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文檔簡介
高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定申請書企業(yè)名稱:企業(yè)所在地區(qū):省市(區(qū)、自治州)認(rèn)定機(jī)構(gòu):申請日期:年月日聲明:本申請書上填寫的有關(guān)內(nèi)容和提交的資料均準(zhǔn)確、真實、合法、有效、無涉密信息,本企業(yè)愿為此承當(dāng)有關(guān)法律責(zé)任。法定代表人〔簽名〕:〔企業(yè)公章〕科技部、財政部、國家稅務(wù)總局編制二O一六年六月填報說明企業(yè)應(yīng)參照?高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理方法?、?國家重點支持的高新技術(shù)領(lǐng)域?〔國科發(fā)火〔2021〕32號〕和?高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作指引〔?國科發(fā)火〔2021〕195號〕的要求填報。本表內(nèi)的所有財務(wù)數(shù)據(jù)須出自專項報告、財務(wù)會計報告或納稅申報表。企業(yè)應(yīng)如實填報所附各表。要求文字簡潔,數(shù)據(jù)準(zhǔn)確、詳實。各欄目不得空缺,無內(nèi)容填寫“0〞;數(shù)據(jù)有小數(shù)時,保存小數(shù)點后2位。對企業(yè)知識產(chǎn)權(quán)情況采用分類評價方式,其中:創(chuàng)造專利〔含國防專利〕、植物新品種、國家級農(nóng)作物品種、國家新藥、國家一級中藥保護(hù)品種、集成電路布圖設(shè)計專有權(quán)等按I類評價;實用新型專利、外觀設(shè)計專利、軟件著作權(quán)等〔不含商標(biāo)〕按II類評價。“根底研究投入費(fèi)用總額〞是指:企業(yè)研究開發(fā)費(fèi)用總額中,為獲得科學(xué)與技術(shù)〔不包括社會科學(xué)、藝術(shù)或人文學(xué)〕新知識等根底研究活動支出的費(fèi)用總額。銷售收入=主營業(yè)務(wù)收入+其他業(yè)務(wù)收入企業(yè)總收入=收入總額-不征稅收入凈資產(chǎn)=資產(chǎn)總額-負(fù)債總額“近三年〞、“近一年〞和“申請認(rèn)定前一年內(nèi)〞:詳見?工作指引?三〔一〕“年限〞中的說明,“近三年〞即“年限〞中的“近三個會計年度〞。“研發(fā)活動〞:詳見?工作指引?三〔六〕1中“研究開發(fā)活動確定〞。“高新技術(shù)產(chǎn)品〔效勞〕收入〞:詳見?工作指引?三〔四〕1中“高新技術(shù)產(chǎn)品〔效勞〕收入〞的定義。IP代表知識產(chǎn)權(quán)編號;RD代表研究開發(fā)活動編號;PS代表高新技術(shù)產(chǎn)品〔效勞〕編號。IP、RD、PS后取兩位數(shù)〔01、02、……〕。
一、主要情況技術(shù)領(lǐng)域獲得知識產(chǎn)權(quán)數(shù)量(件)I類II類人力資源情況〔人〕職工總數(shù)科技人員數(shù)近三年經(jīng)營情況〔萬元〕年度種類凈資產(chǎn)銷售收入利潤總額第一年第二年第三年近三年研究開發(fā)費(fèi)用總額〔萬元〕其中在中國境內(nèi)研發(fā)費(fèi)用總額〔萬元〕根底研究投入費(fèi)用總額〔萬元〕近一年企業(yè)總收入〔萬元〕近一年高新技術(shù)產(chǎn)品〔效勞〕收入〔萬元〕申請認(rèn)定前一年內(nèi)是否發(fā)生過重大平安、重大質(zhì)量事故或嚴(yán)重環(huán)境違法行為□是□否
