半導體行業(yè)污染物排放標準

半導體行業(yè)污染物排放標準半導體行業(yè)污染物排放標準半導體行業(yè)污染物排放標準資料僅供參考文件編號：2022年4月半導體行業(yè)污染物排放標準版本號：A修改號：1頁次：1.0審核：批準:發(fā)布日期：發(fā)布上海市環(huán)境保護局上海市質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局DB312007-02-01實施2006-××-××發(fā)布半導體行業(yè)污染物排放標準Thed發(fā)布上海市環(huán)境保護局上海市質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局DB312007-02-01實施2006-××-××發(fā)布半導體行業(yè)污染物排放標準Thedischargestandardsofpollutantsforsemiconductorindustry（發(fā)布稿）DB31/374—2006上海市地方標準ICS目次TOC\o"1-2"\h\z前言 II1范圍 12規(guī)范性引用文件 13術(shù)語和定義 14技術(shù)內(nèi)容 25監(jiān)測 56標準的實施與監(jiān)督 9

前言為貫徹《中華人民共和國環(huán)境保護法》、《中華人民共和國水污染防治法》、《中華人民共和國大氣污染防治法》、《中華人民共和國海洋環(huán)境保護法》，加強半導體企業(yè)污染物的排放控制，保障人體健康，維護生態(tài)平衡，結(jié)合上海市實際情況，制定本標準。本標準主要有以下特點：1）適用于半導體企業(yè)水污染物、大氣污染物排放的管理；2）水污染物排放根據(jù)功能區(qū)執(zhí)行分級標準；3）大氣污染物排放不根據(jù)功能區(qū)進行分級；4）對現(xiàn)有半導體企業(yè)規(guī)定達到揮發(fā)性有機物（VOCs）排放標準的時限，對其余污染源不再按建設(shè)時間規(guī)定排放限值。半導體企業(yè)的噪聲控制、固體廢物控制按國家和本市的有關(guān)規(guī)定執(zhí)行。本標準實施之日起，半導體企業(yè)水污染物排放按本標準執(zhí)行，不再執(zhí)行DB31/199-1997《污水綜合排放標準》；半導體企業(yè)大氣污染物排放按本標準執(zhí)行，不再執(zhí)行GB16297-1996《大氣污染物綜合排放標準》。本標準為首次發(fā)布。本標準由上海市環(huán)境保護局提出并歸口。本標準由上海市環(huán)境科學研究院和上海市集成電路行業(yè)協(xié)會負責起草。本標準由上海市人民政府2006年10月13日批準。本標準由上海市環(huán)境保護局負責解釋。半導體行業(yè)污染物排放標準范圍本標準規(guī)定了半導體企業(yè)的水污染物和大氣污染物排放標準值。本標準適用于半導體企業(yè)的水污染物排放管理、大氣污染物排放管理，以及半導體企業(yè)建設(shè)項目環(huán)境影響評價、建設(shè)項目環(huán)境保護設(shè)施設(shè)計、竣工驗收及其投產(chǎn)后的污染控制與管理。規(guī)范性引用文件下列標準和本標準表5、表6所列分析方法標準及規(guī)范所含的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款，與本標準同效。GB3095環(huán)境空氣質(zhì)量標準GB3097海水水質(zhì)標準GB3838地表水環(huán)境質(zhì)量標準GB/T12997水質(zhì)采樣方案設(shè)計技術(shù)規(guī)定GB/T12998水質(zhì)采樣技術(shù)指導GB/T12999水質(zhì)采樣樣品的保存和管理技術(shù)規(guī)范GB13271鍋爐大氣污染物排放標準GB/T16157固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法GB16297大氣污染物綜合排放標準HJ/T91地表水和污水監(jiān)測技術(shù)規(guī)范HJ/T92水污染物排放總量監(jiān)測技術(shù)規(guī)范當上述標準和規(guī)范被修訂時，應使用其最新版本。術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本標準：半導體企業(yè)semiconductorindustry指從事半導體分立器件或集成電路的制造、封裝測試的企業(yè)。特殊保護水域specialprotectedwaterarea指經(jīng)國家或上海市人民政府批準的自然保護區(qū)范圍內(nèi)水域；GB3838中II類水域；由本市各區(qū)、縣人民政府規(guī)定的居民集中式生活飲用水取水口衛(wèi)生防護帶水域。廢氣處理設(shè)施exhaustgascontroldevices指處理廢氣的濕式洗滌塔、焚燒塔、吸收塔、冷凝塔或其他設(shè)備，但不包括工藝中設(shè)備自帶的預處理設(shè)備。密閉排氣系統(tǒng)closedventsystem指可將設(shè)備或設(shè)備組件排出或逃逸的空氣污染物捕集并輸送至廢氣污染防治設(shè)備，使傳送的氣體不直接與大氣接觸的系統(tǒng)。