DB11T 2080-2023 建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)技術(shù)指南 集成電路制造

ICS13.020.10CCSZ01

DB11北 京 市 地 方 標(biāo) 準(zhǔn)DB11/T2080—2023建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)技術(shù)指南集成電路制造Technicalguidelinesforenvironmentalimpactassessment—Intergratedcircuitmanufacturing2023-03-30發(fā)布 2023-07-01實(shí)施北京市市場(chǎng)監(jiān)督管理局 發(fā)布DB11/T2080—2023目 次前言 II引言 III范圍 1規(guī)性用1術(shù)和1一規(guī)定 2技要求 2編要求 6附錄A（范）工析相附表 7附錄B（料）主產(chǎn)單、序設(shè)及輔材參10附錄C（料）主產(chǎn)流、元工及排污型例圖 12附錄D（料）廢要污物廢主污物、要險(xiǎn)物考表 14附錄E（料）污源強(qiáng)算關(guān)19附錄F（料）《項(xiàng)目境響告染影類重內(nèi)填指引 22參考24IDB11/T2080—2023前 言本文按照GB/T1.1—2020《標(biāo)化作導(dǎo)則 第部分標(biāo)準(zhǔn)文的結(jié)和起規(guī)則的起草。本文件由北京市生態(tài)環(huán)境局提出并歸口。本文件由北京市生態(tài)環(huán)境局組織實(shí)施。本文件起草單位：北京市生態(tài)環(huán)境評(píng)估與投訴中心，中國(guó)電子工程設(shè)計(jì)院有限公司。本文件主要起草人：王巖、丁淮劍、唐丹平、李雪梅、田昕竹、滿洋、鄒廣迅、張瀟尹、來(lái)賀菲、張建平、孫娟、李楠、魚(yú)紅霞、劉鐵軍。IIDB11/T2080—2023引 言IIIDB11/T2080—2023建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)技術(shù)指南集成電路制造范圍本文件給出了集成電路制造建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)的一般規(guī)定、技術(shù)要求和編制要求。本文件適用于集成電路制造建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)和技術(shù)評(píng)估工作。（GB18597 GB20891 ）GB36886 GB39731 HJ2.1 HJ2.2 境響價(jià)術(shù)導(dǎo)則氣HJ2.3 境響價(jià)術(shù)導(dǎo)則表環(huán)HJ2.4 境響價(jià)術(shù)導(dǎo)則環(huán)境HJ19 HJ169 設(shè)目境險(xiǎn)評(píng)技導(dǎo)則HJ610 境響價(jià)術(shù)導(dǎo)則下環(huán)HJ819 污位行測(cè)技指南則HJ884 染源核技術(shù)南準(zhǔn)則HJ964 ）HJ1031排污許可證申請(qǐng)與核發(fā)技術(shù)規(guī)范電子工業(yè)HJ1200排污許可證申請(qǐng)與核發(fā)技術(shù)規(guī)范工業(yè)固體廢物（試行）HJ1253排污單位自行監(jiān)測(cè)技術(shù)指南電子工業(yè)HJ1259危險(xiǎn)廢物管理計(jì)劃和管理臺(tái)賬制定技術(shù)導(dǎo)則DB11/139鍋爐大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)DB11/307水污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)DB11/501大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)DB11/588埋地油罐防滲漏技術(shù)規(guī)范DB11/T1195 DB11/1631 下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。1DB11/T2080—2023集成電路integratedcircuit集成電路制造integratedcircuitmanufacturing單片集成電路、混合式集成電路的制造，包括對(duì)集成電路圓片與集成電路封裝系列的制造活動(dòng)。