缺陷檢查培訓演示

（優(yōu)選）缺陷檢查培訓現在是1頁\一共有23頁\編輯于星期二21xxCapabilities2現在是2頁\一共有23頁\編輯于星期二3現在是3頁\一共有23頁\編輯于星期二RunOverview4現在是4頁\一共有23頁\編輯于星期二RunonewaferInspectionQueue5現在是5頁\一共有23頁\編輯于星期二6現在是6頁\一共有23頁\編輯于星期二7現在是7頁\一共有23頁\編輯于星期二8現在是8頁\一共有23頁\編輯于星期二9現在是9頁\一共有23頁\編輯于星期二StoppingtheInspection10現在是10頁\一共有23頁\編輯于星期二DefectOverviewWhymonitordefects?

Toimproveproductionyields,defectsneedtobemonitoredandstatisticallyanalyzedateachstageofwaferproduction.11現在是11頁\一共有23頁\編輯于星期二DefectSort1.False:Foundnothingafterreviewwithinspectiondata.2.Unkown:Defectswerefoundbutthereisnosuitabledefectcodetoassign.3.Fallonparticle:Particleonsurfaceofpatten.

4.Infilmparticle:Particlewascontainedinfilm,suchaspoly,HDP,metalandsoon.HDPPoly12現在是12頁\一共有23頁\編輯于星期二5.Scratch:Especiallyforscratchcausedbyrobot,othertoolpartsorman-made.Defectmap:Defectiamge:MicroMacro13現在是13頁\一共有23頁\編輯于星期二6.Discolor:Colordifference7.Masking：Shouldbeetchedbutstillremian(poly,SiN,spacer,metalandsoon).

Someconnectmorethantwolines,it’sbridge(killer).14現在是14頁\一共有23頁\編輯于星期二8.Ringlikedefect:SuchasdefectscausedbyARCsplash,usuallyrelatedtoPHOTO.PolyMetal9.Grapelikedefect:InducesbyPHOTOPU.15現在是15頁\一共有23頁\編輯于星期二10.Residue：Alwayshappenafterwetstationclean.11.Pattenabnormal:Roughness,Defocus,Pattenshiftandsoon.RoughnessDefocusPattenshiftPattenAbnormal16現在是16頁\一共有23頁\編輯于星期二12.Concave:COP（Crystalorientedpits）,OxideLoss，Pits.13.Peeling:Patternshiftormissing（Wplugisoneofpeeling,alwaysappearatwaferedge.）17現在是17頁\一共有23頁\編輯于星期二14.Blind:CTorViahavenotbeenopened.15.Pattendamage:MetaldamagePolybrokenispattendamagetoo,alwayshappenduringHighImp.18現在是18頁\一共有23頁\編輯于星期二16.WResidue:1).CausedbyOxideLoss;2).CausedbyCMP.NORMALABNORMAL17.Under_Pat：Underlayerpatternfailissue.19現在是19頁\一共有23頁\編輯于星期二18.Salicide_abnormal:Salicidepoorformation.19.Grain:Includingpolyormetalgrain.20現在是20頁\一共有23頁\編輯于星期二20.Slurry:

21.PR/Polymer_remain:PRhasnotbeenstrippedcompletely,typicallycontainsCarbon21現在是21頁\一共有23頁\編輯于星期二22.Arcing:23.Lineopen:22現在是22頁\一共有23頁\編輯于星期二24.Corrosion:Causedbyetc