GB/T 9797-2005金屬覆蓋層鎳＋鉻和銅＋鎳＋鉻電鍍層

ICS25.220.40A29中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T9797—2005/ISO1456:2003代替GB/T9797-1997金屬覆蓋層鎳+鉻和銅+鎳+鉻電鍍層Metaliiccoatings-Electroplatedcoatingsofnickelpluschromiumandofcopperplusnickelpluschromium(ISO1456:2003.IDT)2005-10-12發(fā)布2006-04-01實(shí)施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T9797-2005/ISO1456：2003次前言引言1池圍2規(guī)范性引用文件3術(shù)語和定義需方應(yīng)向電鍍方提供的信息5服役條件號·……6標(biāo)識7要求8抽樣附錄A（資料性附錄）各種服役條件號相對應(yīng)的服役環(huán)境舉例附錄B（規(guī)范性附錄）鉻鍍層中孔隙密度和裂紋密度的測量（規(guī)范性附錄）附錄C）厚度測量方法（規(guī)范性附錄)附錄D延展性試驗13（規(guī)范性附錄)附錄E電沉積鎳層含硫量的測定參考資料

GB/T9797-2005/ISO1456:2003本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO1456:2003(E）《金屬覆蓋層鎳十鉻和銅十鎳十鉻電鍍層》(英文版)本標(biāo)淮根據(jù)ISO1456:2003(E)翻譯起草，本標(biāo)準(zhǔn)對應(yīng)1S0O1456作了如下修改:按國內(nèi)現(xiàn)有的覆蓋層系列標(biāo)準(zhǔn)習(xí)慣.標(biāo)準(zhǔn)名稱前加上“金屬覆蓋層"：取消了國際標(biāo)準(zhǔn)的前言，增加了我國標(biāo)準(zhǔn)前言;為便于使用,引用了采用國際標(biāo)準(zhǔn)的我國標(biāo)準(zhǔn)：用"本標(biāo)準(zhǔn)"代替“本國際標(biāo)準(zhǔn)"。本標(biāo)準(zhǔn)代替GB/T9797—1997《金屬覆蓋層鎳十鉻和銅十鎳十鉻電鍍層》本標(biāo)準(zhǔn)與GB/T9797—1997相比，主要變化如下：補(bǔ)充了引言：修改了適用范圍的說明；增加了引用標(biāo)準(zhǔn)；增加了術(shù)語和定義：修改了第4章需方和電鍍方應(yīng)提供的信息：修改了服役條件號的劃分：增加了第6章鍍層標(biāo)識和重新編制了對應(yīng)的圖表和注；合并了1997版標(biāo)準(zhǔn)中第7章第9章部分內(nèi)容，使之更明確；增加了附錄C、附錄D、附錄E。本標(biāo)準(zhǔn)附錄八為資料性附錄.附錄B、附錄C、附錄D、附錄E為規(guī)范性附錄本標(biāo)準(zhǔn)由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會提出本標(biāo)準(zhǔn)由全國金屬與非金屬覆蓋層標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：武漢材料保護(hù)研究所、浙江新豐企業(yè)有限責(zé)任公司、廣東金暉電鍍廠本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：賈建新、毛祖國、何杰、鄭秀林、林云峰本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：-GB9797-1988.GB/T9797-1997。

GB/T9797-2005/ISO1456:2003在零件制造中電鍍裝飾性的鎳十鉻和銅十鎳十鉻鍍層.可用于增強(qiáng)零件外觀裝飾和防腐蝕性能。防腐蝕性能取決于鍍層的厚度和類型?？偟膩碚f.多層鎳比同等厚度的單層鎳能提供更好的防腐蝕性微裂紋狀態(tài)的鉻鍍層比常規(guī)鉻鍍層能提供更好的保護(hù)，

GB/T9797-2005/ISO1456:2003金屬覆蓋層鎳+鉻和銅十鎳+鉻電鍍層1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了在鋼鐵、鋅合金、銅和銅合金、鋁和鋁合金上，提供裝飾性外觀和增強(qiáng)防腐蝕性的鎳+格和銅十鎳十鉻電鍍層的要求。規(guī)定了不同厚度和種類鍍層的標(biāo)識,提供了電鍍制品暴露在對應(yīng)服役環(huán)境下鍍層標(biāo)識選擇的指南。本標(biāo)準(zhǔn)未規(guī)定電鍍前基體金屬的表面狀態(tài),本標(biāo)準(zhǔn)不適用于未加工成形的薄板、帶材、線材的電鍍，也不適用于螺紋緊固件或螺旋彈簧上的電鍍。GB/T12600規(guī)定了塑料上銅+鎳+鉻電鍍層的要求。GB/T9798規(guī)定了未鍍鉻面層的相同鍍層的要求。GB/T12332和GB/T11379分別規(guī)定了工程用鎳和工程用鉻電鍍層的要求。規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而，鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本均適用于本標(biāo)準(zhǔn)。GB/T3138金屬鍍覆和化學(xué)處理與有關(guān)過程術(shù)語(GB/T3138—1995.neqISO2079:1981)GB/T4955金屬覆蓋層覆蓋層厚度測量陽極溶解庫侖法(GB/T4955—1997.idtISO2177:1985）GB/T5270金屬基體上的金屬覆蓋層(電沉積層和化學(xué)沉積層)附著強(qiáng)度試驗方法（GB/T5270-1985.eqvISO2819:1980）GB/T6461—2002金屬基體上金屬和其他無機(jī)覆蓋層經(jīng)腐蝕試驗后的試樣和試件的評級（ISO10289：1999.1DT）GB/T6462金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法(GB/T6462—1986.eqvISO1463:1982）GB/T6463金屬和其他無機(jī)覆蓋層厚度測量方法的評述(GB/T6463—1986.qvISO3882:1986）GB/T6465金屬和其他無機(jī)覆蓋層離蝕膏腐蝕試驗(CORR試驗）（GB/T6465—1986.eqvISO4541:1978）GB/T10125—1997人造氣氰腐蝕試驗鹽霧試驗(eqvISO9227:1990）GB/T12334金屬和其他非無機(jī)覆蓋層關(guān)于厚度測量的定義和一般規(guī)則(idtISO2064:1996)GB/T12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾計數(shù)抽樣檢查程序（GB/T12609:2005.ISO4519:1980.IDT)GB/T13744磁性及非磁性基體上鎳電鍍層厚度的測量(GB/T13744—1992.idtISO2361: