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文檔簡介
§3.1載流子的統(tǒng)計分布函數(shù)及能量狀態(tài)密度 §3.2本征半導體的載流子濃度 §3.3雜質(zhì)半導體的載流子濃度§3.4簡并半導體 第三章半導體中熱平衡載流子的統(tǒng)計分布返回1.什么是狀態(tài)密度?為何引入狀態(tài)密度的概念?(掌握) 2.如何確定k空間狀態(tài)密度?導帶底及價帶頂狀態(tài)密度是如何確定的?(掌握) 3.什么是費米分布函數(shù)?費米能級的物理意義是什么?(掌握) 4.什么是玻爾茲曼函數(shù)?何為簡并與非簡并系統(tǒng)?(掌握) 5.導帶電子濃度與價帶空穴濃度及其乘積按照什么公式計算?如何證明這些計算公式?(掌握) §3.1載流子的統(tǒng)計分布函數(shù)及能量狀態(tài)密度
返回設能量在間隔內(nèi)有個量子態(tài),則量子狀態(tài)密度為
物理意義:在能量E處單位能量間隔所具有的量子狀態(tài)數(shù)理論意義:本章研究的目的是預測載流子的濃度,也就是要解決導帶有多少電子,價帶有多少空穴。而要解決此問題,首先要解決導帶量子態(tài)隨能量的變化是怎樣分布的,其次再解決電子是如何占據(jù)這些能量量子態(tài)的。解決前一個問題就必須引入狀態(tài)密度函數(shù),一旦該函數(shù)確定,量子態(tài)隨能量如何分布的就知道了1.什么是狀態(tài)密度?為何引入狀態(tài)密度的概念?(掌握)返回k空間量子態(tài)密度(即單位k空間體積的量子態(tài)數(shù))為2(V/8π3)導帶狀態(tài)密度為(極值點在k=0,等能面為球面)
對實際的硅鍺,等能面為旋轉(zhuǎn)橢球面
價帶頂:
對實際的硅鍺是兩個極值相重合的能帶
2.如何確定k空間狀態(tài)密度?導帶底及價帶頂狀態(tài)密度是如何確定的?(掌握)
返回(1)描述電子占據(jù)能級的幾率函數(shù)稱為費米分布函數(shù)(2)上式中的EF稱為費米能級:因此費米能級的物理意義是系統(tǒng)的化學勢函數(shù)。當T=0時,對于小于EF的所有能級被電子占據(jù)的幾率1,大于EF所有能級被電子占據(jù)的幾率為零當T>0時,對于小于EF的所有能級被電子占據(jù)的幾率>1/2,大于EF所有能級被電子占據(jù)的幾率為<1/2,對于等于EF能級被電子占據(jù)的幾率=1/23.什么是費米分布函數(shù)?費米能級的物理意義是什么?返回描述電子占據(jù)能級的幾率函數(shù)為:該函數(shù)稱為玻爾茲曼分布函數(shù),服從玻爾茲曼函數(shù)系統(tǒng)稱為非簡并系統(tǒng),服從費米函數(shù)分布的系統(tǒng)稱為簡并系統(tǒng)。適用范圍:特性:隨E的增高,能級E被電子占據(jù)的幾率呈指數(shù)地減少(均遠小于1)4.什么是玻爾茲曼函數(shù)?何為簡并與非簡并系統(tǒng)?(掌握)返回導帶電子濃度
價帶空穴濃度
電子空穴濃度積為
5.導帶電子濃度與價帶空穴濃度及其乘積按照什么公式計算?如何證明這些計算公式?電子濃度和空穴濃度有哪些性質(zhì)和特點?(掌握) 返回性質(zhì)特點:(1)影響電子濃度和空穴濃度的因素是晶體結(jié)構(gòu)、溫度、費米能級三個因素(2)隨溫度上升,電子和空穴濃度增加(3)電子和空穴濃度的積與晶體結(jié)構(gòu)和溫度有關,與費米能級無關(4)費米能級影響因素除了物質(zhì)結(jié)構(gòu)和溫度外主要決定于摻雜情況返回1.如何獲得本征半導體的費米能級EF?為什么要強調(diào)了解費米能級距離禁帶中線遠近程度?(掌握)2.如何獲得本征載流子濃度?為什么一般不用本征半導體作半導體材料?(掌握)§3.2本征半導體的載流子濃度返回本征半導體:無雜質(zhì)和缺陷的半導體稱為本征半導體建立電中性方程:解得:硅、鍺、砷化鎵,常溫下費米能級在中線與中線之上1.5kT范圍之內(nèi),其禁帶寬度約40kT,所以,其費米能級在中線附近,可按非簡并半導體處理。否則如果遠離中線,則半導體須按簡并半導體處理1.如何獲得本征半導體的費米能級EF?為什么要強調(diào)了解費米能級距離禁帶中線遠近程度?(掌握)返回影響因素及其定性規(guī)律:材料不同材料Nc
Nv
Eg