[來(lái)源：GB/T4754—2017，C3973]特種廢氣specialcontaminatedexhaustpoint-of-useabatement安裝在工藝生產(chǎn)設(shè)備附近，并對(duì)其排出的特種廢氣進(jìn)行預(yù)處理的設(shè)備。[來(lái)源：GB51401—2019，2.0.12,有修改]公用工程publicworks由市政公共服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供的基礎(chǔ)服務(wù)工程，如給水、排水、供熱、供電、供氣等工程。依托工程supportinginstitution除公用工程外，建設(shè)項(xiàng)目在生產(chǎn)運(yùn)營(yíng)過(guò)程中必需依托且不屬于本建設(shè)項(xiàng)目?jī)?nèi)容的工程。應(yīng)依據(jù)《建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響報(bào)告表編制技術(shù)指南（污染影響類）（試行）》和HJ2.1的相關(guān)規(guī)定開(kāi)展工作。需設(shè)置專項(xiàng)評(píng)價(jià)的，應(yīng)按照HJ2.2、HJ2.3、HJ169、HJ610開(kāi)展專項(xiàng)評(píng)價(jià)工作。按照HJ2.12DB11/T2080—2023按照HJ2.1子：總烴、鉛及其化合物、錫及其化合物、砷及其化合物、二噁英類等；總鎳、總銀等；e) DB11/139、DB11/307、DB11/501、DB11/1631、GB20891GB36886、GB39731限制排放的其他污染物。按照HJ2.1A.1圓片規(guī)格、特征線寬、封裝形式等產(chǎn)品方案。統(tǒng)等工程情況。如自建鍋爐，應(yīng)給出鍋爐建設(shè)位置、燃料、規(guī)模、使用時(shí)間。其依托關(guān)系。使用再生水的，應(yīng)說(shuō)明再生水來(lái)源、用量、用途及管網(wǎng)建設(shè)情況。態(tài)保護(hù)措施等。按照HJ2.1的規(guī)定給出平面布置圖，并遵守以下要求：確生產(chǎn)廠房、動(dòng)力廠房、化學(xué)品存儲(chǔ)用房及辦公等用房的平面位置；3DB11/T2080—2023按照表A.2給出各生產(chǎn)單元的主要設(shè)備名稱、數(shù)量等內(nèi)容，按照表A.3給出建設(shè)項(xiàng)目主要原輔材料及燃料的使用和消耗情況。主要生產(chǎn)單元、工序、設(shè)備及原輔材料等可參照附錄B。改建、擴(kuò)建及技改項(xiàng)目應(yīng)說(shuō)明與項(xiàng)目有關(guān)的現(xiàn)有工程情況，包括：給出與現(xiàn)有工程的關(guān)系，分析闡明現(xiàn)有工程環(huán)境保護(hù)措施及處理效果、污染物排放及達(dá)標(biāo)情給出現(xiàn)有工程履行環(huán)境影響評(píng)價(jià)、竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收、排污許可手續(xù)等情況，明確存在的主C。情況。確排水去向，給出水平衡圖。核算工業(yè)用水重復(fù)利用率、純水回用率。HJ884HJ1031過(guò)程。式、生產(chǎn)工藝、工程規(guī)模、污染控制措施等方面說(shuō)明可類比性。他污染物，并單獨(dú)分析廢氣及特征污染物產(chǎn)排情況；處理規(guī)模、處理效率及排放去向。E素、環(huán)境保護(hù)目標(biāo)。（試行HJ.2J2.、HJ2.4HJ19HJ610HJ9644DB11/T2080—2023（）（）應(yīng)簡(jiǎn)要分析其可行性。應(yīng)明確匯入前取樣口設(shè)置情況。DB11/1631氰及其他含金屬?gòu)U水的防治措施，重點(diǎn)給出含砷、鎳和銀等一類污染物的廢水分類收集、分質(zhì)處理措施。）集、貯存和處置利用方案。GB18597位置、運(yùn)行和管理要求。HJ610HJ9645DB11/T2080—2023GB18597HJ610儲(chǔ)罐等區(qū)域防滲技術(shù)要求；按照DB11/588的規(guī)定，給出埋地油罐防滲漏技術(shù)要求。HJ169（試行HJ2.1HJ1031HJ1200HJ1259度、組織機(jī)構(gòu)等，明確各項(xiàng)環(huán)境保護(hù)設(shè)施和措施的建設(shè)、運(yùn)行及維護(hù)保障計(jì)劃。HJ1031度、排放量、排放方式、排放去向等。