二、知識產(chǎn)權(quán)匯總表獲得知識產(chǎn)權(quán)數(shù)量(件)創(chuàng)造專利其中:國防專利植物新品種國家級農(nóng)作物品種國家新藥國家一級中藥保護(hù)品種集成電路布圖設(shè)計專有權(quán)實用新型外觀設(shè)計軟件著作權(quán)知識產(chǎn)權(quán)編號知識產(chǎn)權(quán)名稱類別授權(quán)日期授權(quán)號獲得方式IP…
三、人力資源情況表〔一〕總體情況企業(yè)職工科技人員總數(shù)〔人〕其中:在職人員兼職人員臨時聘用人員外籍人員留學(xué)歸國人員千人方案人員〔二〕全體人員結(jié)構(gòu)學(xué)歷博士碩士本科大專及以下人數(shù)職稱高級職稱中級職稱初級職稱高級技工人數(shù)年齡30及以下31-4041-5051及以上人數(shù)
四、企業(yè)研究開發(fā)活動情況表〔近三年執(zhí)行的活動,按單一活動填報〕研發(fā)活動編號:RD01研發(fā)活動名稱新款顯示屏外殼組件起止時間2021.03.08~2021.04.20技術(shù)領(lǐng)域外觀設(shè)計及其機(jī)械制造技術(shù)來源企業(yè)自有技術(shù)知識產(chǎn)權(quán)編號研發(fā)經(jīng)費(fèi)總預(yù)算〔萬元〕研發(fā)經(jīng)費(fèi)近三年總支出〔萬元〕其中第一年第二年第三年目的及組織實施方式〔限400字〕推動行業(yè)內(nèi)多層厚銅XXXXXXXXXXXXXXXX產(chǎn)品的技術(shù)進(jìn)步,為電子行業(yè)、通訊行業(yè)、汽車產(chǎn)業(yè)以及相關(guān)聯(lián)的行業(yè)提供高品質(zhì),高可靠性的厚銅XXXXXXXXXXXXXXXX產(chǎn)品。同時在工程開展的進(jìn)程中,提升公司產(chǎn)品科研成果的產(chǎn)業(yè)化、商業(yè)化水平,全面推動公司工程工藝技術(shù)能力、生產(chǎn)管理、設(shè)備配套、品質(zhì)管控等方面的進(jìn)步,到達(dá)國際先進(jìn)水平。公司的組織實施方式為在以市場為導(dǎo)向,研發(fā)部主導(dǎo),制造部、品保部、方案部、設(shè)備部、財務(wù)等部門配合下開展工程。工程由研發(fā)經(jīng)理統(tǒng)籌,并針對工程任命主要負(fù)責(zé)工程師和假設(shè)干研發(fā)工程師組成。工程責(zé)任工程師由研發(fā)經(jīng)理任命或競爭上崗。工程主要負(fù)責(zé)工程師帶著研發(fā)工程師按制定的工作方案來完成工程工作,并達(dá)成目標(biāo)指標(biāo)。
核心技術(shù)及創(chuàng)新點〔限400字〕4oz厚銅XXXXXXXXXXXXXXXX產(chǎn)品的核心技術(shù)在于壓合控制介質(zhì)層厚度,控制材料的抗電性能,使得壓合后的PCB能抵抗2500V以上的高壓,以及290°CIR-Reflow4次無爆板分層產(chǎn)生;我司通過一系列技術(shù)的調(diào)整,采用高樹脂含量,細(xì)纖維絲的玻璃布,使用真空壓合設(shè)備,經(jīng)過參數(shù)調(diào)整控制樹脂流量來制作4oz產(chǎn)品,并使其完全到達(dá)抗電性能和抗熱沖擊性能。我們還將采用內(nèi)層線路填充樹脂、調(diào)整鍍錫工藝、調(diào)整蝕刻藥水配比等方法來實現(xiàn)底銅6oz以上PCB產(chǎn)品的制作取得的階段性成果〔限400字〕我司已經(jīng)研發(fā)成功了4oz銅厚的pcb產(chǎn)品,并實現(xiàn)了該類產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。目前我司該類產(chǎn)品已經(jīng)在進(jìn)行大批量的生產(chǎn)。4oz產(chǎn)品開發(fā)成功,推動了我司厚銅板生產(chǎn)質(zhì)的變化,極大的提升了厚銅板生產(chǎn)的良率,對于4OZ以下銅厚的產(chǎn)品,在生產(chǎn)中遇到的困難得到了有效的解決,產(chǎn)品的抗電性能等技術(shù)指標(biāo)完全達(dá)標(biāo)。由研發(fā)制造厚銅產(chǎn)品獲得了“耐壓測試裝置〃實用新型專利五、企業(yè)年度研究開發(fā)費(fèi)用結(jié)構(gòu)明細(xì)表(按近三年每年分別填報)年度單位:萬元科目累計發(fā)生額研發(fā)工程編號RD01RD02RD03???RD…合計內(nèi)部研究開發(fā)費(fèi)用其中:人員人工費(fèi)用直接投入費(fèi)用折舊費(fèi)用與長期待攤費(fèi)用
企業(yè)填報人簽字:日期:六、上年度高新技術(shù)產(chǎn)品〔效勞〕情況表〔按單一產(chǎn)品〔效勞〕填報〕編號:PSxx產(chǎn)品〔效勞〕名稱四層HDI電路板技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)來源上年虜銷售收入〔萬元〕是否主要產(chǎn)品〔效勞〕□是□否知識產(chǎn)權(quán)編號
關(guān)鍵技術(shù)及主要技術(shù)指標(biāo)〔限400字〕1.通過線路圖形成像在單張或2張PCB板基材上完成電路圖形,形成內(nèi)層圖形,并設(shè)計上必要的層間對準(zhǔn)工具標(biāo)靶;用環(huán)氧樹脂半固化片將銅箔和內(nèi)層基板相結(jié)合;其制作滿足IPC國際通行標(biāo)準(zhǔn)的要求。以內(nèi)層標(biāo)靶為基準(zhǔn)定位,并使用高精密鉆機(jī)進(jìn)行成孔;成孔精度咼達(dá)+/-0.05mm;對孔內(nèi)進(jìn)行化銅處理,實現(xiàn)層間導(dǎo)通,孔內(nèi)銅厚達(dá)20um以上;精密的線路圖像轉(zhuǎn)移以及穩(wěn)定、可靠的線路蝕刻技術(shù),公差可控制在+/-0.0125mm的范圍內(nèi);6.美觀可靠的阻焊涂布技術(shù),其制作滿足IPC國際通行標(biāo)準(zhǔn)的要求。穩(wěn)定、可靠的成型技術(shù),成型公差可以控制在0.1mm范圍內(nèi)。與同類產(chǎn)品〔效勞〕的競爭優(yōu)勢〔限400字〕在市場上,我司所生產(chǎn)的四層HDI電路板具有多方面的競爭優(yōu)勢:產(chǎn)品選用品質(zhì)優(yōu)良的原材料,抗電性能和抗老化性能符合IPC國際通行標(biāo)準(zhǔn)的要求。產(chǎn)品完全符合RoHs要求,符合UL要求產(chǎn)品具有更高的位置精度,尺寸精度所有產(chǎn)品100%經(jīng)過電測試,100%保證產(chǎn)品的電氣性能知識產(chǎn)權(quán)獲得情況及其對產(chǎn)品〔效勞〕在技術(shù)上發(fā)揮的支持作用〔限400字〕本產(chǎn)品的核心技術(shù)已經(jīng)申請獲得“XXXX〃,專利號:XXXX的實用新型專利,知識產(chǎn)權(quán)一方面能很好的保護(hù)研發(fā)成果不被簡單復(fù)制抄襲,為產(chǎn)品在市場中的推廣提供了有力保障;另外,知識產(chǎn)權(quán)為此類產(chǎn)品的持續(xù)開發(fā)墊定了根底,促使公司進(jìn)行持續(xù)研發(fā)。
