標準解讀

GB/T 30701-2014《表面化學分析 硅片工作標準樣品表面元素的化學收集方法和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定》是一項國家標準，主要針對硅片表面微量或痕量元素的分析提供了標準化的方法。該標準詳細規(guī)定了使用全反射X射線熒光光譜技術（TXRF）對硅片表面上特定元素進行定量分析的具體步驟和技術要求。

根據(jù)此標準，首先需要制備適合TXRF分析的工作標準樣品。這一步驟包括但不限于清潔硅片表面、沉積已知濃度的目標元素以及可能還需要加入內標物以提高測量準確性。對于如何正確處理這些樣品，文檔中給出了明確指導，比如推薦使用的清洗劑類型及其操作條件等信息。

接下來是TXRF分析過程本身。標準中定義了從儀器設置到數(shù)據(jù)采集的一整套流程，確保不同實驗室之間可以獲得一致的結果。這涵蓋了選擇適當?shù)募ぐl(fā)源、確定最佳入射角、設定合適的檢測時間等因素。此外，還特別強調了背景校正的重要性，并提出了幾種可行的方法來減小非特異性信號的影響。

最后，在完成所有實驗后，標準建議采用特定算法計算出目標元素的實際含量。這部分內容不僅涉及基本的數(shù)據(jù)處理技巧，如扣除空白值、利用內標法進行校準等，還包括了更高級的數(shù)據(jù)分析策略，例如通過建立標準曲線來進行定量分析。


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....

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  • 2014-06-09 頒布
  • 2014-12-01 實施
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文檔簡介

ICS7104040

G04..

中華人民共和國國家標準

GB/T30701—2014/ISO173312004

:

表面化學分析硅片工作標準樣品表面

元素的化學收集方法和全反射X射線

熒光光譜法TXRF測定

()

Surfacechemicalanalysis—Chemicalmethodsforthecollectionofelements

fromthesurfaceofsilicon-waferworkingreferencematerialsandtheir

determinationbtotal-reflectionX-rafluorescenceTXRFsectrosco

yy()ppy

(ISO17331:2004,IDT)

2014-06-09發(fā)布2014-12-01實施

中華人民共和國國家質量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標準化管理委員會

GB/T30701—2014/ISO173312004

:

目次

前言

…………………………Ⅲ

引言

…………………………Ⅳ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術語和定義

3………………1

縮略語

4……………………2

試劑

5………………………2

儀器設備

6…………………5

試樣制備及其測量環(huán)境

7…………………5

校準試樣的制備

8…………………………6

繪制校準曲線

9……………7

工作標準樣品上鐵和或鎳的收集

10/……………………8

工作標準樣品上所收集鐵和或鎳的測定

11/……………9

精密度

12……………………9

測試報告

13…………………9

附錄資料性附錄國際實驗室間試驗項目結果

A()……………………11

附錄資料性附錄國際實驗室間試驗項目的和測量結果

B()GF-AASICP-MS……14

Ⅰ

GB/T30701—2014/ISO173312004

:

前言

本標準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標準使用翻譯法等同采用表面化學分析硅片工作標準樣品表面元素的化學

ISO17331:2004《

收集方法和全反射射線熒光光譜法測定

X(TXRF)》。

本標準納入了的修正內容這些修正內容涉及的條款已通過在其外

ISO17331:2004/Amd.1:2010,

側頁邊空白位置的垂直雙線進行了標示

(‖)。

本標準由全國微束分析標準化技術委員會提出并歸口

(SAC/TC38)。

本標準起草單位中國計量科學研究院

:。

本標準主要起草人王海宋小平王梅玲高思田馮流星

:、、、、。

Ⅲ

GB/T30701—2014/ISO173312004

:

引言

在半導體工業(yè)領域普遍采用全反射射線熒光光譜法測量硅片表面的金屬雜質

,X(TXRF)。

規(guī)定了測量硅片表面金屬雜質原子表面密度介于102142

ISO147061×10atoms/cm~1×10atoms/cm

范圍的方法也規(guī)定了原子表面密度介于82122范圍的氣相

TXRF,5×10atoms/cm~5×10atoms/cm

分解方法

(VPD)。

在超大規(guī)模集成電路制造中目前需要對硅片表面非常低含量低于102的金

(ULSI),(10atoms/cm)

屬雜質進行測量

。

低含量金屬雜質的標準樣品在分析中很重要見但是標準樣品的使用壽命有

TXRF(ISO14706),

限尤其在考慮到表面污染時因此需要對工作標準樣品的制備方法進行標準化

,。,。

本標準適用于計算標準硅片和試驗硅片表面的金屬雜質含量在不同國家的個實驗室間完成的

。9

試驗表明本標準方法具有良好的復現(xiàn)性和重復性

,。

Ⅳ

GB/T30701—2014/ISO173312004

:

表面化學分析硅片工作標準樣品表面

元素的化學收集方法和全反射X射線

熒光光譜法TXRF測定

()

1范圍

本標準規(guī)定了硅片工作標準樣品表面元素鐵和或鎳的化學收集方法氣相分解法或直接酸性液滴

/(

分解法和全反射射線熒光光譜法測定

)X(TXRF)。

注可采用石墨爐原子吸收光譜法或電感耦合等離子體質譜法代替全反射射線熒光光譜法來測定所收集的

:X

元素

。

本標準適用于原子表面密度介于92112范圍的鐵和或鎳

6×10atoms/cm~5×10atoms/cm/。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

測量方法與結果的準確度正確度與精密度第部分確定標準測量方

GB/T6379.2—2004()2:

法重復性和復現(xiàn)性的基本方法

(ISO5725-2:1994,IDT)

潔凈室和相關控制環(huán)境第部分空氣潔凈度的分級

ISO14644-1:19991:(Cleanroomsand

associatedcontrolledenvironments—Part1:Classificationofaircleanliness)

表面化學分析硅片表面元素污染的全反射射線熒光光譜法測定

ISO14706:2000X(TXRF)

[Surfacechemicalanalysi

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