HJ819HJ1253DB11/T1195設(shè)置要求。從生態(tài)環(huán)境保護(hù)角度，給出建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響可行或不可行的結(jié)論。（HJ2.1。6DB11/T2080—2023附錄A（規(guī)范性）工程分析相關(guān)附表A.A2A3。表A.1建設(shè)項(xiàng)目組成表類別序號(hào)名稱主要建設(shè)內(nèi)容備注主體工程1生產(chǎn)廠房逐項(xiàng)說(shuō)明主體工程的建設(shè)內(nèi)容、功能分區(qū)、生產(chǎn)能力和生產(chǎn)規(guī)模?！o助工程1純水制備系統(tǒng)說(shuō)明規(guī)模、主要參數(shù)、建設(shè)位置。2冷卻塔系統(tǒng)說(shuō)明規(guī)模、主要參數(shù)、建設(shè)位置?！霉こ?給水說(shuō)明生產(chǎn)生活所需新鮮或再生水的來(lái)源。2排水說(shuō)明企業(yè)廢水排放口位置、排放量。3供熱說(shuō)明項(xiàng)目供熱方式?！h(huán)保工程1廢氣處理設(shè)施說(shuō)明采用的尾氣處理設(shè)備，說(shuō)明各類廢氣處理設(shè)施的處理工藝、處理能力、排氣筒高度等。2廢水處理設(shè)施說(shuō)明各廢水處理設(shè)施的處理工藝、處理能力等。3噪聲防治措施說(shuō)明采取的噪聲防治措施。4固體廢物防治措施說(shuō)明固體廢物貯存設(shè)施的建設(shè)規(guī)模、位置?！瓋?chǔ)運(yùn)工程1硅烷站說(shuō)明規(guī)模、位置。2特種氣體站說(shuō)明規(guī)模、位置，存儲(chǔ)特種氣體的種類。3大宗氣體站說(shuō)明規(guī)模、位置，存儲(chǔ)大宗氣體的種類?！劳泄こ?……如有依托工程，應(yīng)說(shuō)明。7DB11/T2080—2023表A.2建設(shè)項(xiàng)目主要設(shè)備表序號(hào)設(shè)備名稱數(shù)量備注一、薄膜制備單元1應(yīng)填寫通用或規(guī)范名稱應(yīng)統(tǒng)計(jì)所有設(shè)備數(shù)量（含備用）如利舊，請(qǐng)注明………………二、光刻單元1應(yīng)填寫通用或規(guī)范名稱應(yīng)統(tǒng)計(jì)所有設(shè)備數(shù)量（含備用）如利舊，請(qǐng)注明………………三、刻蝕單元1應(yīng)填寫通用或規(guī)范名稱應(yīng)統(tǒng)計(jì)所有設(shè)備數(shù)量（含備用）如利舊，請(qǐng)注明………………四、摻雜單元1應(yīng)填寫通用或規(guī)范名稱應(yīng)統(tǒng)計(jì)所有設(shè)備數(shù)量（含備用）如利舊，請(qǐng)注明………………五、金屬沉積單元1應(yīng)填寫通用或規(guī)范名稱應(yīng)統(tǒng)計(jì)所有設(shè)備數(shù)量（含備用）如利舊，請(qǐng)注明………………六、化學(xué)機(jī)械研磨單元1應(yīng)填寫通用或規(guī)范名稱應(yīng)統(tǒng)計(jì)所有設(shè)備數(shù)量（含備用）如利舊，請(qǐng)注明………………七、封裝單元1應(yīng)填寫通用或規(guī)范名稱應(yīng)統(tǒng)計(jì)所有設(shè)備數(shù)量（含備用）如利舊，請(qǐng)注明………………八、其他a1應(yīng)填寫通用或規(guī)范名稱應(yīng)統(tǒng)計(jì)所有設(shè)備數(shù)量（含備用）如利舊，請(qǐng)注明………………a涉及清洗工序的生產(chǎn)單元應(yīng)同時(shí)列出相應(yīng)設(shè)備等。8DB11/T2080—2023表A.3建設(shè)項(xiàng)目主要原輔材料及燃料表序號(hào)名稱主要成分包裝規(guī)格物態(tài)用途年使用量最大存儲(chǔ)量存儲(chǔ)方式備注a一、主要原輔材料使用情況1填寫通用或規(guī)范名稱（包括涉及的有毒有害污染物和揮發(fā)性有機(jī)物其占比情況說(shuō)明物料規(guī)格氣態(tài)說(shuō)明使用單元說(shuō)明年最大使用量（如回收應(yīng)說(shuō)明回收量）說(shuō)明單次最大存（包裝單位）說(shuō)明存儲(chǔ)容器或場(chǎng)所說(shuō)明危險(xiǎn)特性及理化特性、存儲(chǔ)場(chǎng)所……………………二、主要燃料消耗情況1填寫燃料名稱說(shuō)明燃料組分說(shuō)明規(guī)格氣態(tài)說(shuō)明用途說(shuō)明年最大消耗量（包括生產(chǎn)、生活）說(shuō)明最大存儲(chǔ)能力說(shuō)明存儲(chǔ)方式或輸送情況說(shuō)明危險(xiǎn)特性……………………a如欄目空間不夠，可另外做表說(shuō)明。