GB/T 17362-2008黃金制品的掃描電鏡X射線能譜分析方法

犐犆犛７１．０４０．９９

犖５３

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜１７３６２—２００８

代替ＧＢ／Ｔ１７３６２—１９９８，ＧＢ／Ｔ１７７２３—１９９９

黃金制品的掃描電鏡犡射線

能譜分析方法

犃狀犪犾狔狊犻狊犿犲狋犺狅犱犳狅狉犵狅犾犱狆狉狅犱狌犮狋狊

狑犻狋犺犡狉犪狔犈犇犛犻狀犛犈犕

２００８０９１８發(fā)布２００９０５０１實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書(shū)

犌犅／犜１７３６２—２００８

前言

本標(biāo)準(zhǔn)代替ＧＢ／Ｔ１７３６２—１９９８《黃金飾品的掃描電鏡Ｘ射線能譜分析方法》和ＧＢ／Ｔ１７７２３—

１９９９《黃金制品鍍層成分的Ｘ射線能譜測(cè)量方法》兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)與ＧＢ／Ｔ１７３６２—１９９８和ＧＢ／Ｔ１７７２３—１９９９兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)相比主要修改如下：

———將適用范圍進(jìn)行了合并，使其能分別適用于不同含金量的Ｋ金制成的黃金制品和表面有含金

鍍層的鍍金制品的鍍層成分的測(cè)定這兩種情況；

———將原來(lái)兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的相關(guān)章節(jié)，刪去重復(fù)的部分，對(duì)不同的部分進(jìn)行整理加工形成新的文本；

———?jiǎng)h去了ＧＢ／Ｔ１７７２３中“術(shù)語(yǔ)”這一節(jié)；

———原標(biāo)準(zhǔn)中“飾品”一律改為“制品”；

———本標(biāo)準(zhǔn)不再規(guī)定選用的校正程序，操作人員可根據(jù)實(shí)際分析的試樣，自行選擇采用；

———著重強(qiáng)調(diào)測(cè)定鍍層制品時(shí)，工作電壓的選擇，這是對(duì)鍍層成分能否測(cè)準(zhǔn)的關(guān)鍵所在。

本標(biāo)準(zhǔn)的附錄Ａ為規(guī)范性附錄。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：北京有色金屬研究總院、核工業(yè)總公司北京地質(zhì)研究院、北京鋼鐵研究總院。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：劉安生、張宜、毛允靜。

本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：

———ＧＢ／Ｔ１７３６２—１９９８；

———ＧＢ／Ｔ１７７２３—１９９９。

Ⅰ

書(shū)

犌犅／犜１７３６２—２００８

黃金制品的掃描電鏡犡射線

能譜分析方法

１范圍

１．１本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用配置在掃描電鏡上的Ｘ射線能譜儀對(duì)黃金制品化學(xué)成分進(jìn)行無(wú)損定量分析的方

法和技術(shù)要求。

１．２本標(biāo)準(zhǔn)適用于各種純金制品和Ｋ金制品化學(xué)成分的測(cè)定，也適用于各種鍍金、包金、鍛壓金等制

品表面含金層厚度為０．２μｍ以上，３μｍ以下的表面層化學(xué)成分無(wú)損測(cè)定。

１．３本標(biāo)準(zhǔn)適用于黃金制品中質(zhì)量分?jǐn)?shù)在０．１％～１００％的元素定量分析。本標(biāo)準(zhǔn)也適用于配置在電

子探針?lè)治鰞x上的Ｘ射線能譜儀對(duì)黃金制品的分析。

２規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有

的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

ＧＢ／Ｔ４９３０電子探針?lè)治鰳?biāo)準(zhǔn)樣品通用技術(shù)條件

３分析方法原理

在掃描電鏡中，當(dāng)具有一定能量并被聚焦的電子束轟擊樣品時(shí)，被照射區(qū)發(fā)射出各個(gè)元素的特征

Ｘ射線，利用半導(dǎo)體探測(cè)器對(duì)不同能量的Ｘ射線進(jìn)行色散的特性，對(duì)接收的信號(hào)進(jìn)行放大、處理和分

析，可獲得各元素的特征Ｘ射線峰的能量分布及其強(qiáng)度值，再通過(guò)與相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)樣品的Ｘ射線譜的對(duì)

比測(cè)定，以及修正計(jì)算處理，最終可以獲得被測(cè)試樣的化學(xué)組成的定量分析結(jié)果。

對(duì)鍍層試樣，通過(guò)改變掃描電鏡的工作電壓，從而改變?nèi)肷潆娮釉谠嚇又械拇┩干疃?，從而獲得不

同深度內(nèi)元素存在的信息。在相同的實(shí)驗(yàn)條件下，測(cè)量鍍層中存在元素和相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)樣品中同種元素

的特征Ｘ射線，經(jīng)對(duì)比、修正后求出鍍層內(nèi)相應(yīng)于電子穿透深度范圍內(nèi)的元素組成的定量分析結(jié)果。

４儀器和材料

４．１掃描電子顯微鏡。

４．２Ｘ射線能譜儀。

４．３超聲波清洗器。

４．４無(wú)水乙醇、丙酮。

４．５電吹風(fēng)機(jī)。

４．６Ｋ金標(biāo)樣一套。