GB/T 17455-2008無損檢測(cè)表面檢測(cè)的金相復(fù)型技術(shù)

犐犆犛１９．１００

犑０４

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜１７４５５—２００８／犐犛犗３０５７：１９９８

代替ＧＢ／Ｔ１７４５５—１９９８

無損檢測(cè)表面檢測(cè)的金相復(fù)型技術(shù)

犖狅狀犱犲狊狋狉狌犮狋犻狏犲狋犲狊狋犻狀犵—

犕犲狋犪犾犾狅犵狉犪狆犺犻犮狉犲狆犾犻犮犪狋犲犮犺狀犻狇狌犲狊狅犳狊狌狉犳犪犮犲犲狓犪犿犻狀犪狋犻狅狀

（ＩＳＯ３０５７：１９９８，ＩＤＴ）

２００８０７３０發(fā)布２００９０２０１實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書

犌犅／犜１７４５５—２００８／犐犛犗３０５７：１９９８

前言

本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ＩＳＯ３０５７：１９９８《無損檢測(cè)表面檢測(cè)的金相復(fù)型技術(shù)》（英文版）。

本標(biāo)準(zhǔn)等同翻譯ＩＳＯ３０５７：１９９８。

為便于使用，本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改：

———“本國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)”一詞改為“本標(biāo)準(zhǔn)”；

———?jiǎng)h除國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的前言。

本標(biāo)準(zhǔn)代替ＧＢ／Ｔ１７４５５—１９９８《無損檢測(cè)表面檢查的金相復(fù)制件技術(shù)》。

本標(biāo)準(zhǔn)與ＧＢ／Ｔ１７４５５—１９９８相比主要變化如下：

———修改和調(diào)整了范圍（１９９８年版的第１章和第２章，本版的第１章）；

———修改了復(fù)型操作（１９９８年版的第４章，本版的第３章）；

———增加了注２和注３。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)無損檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)（ＳＡＣ／ＴＣ５６）歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：上海寶鋼工業(yè)檢測(cè)公司、上海材料研究所、上海上材工程材料檢測(cè)有限公司。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：陸頻、程永紅、王濱、楊力。

本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：

———ＧＢ／Ｔ１７４５５—１９９８。

Ⅰ

書

犌犅／犜１７４５５—２００８／犐犛犗３０５７：１９９８

無損檢測(cè)表面檢測(cè)的金相復(fù)型技術(shù)

１范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用透明硝化纖維膜料、醋酸纖維素或塑料材料（帶有或不帶有載體）進(jìn)行表面檢測(cè)的

復(fù)型技術(shù)，該技術(shù)用于記錄由機(jī)械或冶金原因引起的金屬表面狀態(tài)的不均勻性。

本標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定方法的優(yōu)點(diǎn)在于適用于某些難以檢測(cè)的部位或不允許破壞的工件。而且，復(fù)型件能

在現(xiàn)場(chǎng)用低倍光學(xué)裝置觀測(cè)或帶到實(shí)驗(yàn)室在高倍金相顯微鏡下檢測(cè)。

２檢測(cè)面的制備

２．１清潔檢測(cè)面

應(yīng)充分清潔被檢表面、去除油脂并干燥。采用合適的溶劑，用丙酮或無水酒精清除表面油脂，并使

用加熱空氣吹干表面。

２．２宏觀檢測(cè)面的制備

宏觀檢測(cè)面的制備適用于各類表面，包括因運(yùn)行情況造成的破裂面。按２．１規(guī)定，只需要對(duì)檢測(cè)面

進(jìn)行表面清潔、去除油脂和干燥。

２．３微觀檢測(cè)面的制備

２．３．１檢測(cè)目的在于顯示出表面冶金狀態(tài)。去除油脂后，表面應(yīng)進(jìn)行一系列細(xì)致的機(jī)械研磨，這種研

磨后道工序應(yīng)比前道工序更細(xì)。通常，表面研磨深度在０．２ｍｍ以內(nèi)。許多情況下，研磨深度是很淺

的。進(jìn)行研磨操作時(shí)，不應(yīng)產(chǎn)生過大的壓力，以免過熱出現(xiàn)金屬加工硬化。每次研磨方向宜與上次研磨

方向交叉或垂直，并在每次操作后用丙酮或無水酒精清潔表面。

２．３．２上述機(jī)械研磨后，需進(jìn)行最后拋光。這種拋光可采用以下任何一種方法：

ａ）通過選擇適當(dāng)?shù)脑O(shè)備和電解液進(jìn)行電解法；

ｂ）在小電解槽內(nèi)電解的方法；

ｃ）為產(chǎn)生符合要求的表面，可用金剛石研磨軟膏、氧化鋁或其他化合物進(jìn)行機(jī)械拋光。

拋光完成后，表面應(yīng)如２．１所述進(jìn)行清潔和干燥。表面準(zhǔn)備的最后階段是用適當(dāng)?shù)脑噭┻M(jìn)行適度

浸蝕。浸蝕后，表面應(yīng)如２．１所述再次清潔和干燥。

３復(fù)型操作

３．１概述

應(yīng)確保在盡可能干燥且已去除所有灰塵的條件下進(jìn)行復(fù)型操作。

３．２膜料復(fù)型

膜料應(yīng)是透明的并且以硝化纖維、醋酸纖維素或塑料為基本原料。應(yīng)用前要特別注意不應(yīng)攪動(dòng)膜

料，否則會(huì)形成氣泡，對(duì)結(jié)果產(chǎn)生不利影響。膜料應(yīng)鋪展在被檢表面，形成一層厚度均勻的薄層，膜料必

須均勻、無氣泡和刷痕，然后根據(jù)膜料制造商的使用說明書進(jìn)行干燥。

３．３膜片復(fù)型

３．３．１在被檢表面用適宜的溶劑潤(rùn)濕。選取具有合適成分、尺寸以及厚度的確保穩(wěn)定性和