=-27.5DB
先將1000mm處底波調(diào)至基準(zhǔn)得,增益27.5DB即得到500/中4靈敏度
215.10解:
△=20lgXl①"X2①2=20lg400X4^/150X22=29DB
將150mm處底波調(diào)至基準(zhǔn)得,增益29DB即得到400/0)2靈敏度
216.解:設(shè)偏心距為x
60
x=R?sinaR=~y=30(mm)
CL1
sina二五?sinP已知CLl=1500m/sCS2=3200m/sB=40°
1
=-Xsin40=0.301
.*.x=30X0.31:^9(mm)
217.解:
50
已知
H=15mm.R=-=25mm/x=8mm
焦距:
/=H+[R2-X2=15+^/252-82=15+23.7=38.7(mm)
曲率半徑:
Cl'J
2650-1500
2650X38.7=16.8(mm)
218.解:用三個(gè)公式求解透鏡曲率半徑r曲
C液
{r曲=(1言)F
{F=X2+A/R2-X12
CL液__CL液
{西RWX1W,
取:C液=1500米/秒C透=2730米/秒
CL鋼=5900米/秒CS鋼=3230米/秒
{r曲=0.45F
{F=X2+NR2-X12
{0.254RWX1W0.464r
1
令A(yù)Xl=5(0.254R+0.464r)
1
=2(0.254X20+0.464X14)
=5.79mm
F=X2+4R2-X12=10+^/202-5.792
=29.1mm
,F(xiàn)=0.r曲=0.45X29.1=13.1mm
所需透鏡曲率半徑為13.1mm
219.解:P=tg-lK=tg-12=63.4°
DX(l-sinP)600X(1-0.894)
t=2=2=31.8(mm)
220.解:⑴/=屋=2202/402=30.25屬低填充系數(shù)磁化
L/D=120/10=3
4500045000
=1500(4)
N(L/D)=10x3
16907?1690x110185900
T1=--------------1430(a)
⑵NKL/0—5]10x(6x3-5)10x13
⑶串聯(lián)時(shí)L/D=(3X120)/40=9
450004500
1=N(LID)_10x9=5OO(A)
第四部分滲透檢測(cè)
共:620題
其中:判斷題185題
選擇題360題
問(wèn)答題91題
PX
221.9解:(A)PB凸二萬(wàn)
at032
P3=Px?
力4X(R-X)
PB凸2X(R-X)
...DB=20l=20l
跟詬g1t①32
2X2.36X35050八「
=20lg—3.14X32旃=26.3分貝
將內(nèi)孔底波反射波調(diào)到基準(zhǔn)波高,再增益26.3分貝,即滿足靈敏度測(cè)試的要求。
P?x①x〃002
7
=40lg(五Ox)
DB2=(350-200)a雙=150X0.02=3分貝
由已知條件:18-3=40lg(套中x)
①x=4.1mm
222.解:本題未給出散射比,所以計(jì)算不考慮散射線影響。
求透過(guò)工件后照射率:
/=/°?-*7=18-』=4.5(R/〃)=75Q〃R/min)
2,2記
I'250…’.、
t=—=----=3.33(min)
曝光所需時(shí)間175
答:每張膠片曝光時(shí)間為3.33min。
223.1解:不漏檢條件是EW0
ab
2+C2
-8WO
ab1
c+5+218+2(30+20)
???K2——=元=2.15
224.5解:深度:D/=2T-生已知:T=25mm,h/=60mm
=50-30=20(mm)
水平距離:l/=K?¥=2X寫(xiě)=60(mm)
e1140
225.6ft?:DI=v=-=16(mm)
l\Z.J
127
D2=2T-lv\=Z2.DX20-77=40-28=12(mm)
226.8解:探頭K值改變:
sina_sinB鋼sinB合
口機(jī)=CS鋼=CS合
八人CS合八g3840
?"?sinB合云麗sin3鋼=受/sin45o
=0.8431
即B合=57.5°K合=1.57
ox20
掃描線按鋼聲調(diào)試,8格代表時(shí)間:t鋼二
工切,人mCS合3840
???聲程:s^-=CS合?t鋼X160=^^X160=190.2mm
水平:x=s合?sinB合=190.2Xsin57.5°=160mm
垂直:y=s合?Cos3合=190.2XCos57.5°=102mm
缺陷埋藏深度為:
h=y-28
=102-2X40
=22mm
YR-8
:
227.12WVsinP=-r^\-=—n
,B=45°
,8=R(l-sinB)=300(1-0.707)
=87.9mm
Kl探頭能探測(cè)的最大壁厚為87.9mm。
228.17解:(1)聲束軸線射到內(nèi)壁的條件為:
2T2X70
sinP<l--=l--^0.825
K=1時(shí),sinP=sin(tg-l)=sin45°=0.707<0.825
.?.可以采用K1探頭探傷。
W2
(2)JB4730-94規(guī)定,當(dāng)RW丁時(shí)。需采用曲面試塊。
D800
R=,=-^~=400(mm)
W2^4X400W>40(mm)HP:
探頭接觸面長(zhǎng)度WN40mm時(shí)需采用曲面對(duì)比試塊。
229.20解:(1)分貝差值:A1=14DB,A2=(41-25)=16DB
△3=0.01X2X/X100=4.5DBA4=4DB
A=A1+A2+A3+A4=38.5DB
方法:使D=30,孔回波達(dá)基準(zhǔn)波高(60%)后增益38.5DB即可
(2)材料衰減A=0.01X2X4302+602=1.34DB
計(jì)入耦合和材質(zhì)衰減的D=30孔回波高為
41-4-1.34=35.66DB
缺陷當(dāng)量為28-35.66=-7.66DB,即①2X40-7.66DB。
第三部分磁粉檢測(cè)
共:551題
其中:判斷題171題
選擇題265題
問(wèn)答題77題
計(jì)算題38題
230.10若在直徑為D=25MM的導(dǎo)體上施加l=375A的電流,則導(dǎo)體表面的磁化磁場(chǎng)為多少
安培每米?
231.12—有限交流磁化線圈長(zhǎng)度600MM,線圈內(nèi)徑也為600MM匝數(shù)為20匝,當(dāng)磁化電
流為1000A時(shí);求其空載線圈中心和線圈端面中心處的磁場(chǎng)強(qiáng)度?
232.14設(shè)鋼的相對(duì)磁導(dǎo)率〃=600,在鋼中的磁感應(yīng)方向與兩種磁導(dǎo)率的分界面的法線成
89度角,而界面的另一側(cè)為空氣,其相對(duì)磁導(dǎo)率近似為1,求在空氣中的磁感應(yīng)線的折射
角為多少?
233.11解:1)計(jì)算當(dāng)量直徑D
180180
D=周長(zhǎng)/%=(40+50)x2"mm=nxl。'm
2)計(jì)算磁化電流
1QA
兀D?H=兀x——xIO"*8(X)()=1440(A)
1=乃
234.13解::不需要做修正。
45000
在低充填因數(shù)線圈中偏心放置,依經(jīng)驗(yàn)公式Nl=N(LID)
45000
可有|=N(L/°)將N=20,L/D=10代入上式,可得
l=225A.
/PxPB2Ax
235.解:[¥8=萬(wàn)?.?西而
打4)2
P<1)=PX-TT-
4AX
2人x
DB=20lgM=20lgV而
5900X103
2XX300
2.5X106
=20lg3.14X22=41分貝/
將大平底回波調(diào)到基準(zhǔn)波高,再增益41分貝,滿足探測(cè)2平底孔靈敏度要求
Px24)xM002
P¥2=小2加002=0-560'2
;.20lg0.566x2=15
即:(t)x=3.16mm
236.7在露天進(jìn)行X射線照相,已知焦距點(diǎn)1米處漏射線劑量率200Mr,散射線劑量率為
各位置漏射線劑量率的9倍,現(xiàn)場(chǎng)拍片30張,每張曝光4分鐘,如1人操作,為保證接
受劑量不超過(guò)10mR,應(yīng)距焦點(diǎn)幾米?如在距焦點(diǎn)12米處操作,為保證每人接受劑量不大
于10Mr,上述工作應(yīng)由幾人分擔(dān)?此時(shí)每人可接受的照射劑量為多少mR?(20m,3
人,9.3mR)
237.4求管電壓為250KVrX射線機(jī)和能量為4MEV的直線加速器輻射連續(xù)X射線的效率
(設(shè)靶材均為鴿Z=74,比例系數(shù)n0=1.2*10-6).(2.22%;35.52%)
238.7能量為250KV的單色射線在鋼中的線衰減系數(shù)為0.8Cm-l,該射線鋼的半價(jià)層是多
少?(0.866Cm)
239.14在離X射線管焦點(diǎn)2m處。測(cè)出透過(guò)衰減系數(shù)為1.2Cm-l的鋼板
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