9DB11/T2080—2023附錄B（資料性）主要生產(chǎn)單元、工序、設(shè)備及原輔材料參考表主要生產(chǎn)單元、工序、設(shè)備及原輔材料見(jiàn)表B.1。表B.1主要生產(chǎn)單元、工序、設(shè)備及原輔材料參考表單元主要工序主要設(shè)備主要原輔材料薄膜制備化學(xué)氣相沉積常壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備硅烷、六氟化鎢、四氯化鈦、氨、三氟化氮、一氧化二氮、四乙氧基硅烷、氫氣、氬氣物理氣相沉積真空蒸鍍?cè)O(shè)備、磁控濺射設(shè)備、直流物理氣相沉積設(shè)備鋁靶材、鈦靶材、銅靶材、金靶材、鉬靶材、氬氣、氮?dú)鉄嵫趸趸癄t、退火設(shè)備氯化氫、氧氣、氫氣、氮?dú)馔庋臃肿邮庋釉O(shè)備、氣相外延設(shè)備、液相外延設(shè)備二氯硅烷、四氯化硅、氫氣、鎵、氮?dú)夤饪掏磕z涂膠機(jī)光刻膠、光刻膠稀釋劑曝光光刻機(jī)氟氪氖顯影顯影機(jī)顯影液刻蝕干法刻蝕干法刻蝕機(jī)二氟甲烷、八氟環(huán)丁烷干法去膠干法去膠設(shè)備氧氣濕法刻蝕濕法刻蝕機(jī)刻蝕液、氨水、過(guò)氧化氫、鹽酸、硫酸、氫氟酸、氟化銨、磷酸、硝酸濕法去膠濕法去膠設(shè)備去膠液、硫酸、過(guò)氧化氫摻雜擴(kuò)散擴(kuò)散爐硅烷、二氯硅烷、氨氣、氮?dú)?、六氯乙硅烷、二異丙基氨基硅烷、氮?dú)怆x子注入離子注入機(jī)砷化氫、磷化氫、硼化氫、氬氣、氦氣、氙氣金屬沉積鎳制程鎳化學(xué)沉積設(shè)備硫酸鎳、甲基磺酸鎳、平坦劑、加速劑、抑制劑銅制程銅化學(xué)沉積設(shè)備銅電極、硫酸銅、平坦劑、加速劑、抑制劑金等其他金屬制程金屬沉積設(shè)備亞硫酸金鈉、氰化金鉀、甲基磺酸錫、甲基磺酸銀、平坦劑、加速劑、抑制劑化學(xué)機(jī)械研磨化學(xué)機(jī)械研磨研磨機(jī)研磨液、純水10DB11/T2080—2023表B.1主要生產(chǎn)單元、工序、設(shè)備及原輔材料參考表（續(xù)）主要生產(chǎn)單元主要工序主要設(shè)備主要原輔材料封裝貼膜減薄貼膜機(jī)、研磨機(jī)PVC膜、研磨液表面貼裝流焊機(jī)助焊劑、銀膠、焊膏芯片互聯(lián)鍵合設(shè)備、植球設(shè)備焊球、助焊劑、焊條、引線塑封成型塑封壓機(jī)塑封料電鍍電鍍?cè)O(shè)備銅錠、鎳錠、錫錠、硫酸、硝酸、平坦劑、加速劑、抑制劑、活化劑、焊膏、甲基磺酸錫、甲基磺酸銀、除油粉、甲基磺酸、退鍍液、電鍍液切割劃片機(jī)純水涉及清洗工序的生產(chǎn)單元酸液清洗清洗機(jī)硫酸、氫氟酸、硝酸、鹽酸、過(guò)氧化氫堿液清洗氨水有機(jī)溶劑清洗異丙醇11DB11/T2080—2023附錄C（資料性）主要生產(chǎn)流程、單元、工序及產(chǎn)排污類型示例圖C.1C.2C.3。圖C.1主要生產(chǎn)流程及產(chǎn)排污類型示例圖12DB11/T2080—2023圖C.2主要單元及產(chǎn)排污類型示例圖（以封裝單元為例）圖C.3主要工序及產(chǎn)排污類型示例圖（以清洗工序?yàn)槔?3DB11/T2080—2023附錄D（資料性）廢氣主要污染物、廢水主要污染物、主要危險(xiǎn)廢物參考表廢氣主要污染物見(jiàn)表D.1，廢水主要污染物見(jiàn)表D.2，主要危險(xiǎn)廢物見(jiàn)表D.3。表D.1廢氣主要污染物參考表類別主要生產(chǎn)單元主要工序廢氣種類主要污染物處理設(shè)施排放去向主體工程薄膜制備化學(xué)氣相沉積特種廢氣二噁英a尾氣處理設(shè)備酸性廢氣處理系統(tǒng)熱氧化特種廢氣氯化氫、氯氣尾氣處理設(shè)備外延特種廢氣氯化氫尾氣處理設(shè)備光刻涂膠有機(jī)廢氣非甲烷總烴、氮氧化物b、二氧化硫b、顆粒物b有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)環(huán)境曝光特種廢氣氟化物尾氣處理設(shè)備酸性廢氣處理系統(tǒng)顯影堿性廢氣氨堿性廢氣處理系統(tǒng)環(huán)境刻蝕干法刻蝕特種廢氣二氧化硫、顆粒物尾氣處理設(shè)備酸性廢氣處理系統(tǒng)濕法刻蝕濕法去膠酸性廢氣酸性廢氣處理系統(tǒng)環(huán)境有機(jī)廢氣非甲烷總烴、氮氧化物b、二氧化硫b、顆粒物b有