JJF 1613-2017掠入射X射線反射膜厚測(cè)量?jī)x器校準(zhǔn)規(guī)范

中華人民共和國(guó)國(guó)家計(jì)量技術(shù)規(guī)范

JJF1613—2017

掠入射X射線反射膜厚測(cè)量?jī)x器

校準(zhǔn)規(guī)范

CalibrationSpecificationforThinFilmThicknessMeasurement

InstrumentsbyGrazingIncidenceX-RayReflectivity

2017-02-28發(fā)布2017-05-28實(shí)施

國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

JJF1613—2017

掠入射X射線反射膜厚測(cè)量?jī)x器

??

校準(zhǔn)規(guī)范???????????????

??

?JJF1613—2017?

?????????????

CalibrationSpecificationforThinFilmThickness??

??

MeasurementInstrumentsby

GrazingIncidenceX-RayReflectivity

歸口單位全國(guó)新材料與納米計(jì)量技術(shù)委員會(huì)

:

主要起草單位中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院

:

參加起草單位常州市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究所

:

本規(guī)范委托全國(guó)新材料與納米計(jì)量技術(shù)委員會(huì)負(fù)責(zé)解釋

JJF1613—2017

本規(guī)范主要起草人

:

任玲玲中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院

()

高慧芳中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院

()

參加起草人

:

周志峰常州市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究所

()

JJF1613—2017

目錄

引言

………………………(Ⅲ)

范圍

1……………………(1)

引用文件

2………………(1)

概述

3……………………(1)

計(jì)量特性

4………………(1)

儀器θ角示值誤差及重復(fù)性

4.12……………………(1)

膜厚測(cè)量示值誤差

4.2…………………(1)

膜厚測(cè)量重復(fù)性

4.3……………………(1)

校準(zhǔn)條件

5………………(1)

環(huán)境條件

5.1……………(1)

測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)及其他設(shè)備

5.2………………(2)

校準(zhǔn)項(xiàng)目和校準(zhǔn)方法

6…………………(2)

校準(zhǔn)項(xiàng)目

6.1……………(2)

校準(zhǔn)方法

6.2……………(2)

校準(zhǔn)結(jié)果表達(dá)

7…………(3)

復(fù)校時(shí)間間隔

8…………(3)

附錄儀器膜厚測(cè)量示值誤差的不確定度評(píng)定示例

A………………(4)

附錄校準(zhǔn)記錄格式

B…………………(7)

附錄校準(zhǔn)證書內(nèi)頁(yè)格式

C()………(9)

Ⅰ

JJF1613—2017

引言

國(guó)家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則通用計(jì)量術(shù)語(yǔ)及定義

JJF1071《》、JJF1001《》、

測(cè)量不確定度評(píng)定與表示和測(cè)量?jī)x器特性評(píng)定共同構(gòu)成支

JJF1059.1《》JJF1094《》

撐本規(guī)范制定工作的基礎(chǔ)性系列規(guī)范

。

本規(guī)范參考了射線反射法評(píng)估薄膜的厚度密度和界面寬度

ISO16413:2013《X、

儀器要求準(zhǔn)直和定位數(shù)據(jù)收集數(shù)據(jù)分析和報(bào)告

、、、》(Evaluationofthickness,

densityandinterfacewidthofthinfilmsbyX-rayreflectometry—Instrumentalrequirements,

的相關(guān)內(nèi)容

alignmentandpositioning,datacollection,dataanalysisandreporting)。

本規(guī)范為首次發(fā)布

。

Ⅲ

JJF1613—2017

掠入射X射線反射膜厚測(cè)量?jī)x器校準(zhǔn)規(guī)范

1范圍

本規(guī)范適用于掠入射射線反射膜厚測(cè)量?jī)x器以下簡(jiǎn)稱儀器的校準(zhǔn)

X()。

2引用文件

本規(guī)范引用了下列文件

:

多晶射線衍射儀檢定規(guī)程

JJG629—2014X

國(guó)家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則

JJF1071

凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本規(guī)范凡是不注日期的引用文

,;

件其最新版本包括所有的修改單適用于本規(guī)范

,()。

3概述

儀器一般由準(zhǔn)直的入射射線光源樣品臺(tái)探測(cè)系統(tǒng)等部分組成見圖其

X、、(1)。

工作原理為當(dāng)射線以很小的角度入射到樣品表面時(shí)會(huì)發(fā)生界面反射經(jīng)膜層后反

:X,

射強(qiáng)度會(huì)發(fā)生變化得到反射強(qiáng)度和反射角的關(guān)系通過數(shù)據(jù)處理可得到膜層厚度

,,。