中國及全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模發(fā)展分析

中國及全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模發(fā)展分析

光刻膠是印刷線路板、顯示面板、集成電路等電子元器件的上游,公司生產(chǎn)的光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）和光刻膠樹脂等專用化學(xué)品是體現(xiàn)光刻膠性能的最重要原料,是光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈的源頭.

目前集成電路的集成水平已由原來的微米級水平進(jìn)入納米級水平,為了匹配集成電路的發(fā)展水平,制備超凈高純試劑的純度也由SEMIG1逐漸提升至到SEMIG4級水平,制備光刻膠的分辨率水平由紫外寬譜向g線、i線、KrF、ArF、F2以及更高端方向發(fā)展,同時功能性材料配方的精準(zhǔn)度和效能的穩(wěn)定性也逐漸向更高技術(shù)等級水平發(fā)展.

248nm及以上高端光刻膠為全球市場的主流.據(jù)調(diào)查數(shù)據(jù)顯示,2016年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場達(dá)到14.5億美元,較2015年同比增長9.0%.其中,248nm光刻膠占31%,193nm及其它先進(jìn)光刻膠占46%.預(yù)計2018年全球光刻膠市場將達(dá)到15.7億美元.光刻膠配套試劑方面,2016年全球光刻膠配套試劑市場達(dá)到19.1億美元,較2015年增長6.1%.預(yù)計2018年全球光刻膠配套試劑市場將達(dá)到20.4億美元.2012-2018年全球半導(dǎo)體光刻膠及配套試劑市場規(guī)模

2012-2018年中國半導(dǎo)體光刻膠及配套試劑市場規(guī)模

全球共有9家主要的光刻膠生產(chǎn)企業(yè).其中,日本占到5家,美國、歐洲、韓國、臺灣地區(qū)各占1家.這9家企業(yè)市場份額超過90%,日本技術(shù)和生產(chǎn)規(guī)模占絕對優(yōu)勢,5家日本企業(yè)市場份額超過70%.

國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)和國外先進(jìn)技術(shù)差距較大,僅在市場用量最大的G線和I線有產(chǎn)品進(jìn)入下游供應(yīng)鏈.KrF線和ArF線光刻膠核心技術(shù)基本被國外企業(yè)壟斷,國內(nèi)北京科華KrF(248nm)光刻膠目前已經(jīng)通過中芯國際認(rèn)證,其他處于研發(fā)階段,ArF(193nm)光刻膠還在積極研發(fā)中.目前國內(nèi)從事光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)的單位主要有北京科華微電子材料有限公司和蘇州瑞紅電子化學(xué)品有限公司、濰坊星泰克微電子材料有限公司.

未來,隨著功率半導(dǎo)、傳感器、LED市場的持續(xù)擴(kuò)大,i線光刻膠市場將保持持續(xù)增長.隨著精細(xì)化需求增加,使用i線光刻膠的應(yīng)用將被KrF光刻膠替代,KrF光刻膠市場需求將不斷增加.ArF光刻膠對應(yīng)IC制程節(jié)點最為先進(jìn),在7nm制程的EUV技術(shù)成熟之前,ArF光刻膠仍將是主流,隨著雙/多重曝光技術(shù)的使用,光刻膠的使用次數(shù)增加,ArF光刻膠的市場需求將加速擴(kuò)大.2016-2023年全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模及預(yù)測

2017年全球半導(dǎo)體光刻膠分類市場占比

從中國產(chǎn)品市場來看,PCB光刻膠市場份額占比最多,高達(dá)94.4%.LCD光刻膠市場份額占比第二,為2.7%.半導(dǎo)體光刻膠市場份額占比位居第三,僅為1.6%.總體看來,中國市場PCB光刻膠占據(jù)大部分市場份額,LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠所占份額非常低.2017年中國光刻膠分類市場份額占比

中國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大,約為32%

2017年,從全球區(qū)域市場來看,中國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大,達(dá)到32%.其次是美洲地區(qū),其光刻膠市場規(guī)模占全球比重為21%.亞太地區(qū)緊跟其后,光刻膠市場規(guī)模占全球比重為20%.歐洲、日本地區(qū)所占比重較低,大約均為9%.2017年各地區(qū)半導(dǎo)體光刻膠市場份額占比

2017年中國光刻膠分類市場份額占比

中國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大,約為32%

2017年,從全球區(qū)域市場來看,中國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大,達(dá)到32%.其次是美洲地區(qū),其光刻膠市場規(guī)模占