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)摻雜擴(kuò)散特種廢氣氯化氫尾氣處理設(shè)備酸性廢氣處理系統(tǒng)離子注入特種廢氣砷及其化合物尾氣處理設(shè)備含砷廢氣處理系統(tǒng)環(huán)境金屬沉積銅制程酸性廢氣硫酸霧酸性廢氣處理系統(tǒng)環(huán)境金等其他金屬制程酸性廢氣氰化氫c封裝表面貼裝有機(jī)廢氣含塵廢氣封裝廢氣處理系統(tǒng)環(huán)境芯片互聯(lián)有機(jī)廢氣含塵廢氣塑封成型有機(jī)廢氣非甲烷總烴電鍍酸性廢氣硫酸霧酸性廢氣處理系統(tǒng)涉及清洗工序的生產(chǎn)單元酸液清洗酸性廢氣硫酸霧、氟化物、氮氧化物酸性廢氣處理系統(tǒng)環(huán)境堿液清洗堿性廢氣氨堿性廢氣處理系統(tǒng)有機(jī)溶劑清洗有機(jī)廢氣非甲烷總烴、氮氧化物b、二氧化硫b、顆粒物b有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)14DB11/T2080—2023表D.1廢氣主要污染物參考表（續(xù)）類別主要生產(chǎn)單元主要工序廢氣種類主要污染物處理設(shè)施排放去向輔助工程鍋爐天然氣燃燒鍋爐廢氣氮氧化物、顆粒物、二氧化硫低氮燃燒器環(huán)境環(huán)保工程生產(chǎn)廢水處理設(shè)施廢水處理廢水處理廢氣硫化氫、氨、臭氣濃度水噴淋系統(tǒng)環(huán)境a二噁英：尾氣處理設(shè)備采用焚燒工藝可能產(chǎn)生。bc氰化氫：使用含氰金屬沉積工藝產(chǎn)生。15DB11/T2080—2023表D.2廢水主要污染物參考表類別主要生產(chǎn)單元主要工序廢水種類主要污染物處理系統(tǒng)排水去向主體工程光刻刻蝕金屬沉積化學(xué)機(jī)械研磨封裝顯影濕法刻蝕濕法去膠鎳制程銅制程金等其他金屬制程化學(xué)機(jī)械研磨貼膜減薄電鍍切割含銅廢水含氰及其他含研磨廢水含氰及其他含金屬?gòu)U水研磨廢水pH值、懸浮物、五日生化需氧量、含氨廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量、氨氮、總氮pH值、懸浮物、五日生化需氧量、酸堿廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量pH值、懸浮物、五日生化需氧量、含氨廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量、氨氮、總氮pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化學(xué)需氧量、氟化物含氟廢水處理系統(tǒng)pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化學(xué)需氧量、總磷pH值、懸浮物、五日生化需氧量、有機(jī)廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量、總有機(jī)碳pH值、懸浮物、五日生化需氧量、含鎳廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量、總鎳pH值、懸浮物、五日生化需氧量、含銅廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量、總銅pH化學(xué)需氧量、總氰化物、總銀等系統(tǒng)apH值、懸浮物、五日生化需氧量、研磨廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量、總砷bpH值、懸浮物、五日生化需氧量、研磨廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量pH值、懸浮物、五日生化需氧量、含鎳廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量、總鎳pH值、懸浮物、五日生化需氧量、含銅廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量、總銅pH化學(xué)需氧量、總氰化物、總銀等系統(tǒng)apH值、懸浮物、五日生化需氧量、研磨廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量含氟廢水處理系統(tǒng)中和處理系統(tǒng)含氟廢水處理系統(tǒng)中和處理系統(tǒng)中和處理系統(tǒng)中和處理系統(tǒng)中和處理系統(tǒng)16DB11/T2080—2023表D.2廢水主要污染物參考表（續(xù)）主要生產(chǎn)類別單元