七、企業(yè)創(chuàng)新能力知識產(chǎn)權(quán)對企業(yè)競爭力的作用〔限400字〕公司一直以來非常注重產(chǎn)品的研發(fā),秉承以產(chǎn)品創(chuàng)新來保持市場競爭力的宗旨。在公司研發(fā)的根底上,公司注重知識產(chǎn)權(quán)管理。一是,充公利用知識產(chǎn)權(quán)制度提咼參與企業(yè)生產(chǎn)經(jīng)營活動的各要素的效能;二是,加強(qiáng)知識產(chǎn)權(quán)保護(hù),使企業(yè)獨享知識產(chǎn)權(quán)帶來的市場利益,保證企業(yè)的經(jīng)營平安。近年來,公司加強(qiáng)對知識產(chǎn)權(quán)保護(hù),進(jìn)步完善知識產(chǎn)權(quán)管理與鼓勵制度,XXXX共申請專利100余項,已授權(quán)21工程,其中,近三年獲得授權(quán)創(chuàng)造和實用新型專利XXX個,軟件著作權(quán)XX個。主要涉及XXXX領(lǐng)域,公司的知識產(chǎn)權(quán)很好的保護(hù)了公司研發(fā)成果在核心產(chǎn)品在市場中獨占使用,進(jìn)而保證產(chǎn)品在市場上的競爭性、增加企業(yè)的盈利最終提升企業(yè)的競爭能力??萍汲晒D(zhuǎn)化情況〔限400字〕在持續(xù)研發(fā)的根底上,公司亦特別注重研發(fā)成果的轉(zhuǎn)化,近三年公司研發(fā)立項20個,工程均取得了較好的成果,科技成果轉(zhuǎn)化的年平均數(shù)到達(dá)了6項以上。研發(fā)成果相應(yīng)的轉(zhuǎn)化到了公司核心的4類產(chǎn)品中,這4類產(chǎn)品通過了第三方權(quán)威機(jī)構(gòu)的檢測,并已大批量生產(chǎn)銷售,市場反響良好,給企業(yè)帶來了可觀的利潤。近三年公司研發(fā)的成果,并獲創(chuàng)造和實用新型專利6個,軟件著作權(quán)5個。
研究開發(fā)與技術(shù)創(chuàng)新組織管理情況〔限400字〕為了保證研發(fā)的效率,公司不斷完善技術(shù)創(chuàng)新和研究開發(fā)的組織管理水平。在公司成立之初就成立了研發(fā)部門,該部門負(fù)責(zé)研發(fā)的統(tǒng)籌和具體工作。研發(fā)部門制定了企業(yè)研究開發(fā)的組織管理制度,建立了研發(fā)投入核算體系,財務(wù)部門按國家會計準(zhǔn)那么要求根據(jù)研發(fā)工程編制研發(fā)費(fèi)用輔助賬。為保證成果轉(zhuǎn)化的效率,建立了科技成果轉(zhuǎn)化的組織實施與鼓勵獎勵制度,成立了創(chuàng)新人才與市場和實際應(yīng)用方面的交流和平臺。為保證持續(xù)研發(fā)能力,公司建立了人才的培養(yǎng)和鼓勵,科技人員的培養(yǎng)進(jìn)修、職工技能培訓(xùn)、優(yōu)秀人才引進(jìn),以及人才績效評價獎勵制度。公司從多個方面增強(qiáng)研發(fā)能力,與研發(fā)機(jī)構(gòu)進(jìn)行了緊密的產(chǎn)學(xué)研合作,近年來與*****展開了長期的戰(zhàn)略合作,并就*****工程展開合作。管理與科技人員情況〔限400字
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