標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 16527-1996 硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑規(guī)范》這一標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)規(guī)定了硬面感光板所使用的光致抗蝕劑與電子束抗蝕劑的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和儲(chǔ)存要求。然而，您提供的信息中用于比較的另一標(biāo)準(zhǔn)或版本未明確給出，因此直接對(duì)比變更內(nèi)容較為困難。但可以一般性地討論此類標(biāo)準(zhǔn)更新時(shí)可能涉及的常見(jiàn)變更方向：

  1. 技術(shù)指標(biāo)調(diào)整：新標(biāo)準(zhǔn)可能會(huì)根據(jù)材料科學(xué)的進(jìn)步和應(yīng)用需求的變化，對(duì)光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑的性能指標(biāo)如靈敏度、分辨率、耐蝕性、附著力等進(jìn)行修訂，以適應(yīng)更精細(xì)的加工要求。

  2. 測(cè)試方法優(yōu)化：隨著檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展，新標(biāo)準(zhǔn)可能會(huì)引入更精確、更高效的測(cè)試方法來(lái)評(píng)估抗蝕劑的各項(xiàng)性能，確保測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。

  3. 環(huán)境保護(hù)要求：考慮到環(huán)境保護(hù)和可持續(xù)發(fā)展的需要，新標(biāo)準(zhǔn)可能會(huì)增加對(duì)抗蝕劑中揮發(fā)性有機(jī)化合物(VOCs)含量的限制，或是要求使用更加環(huán)保的原材料和生產(chǎn)工藝。

  4. 安全規(guī)范加強(qiáng)：為了保障操作人員健康和生產(chǎn)安全，新標(biāo)準(zhǔn)可能會(huì)加強(qiáng)對(duì)抗蝕劑在使用、儲(chǔ)存、運(yùn)輸過(guò)程中的安全要求，包括但不限于增加警示標(biāo)識(shí)、改善包裝密封性等。

  5. 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)接軌：為促進(jìn)國(guó)際貿(mào)易和技術(shù)交流，新標(biāo)準(zhǔn)可能會(huì)參考國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)部分內(nèi)容進(jìn)行協(xié)調(diào)或直接采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，以提高國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)的兼容性。

  6. 術(shù)語(yǔ)和定義更新：隨著技術(shù)進(jìn)步，相關(guān)專業(yè)術(shù)語(yǔ)可能會(huì)有新的理解和分類，新標(biāo)準(zhǔn)會(huì)對(duì)此類術(shù)語(yǔ)進(jìn)行更新或補(bǔ)充，確保概念清晰無(wú)誤。

由于具體對(duì)比的標(biāo)準(zhǔn)未明，上述僅為一般性推測(cè)，實(shí)際變更內(nèi)容需參照具體的新舊標(biāo)準(zhǔn)文本進(jìn)行詳細(xì)比對(duì)分析。


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  • 正在執(zhí)行有效
  • 1996-09-09 頒布
  • 1997-05-01 實(shí)施
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文檔簡(jiǎn)介

Tc9.31200中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T16527-1996硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑規(guī)范Specificationforphotoresist/E-beamresistforhardsurfacephotoplates1996-09-09發(fā)布1997-05-01實(shí)施國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

GB/T16527-1996前三本標(biāo)準(zhǔn)等效采用SEMI標(biāo)準(zhǔn)SEMIP3—90《硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑規(guī)范》.本標(biāo)準(zhǔn)第5章要求中5.2條和5.3條均按SEMIP3-90制定，且根據(jù)產(chǎn)品使用方的需要，增加了5.1條抗蝕劑涂層性能。SEMI標(biāo)準(zhǔn)是半導(dǎo)體設(shè)備和材料國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),具有較高的科學(xué)性和先進(jìn)性，內(nèi)容全面，標(biāo)準(zhǔn)配套。本標(biāo)準(zhǔn)與已經(jīng)轉(zhuǎn)化為我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)的SEMIP1-92《硬面光掩模基板》（GB/T15871一1995）、SEMIP2一86《硬面光掩模用鉻薄膜》（GB/T15870—1995)、SEMIP4-92圓形石英玻璃光拖?；逡?guī)范》(GB/T16523-1996)、SEMIP6-88《光推模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記規(guī)范》GB/T16524-1996)及準(zhǔn)備轉(zhuǎn)化為我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)的SEMIP21-92《拖模瞬光系統(tǒng)準(zhǔn)確度表示準(zhǔn)則》、SEMIP19—92《用于集成電路制造技術(shù)的檢測(cè)圖形單元規(guī)范》等項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)形成一個(gè)微型構(gòu)圖標(biāo)準(zhǔn)系列。本標(biāo)準(zhǔn)附錄A是提示的附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國(guó)電子工業(yè)部提出。本標(biāo)準(zhǔn)由電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究所歸口，本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：長(zhǎng)沙韶光微電子總公司、電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究所.本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：談仁良、吳保華、王亦林、韓艷芬、

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)硬面感光板中光致抗蝕劑和GB/T16527-1996電子束抗蝕劑規(guī)范Specificationforphotoresist/E-beamresistforhardsurfacephotoplates1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑涂層的要求、試驗(yàn)方法等內(nèi)容本標(biāo)準(zhǔn)適用于硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑的涂層檢驗(yàn)引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)淮出版時(shí)，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。GB191一90包裝儲(chǔ)運(yùn)圖示標(biāo)志GB2828—87逐批檢查計(jì)數(shù)抽樣程序及抽樣表(適用于連續(xù)批的檢查)GB2829—87周期檢查計(jì)數(shù)抽樣程序及抽樣表(適用于生產(chǎn)過(guò)程穩(wěn)定性的檢查)GB7238—87玻璃及鉻版表面平整度的測(cè)試方法GB7239—87鉻版鉻膜和膠膜厚度的測(cè)試方法GB/T15871一1995硬面光搶?；錑B/T15870—1995硬面光掩模用鉻薄膜SJ/T10584—94微電子學(xué)光拖蔽技術(shù)術(shù)語(yǔ)3定義本標(biāo)準(zhǔn)采用SJ/T10584中的定義。4分類與命名抗蝕劑涂層符合本標(biāo)準(zhǔn)的硬面感光板基板應(yīng)滿足GB/T15871和GB/T15870規(guī)定的要求?？刮g劑的分類與型號(hào)命名按附錄A(提示的附錄)規(guī)定，主要依據(jù)如下(訂貨文件中應(yīng)子注明)：a）抗蝕劑材料；b）在質(zhì)量區(qū)內(nèi)抗蝕劑的厚度及其公差；c）整個(gè)質(zhì)量區(qū)抗蝕劑的均勾性;d）板與板之間抗蝕

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