主要工序

廢水種類

主要污染物pH

處理系統(tǒng)

排水去向酸液清洗

酸堿廢水

化學(xué)需氧量

酸堿廢水處理系統(tǒng)

中和處理系統(tǒng)產(chǎn)單元純水制備系統(tǒng)

清洗純水制備

有機(jī)廢水濃水、反沖洗水

pH值、懸浮物、五日生化需氧量、含氨廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量、氨氮、總氮pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化學(xué)需氧量、氟化物含氟廢水處理系統(tǒng)pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化學(xué)需氧量、總磷pH值、懸浮物、五日生化需氧量、面活性劑pH值、懸浮物、五日生化需氧量、酸堿廢水處理系統(tǒng)化學(xué)需氧量

含氟廢水處理系統(tǒng)中和處理系統(tǒng)輔助工程

冷卻塔

循環(huán)冷卻

循環(huán)冷卻水排pH值、化學(xué)需氧量、可溶性固體總/

中和處理系統(tǒng)系統(tǒng) 水鍋爐排污鍋爐水

水

量pH值、化學(xué)需氧量、可溶性固體總/量pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化學(xué)需氧量、氨氮、總氮、總磷、含氟廢水處理系統(tǒng)洗滌塔 洗滌

氟化物

定期排污水

pH值、懸浮物、五日生化需氧量、含氨廢水處理系統(tǒng)

中和處理系統(tǒng)洗滌塔 洗滌 化學(xué)需氧量、氨氮、總氮

定期排污水

pH值、懸浮物、五日生化需氧量、含氟廢水處理系統(tǒng)環(huán)保工程洗滌塔 洗滌處理設(shè)施處理生活污水生活污水處理設(shè)施處理

生產(chǎn)廢水生活污水

化學(xué)需氧量、總砷pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化學(xué)需氧量、氨氮、總氮、總砷、中和處理系統(tǒng)氟化物pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化學(xué)需氧量、氨氮、總氮、總磷、活污水處理系統(tǒng)aab砷化鎵襯底的圓片制造產(chǎn)生。