不同溫度隨溫度的增長呈指數(shù)曲線增長2.如何獲得本征載流子濃度?為什么一般不用本征半導體作半導體材料?(掌握)返回1.如何分析計算電子占據(jù)施主能級的幾率及空穴占據(jù)受主能級的幾率?(了解)如何計算施主與受主電離濃度?(掌握)2.如何分析計算只含一種雜質(zhì)時半導體材料載流子統(tǒng)計分布的特性?(掌握)3.如何分析計算一般情況下載流子統(tǒng)計分布規(guī)律?(掌握)§3.3雜質(zhì)半導體的載流子濃度返回(1)可以證明:(對硅、鍺)(2)施主與受主雜質(zhì)的電離濃度(3)特征雜質(zhì)能級與費米能級相同時,施主雜質(zhì)電離1/3,受主電離1/5當雜質(zhì)能級與費米能級相差較大時,雜質(zhì)幾乎全部電離1.如何分析計算電子占據(jù)施主能級的幾率及空穴占據(jù)受主能級的幾率?(了解)如何計算施主與受主電離濃度?(掌握)返回以n型半導體為例,其求解步驟為:(1)建立電中性方程(2)求解方程獲得EF的方法:圖解法、迭代法、簡化分析法。(3)簡化分區(qū)分析求解方程2.如何分析計算只含一種雜質(zhì)時半導體材料載流子統(tǒng)計分布的特性?(掌握)返回簡化分區(qū)分析求解非本征激發(fā)區(qū):弱電離、中間電離、強電離過渡區(qū)本征激發(fā)區(qū)返回簡化條件:求解結(jié)果:結(jié)果分析:a.低溫區(qū)費米能級處于施主能級和導帶底能級的中線附近,當溫度趨于零時趨于中線。b.隨溫度升高費米能級在某個溫度下極大。c.載流子濃度(主要是電子濃度)隨溫度呈指數(shù)曲線快速增長。d.通過測量電子濃度與溫度的響應曲線可獲得雜質(zhì)電離能。①低溫弱電離區(qū)返回簡化條件:求解結(jié)果:結(jié)果分析:a.當溫度上升雜質(zhì)電離百分數(shù)較大時(通??扇?0%),即可認為進入中間電離區(qū)b.中間電離區(qū)隨溫度上升,費米能級逐漸下降,使EF與雜質(zhì)能級相等時,雜質(zhì)電離1/3c.中間電離區(qū)隨溫度上升,雜質(zhì)電離增長速度逐漸偏離低溫區(qū)的指數(shù)曲線而變緩。d.一般地,當施主雜質(zhì)電離大約90%可認為中間電離區(qū)結(jié)束進入下一個區(qū)。②中間電離區(qū)返回簡化條件:求解結(jié)果:結(jié)果分析:a.一定濃度下,隨溫度升高費米能級逐漸下降,并向本征費米能級靠近b.一定溫度下,參雜濃度越高,費米能級向?qū)Э拷點.隨溫度上升,雜質(zhì)全部電離(90%)的摻雜濃度越高d.隨濃度的增加,雜質(zhì)全部電離(90%)溫度增加③強電離飽和區(qū)返回簡化條件:求解結(jié)果:結(jié)果分析:a.當摻雜濃度較低溫度越高,費米能級越接近本征費米能級;反之越接近飽和區(qū)的費米能級b.在接近飽和區(qū)一端,電子濃度為多數(shù)載流子,空穴為少數(shù)載流子。④過渡區(qū)返回簡化條件:計算結(jié)果:同本征激發(fā)結(jié)果分析:雜質(zhì)濃度越高,達到本征激發(fā)區(qū)的溫度越高⑤高溫本征激發(fā)區(qū)返回3.如何分析估算處于飽和區(qū)的摻雜濃度及溫度范圍?溫度一定時所對應的參雜濃度高低限判別標準:濃度下限:濃度上限:濃度一定時處于飽和區(qū)的溫度高低限判別標準:溫度上限:溫度下限:返回4.如何分析計算一般情況下載流子統(tǒng)計分布規(guī)律?(了解)以n型半導體為例,其求解步驟為:(1)建立電中性方程(2)選用牛頓迭代法求解方程獲得EF:(3)計算電子濃度、空穴濃度(4)簡化計算法(參見教材)返回5.如何根據(jù)費米能級對半導體進行分類?(了解)返回1.什么叫載流子的簡并化及簡并化半導體?(掌握)2.簡并半導體載流子的濃度如何計算?(了解)3.簡并化條件是如何規(guī)定的?(掌握)4.簡并化半導體有哪些特點?(掌握)§3.4
簡并半導體返回當費米能級進入導帶或價帶時,相應的導帶底的量子態(tài)或價帶頂?shù)牧孔討B(tài)基本上被電子或空穴所占據(jù),導帶中電子數(shù)目很多,f(E)<<1
不成立,或價帶中的空穴數(shù)目很多,1-f(E)<<1不成立,此時電子(空穴)占據(jù)量子態(tài)的統(tǒng)計分布規(guī)律只能采用考慮了泡利不相容原理的費米分布,而不能采用玻爾茲曼分布,這樣的情況稱為載流子的簡并化。發(fā)生載流子簡并化的半導體稱為簡并半導體。1.什么叫載流子的簡并化及簡并化半導體?(掌握)返回2.簡并半導體載流子的濃度如何計算?(了解)返回3.簡并化條件是如何規(guī)定的?(掌握)返回(1)
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