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文檔簡介

刻蝕刻蝕機的組成及工作原1-1圖1-2機布局1-3①刻蝕單元模塊chuckwafer單元搭載兩個擺臂：刻蝕液擺臂：噴灑刻蝕液；擺臂：噴灑DIW和N2DIWOverEtch下的wafer表面處理。②化學品溫控系統(tǒng)③機械手傳送系統(tǒng)Loadportwafer④軟件控制系統(tǒng)CassetteInformationCassette⑤化學品供應系統(tǒng)PUMP設備經經調研，設備經費為362萬元經調研，設備臺經費為362萬元，本項目共需購置1臺，共362萬元設備費用組成如下表2-1序設備名數單（萬元?。ㄈf元1362

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