市政管網(wǎng)17DB11/T2080—2023表D.3主要危險(xiǎn)廢物參考表類型生產(chǎn)單元主要工序危險(xiǎn)廢物廢物類別廢物代碼主體工程光刻涂膠廢光刻膠HW06廢有機(jī)溶劑與含有機(jī)溶劑廢物900-404-06顯影廢顯影液HW16感光材料廢物900-019-16刻蝕濕法刻蝕硫酸廢液HW34廢酸900-302-34磷酸廢液HW34廢酸900-303-34濕法去膠廢去膠劑HW06廢有機(jī)溶劑與含有機(jī)溶劑廢物900-404-06摻雜離子注入含砷廢物HW49其他廢物900-041-49金屬沉積鎳制程含鎳廢液HW17表面處理廢物336-054-17336-055-17銅制程硫酸銅廢液HW17表面處理廢物336-058-17336-062-17金等其他金屬制程含金氰廢液HW17表面處理廢物336-057-17336-063-17封裝電鍍含鎳廢液HW17表面處理廢物336-054-17336-055-17硫酸銅廢液HW17表面處理廢物336-058-17336-062-17廢堿液HW35廢堿900-352-35涉及清洗工序的生產(chǎn)單元酸液清洗硫酸廢液HW34廢酸900-300-34硝酸廢液HW34廢酸900-300-34有機(jī)溶劑清洗廢異丙醇HW06廢有機(jī)溶劑與含有機(jī)溶劑廢物900-402-06環(huán)保工程生產(chǎn)廢水處理設(shè)施廢水處理含銅污泥HW17表面處理廢物336-058-17336-062-17含鎳污泥HW17表面處理廢物336-054-17336-055-17離子交換樹(shù)脂HW13有機(jī)樹(shù)脂類廢物900-015-13廢氣處理系統(tǒng)廢氣處理廢活性炭HW49其他廢物900-041-4918DB11/T2080—2023附錄E（資料性）污染源源強(qiáng)核算相關(guān)附表廢氣污染源源強(qiáng)核算見(jiàn)表E.1，廢水污染源源強(qiáng)核算見(jiàn)表E.2，噪聲污染源源強(qiáng)核算見(jiàn)表E.3，固體廢物污染源源強(qiáng)核算見(jiàn)表E.4。表E.1廢氣污染源源強(qiáng)核算表產(chǎn)污單元廢氣類別污染物污染物產(chǎn)生治理措施污染物排放編號(hào)污染物廢氣產(chǎn)生量m3/h產(chǎn)生濃度mg/m3產(chǎn)生量kg/h處理工藝處理效率%廢氣排放量m3/h排放濃度mg/m3排放量kg/h年排放時(shí)間h/a年排放量t/a薄膜制備、光酸性廢氣G4氟化物……光刻等堿性廢氣G3氨……光刻、刻蝕、封裝等有機(jī)廢氣G2非甲烷總烴…………生產(chǎn)廢水處理設(shè)施廢水處理廢氣……氨……鍋爐鍋爐廢氣……氮氧化物……19DB11/T2080—2023表E.2廢水污染源源強(qiáng)核算表產(chǎn)污單元廢水類別污染物污染物產(chǎn)生治理措施污染物排放編號(hào)污染物廢水產(chǎn)生量m3/d產(chǎn)生濃度mg/L產(chǎn)生量kg/d處理工藝處理效率%廢水排放量m3/d排放濃度mg/L排放量kg/d年排放時(shí)間h/a年排放量t/a光刻、刻蝕等含氨廢水W1氨氮……刻蝕等酸堿廢水W2pH……刻蝕等含氟廢水W3氟化物……刻蝕、封裝等有機(jī)廢水W5化學(xué)需氧量……金屬沉積、封裝等含鎳廢水W6總鎳……含銅廢水W7總銅…………化學(xué)機(jī)械研磨、封裝等研磨廢水W9懸浮物……生活污水處理設(shè)施生活污水……化學(xué)需氧量……20DB11/T2080—2023表E.3噪聲污染源源強(qiáng)核算表產(chǎn)污單元分類編號(hào)噪聲源聲源類型（間斷、連續(xù)等）噪聲源強(qiáng)dB（A）降噪措施持續(xù)時(shí)間h降噪工藝降噪效果dB（A）廢氣處理系統(tǒng)N1風(fēng)機(jī)冷卻塔系統(tǒng)N2冷卻塔………………表E.4固體廢物污染源源強(qiáng)核算表產(chǎn)污單元分類編號(hào)固體廢物名稱固體廢物屬性a產(chǎn)生量t/a自行處置/利用量t/a委托處置/利用量t/a去向光刻、刻蝕等S1廢有機(jī)溶劑刻蝕等S3廢酸………………a明確一般工業(yè)固體廢物