基于ZEMAX微透鏡陣列光束整形

微透鏡陣列光束整形1主要內(nèi)容背景介紹1ZEMAX建模221、背景介紹激光器發(fā)出的激光束的空間強(qiáng)度分布呈高斯分布。激光的能量不均勻分布特性將會(huì)導(dǎo)致局部溫度升高而破壞材料特性。因此，需將高斯光束轉(zhuǎn)化為能量均勻分布的平頂高斯光束以消除不良影響。整形1、背景介紹黑盒子光學(xué)系統(tǒng)41、背景介紹1893年，K?HLER51、背景介紹什么是微透鏡陣列？61、背景介紹整形原理72、ZEMAX建模實(shí)驗(yàn)要求：微透鏡陣列的建立以及探測(cè)器的建立8微透鏡陣列聚焦鏡光屏2、ZEMAX建模非序列光源+器件+探測(cè)器92、ZEMAX建模光源-SourceGaussian(高斯光源)參數(shù)說(shuō)明LayoutRays表示的是在圖示中顯示的光線條線，一般設(shè)為50條以?xún)?nèi)，易于觀察。AnalysisRays表示是計(jì)算光路圖時(shí)參與計(jì)算的光線，一般設(shè)為10萬(wàn)條以上，得到結(jié)果較為準(zhǔn)確。Color屬性中，0和1為藍(lán)色，2為綠色，3為紅色。102、ZEMAX建模BeamSize和Position是兩個(gè)比較重要的參數(shù)。BeamSize指的是光源的發(fā)光面的直徑，即,單位為mm。Position指的是光源的發(fā)光面與高斯光束束腰位置的距離，即z。112、ZEMAX建模微透鏡陣列的建模由于03版本沒(méi)有微透鏡陣列這個(gè)器件，所以只能由多個(gè)小透鏡拼接而成不能使用standardlens，因?yàn)閳A形鏡拼接過(guò)程中會(huì)有縫隙，需找出方形鏡器件Biconic122、ZEMAX建模微透鏡陣列的建模-biconicRadialheight：Y方向的半高度；Xhalfwidth：為0時(shí)，器件為圓形的，不為0時(shí)，則為方形的，在此時(shí)，我們當(dāng)然要讓它不為0；Rx1,Ry1,Rx2,Ry2:透鏡的前后表面在x、y方向的曲率，此處，為了簡(jiǎn)化模型Rx1,Ry1均為0，表示平面，Rx2,Ry2相等。132、ZEMAX建模參考參數(shù)：142、ZEMAX建模九個(gè)微透鏡坐標(biāo)分布-只在XY方向進(jìn)行平移152、ZEMAX建模聚焦透鏡參數(shù)可自已設(shè)等效焦距公式162、ZEMAX建模探測(cè)器

DetectorRectangleMaterial：若設(shè)為ABSORB，則會(huì)吸收光線；若設(shè)為MIRROR，則充當(dāng)平面反射鏡，會(huì)反射光線；若設(shè)為空格，則光線會(huì)透過(guò)它。X(Y)HalfWith：探測(cè)器的長(zhǎng)寬X(Y)