現(xiàn)有污染源和新污染源existingpollutuionsourceandnewpollutionsource現(xiàn)有污染源指2007年2月1日前建設(shè)的半導體企業(yè)。新污染源指2007年2月1日起建設(shè)（包括改、擴建）的半導體建設(shè)項目。建設(shè)項目的建設(shè)（包括改、擴建）時間，以環(huán)境影響報告書（表）批準日期為準。技術(shù)內(nèi)容水污染物排放標準標準分級特殊保護水域內(nèi)不準新建排污口。原有排污口執(zhí)行表1中的A標準和表2中的特殊保護水域標準。排入GB3838中III類水域和排入GB3097中第二類海域的污水執(zhí)行表1中的A標準和表2中的一級標準。排入GB3838中IV、V類水域和排入GB3097中第三類海域的污水執(zhí)行表1中的B標準和表2中的二級標準。排入設(shè)置二級污水處理廠的排水系統(tǒng)的污水執(zhí)行表1中的B標準和表2中的三級標準。排入未設(shè)置二級污水處理廠的排水系統(tǒng)的污水，必須根據(jù)下水道出水受納水域的功能要求，執(zhí)行、、的規(guī)定。標準值分類本標準將污染物按其性質(zhì)及控制方式分成二類。.1第一類污染物，不分污水排放方式和受納水體的功能類別，一律在車間或車間處理設(shè)施排放口采樣，其最高允許排放濃度應達到本標準要求。.2第二類污染物，在排放單位排放口采樣，其最高允許排放濃度應達到本標準要求。本標準對氟化物、懸浮物（SS）、生化需氧量（BOD5）、化學需氧量（CODCr）、氨氮、總有機碳（TOC）6項污染物均規(guī)定了以日均值計的最高允許排放濃度和以瞬時值計的最高允許排放濃度兩項指標，這6項污染物的排放應同時遵守上述兩項指標。其他污染物的最高允許排放濃度以日均值計。標準值半導體企業(yè)的水污染物排放執(zhí)行表1和表2的規(guī)定。表1第一類污染物最高允許排放濃度(日均值)單位：mg/L序號污染物A標準B標準1總鎘（按Cd計）2總鉻（按Cr計）3六價鉻（按Cr6+計）4總砷（按As計）（砷化鎵工藝）5總鉛（按Pb計）6總鎳（按Ni計）7總銀（按Ag計）表2第二類污染物最高允許排放濃度單位：mg/L（pH值除外）序號污染物特殊保護水域標準一級標準二級標準三級標準1氟化物（按F計）810(13)10(13)202總銅（按Cu計）113硫化物（按S計）1114總氰化物（按CN-計）5pH6~96~96~9－6懸浮物（SS）50(65)70(91)100(130)－7生化需氧量（BOD5）15(20)20(26)30(39)－8化學需氧量（CODCr）60(78)80(104)100(130)－9氨氮（NH3-N）810(13)15－10總有機碳（TOC）18(23)20(26)30(39)－注：表中括號內(nèi)的標準限值為瞬時值；無括號的標準限值，除pH值外，其余均為日均值。大氣污染物排放標準標準體系本標準設(shè)置下列三項指標：通過排氣筒排放的污染物最高允許排放濃度。通過排氣筒排放的污染物，按排氣筒高度規(guī)定的最高允許排放速率。任何一個排氣筒應同時遵守上述兩項指標，超過其中任何一個均為超標排放。揮發(fā)性有機物（VOCs）處理設(shè)施的最低處理效率。標準值位于GB3095中一類區(qū)的污染源禁止排放表3所列的大氣污染物。大氣污染物排放的最高允許排放濃度和最高允許排放速率執(zhí)行表3的規(guī)定。揮發(fā)性有機物處理設(shè)施的最低處理效率執(zhí)行表4的規(guī)定。半導體企業(yè)產(chǎn)生的大氣污染物應由密閉排氣系統(tǒng)導入廢氣處理設(shè)施后排放，不應有無組織排放存在。表3大氣污染物排放限值序號污染物最高允許排放濃度(mg/m3)最高允許排放速率排氣筒高度(m)排放速率(kg/h)1硫酸霧101520302氯化氫151520303氟化氫1520304氨-152030205揮發(fā)性有機物(VOCs)100a--a現(xiàn)有污染源自2008年1月1日起執(zhí)行該限值；新污染源自2007年2月1日起執(zhí)行該限值。表4揮發(fā)性有機物（VOCs）處理設(shè)施的最低處理效率適用范圍處理設(shè)施的最低處理效率揮發(fā)性有機物（VOCs）排放速率>h88％aa現(xiàn)有污染源自2008年1月1日起執(zhí)行該限值；新污染源自2007年2月1日起執(zhí)行該限值。為減少全氟化物（PFCs）排放對環(huán)境產(chǎn)生的影響，集成電路制造企業(yè)宜制訂PFCs排放的年削減計劃，通過優(yōu)化工藝、原料替代、循環(huán)利用、污染治理等措施減少PFCs的排放。其他規(guī)定排氣筒高度不應低于15m。排氣筒高度除應遵守表3所列排放速率標準值外，還應高出周圍200m半徑范圍的建筑5m以上，不能達到該要求的排氣筒，應按其高度對應的表3所列排放速率標準值嚴格50%執(zhí)行。兩個排放相同污染物（不論其是否由同一生產(chǎn)工藝過程產(chǎn)生）的排氣筒，若其距離小于其幾何高度之和，應合并視為一根等效排氣筒。若有三根以上的近距離排氣筒，且排放同一種污染物時，應以前兩根的等效排氣筒，依次與第三、四根排氣筒取等效值。等效排氣筒的有關(guān)參數(shù)計算方法同GB16297-1996中附錄A。若某排氣筒的高度處于本標準列出的兩個值之間，其執(zhí)行的最高允許排放速率以內(nèi)插法計算；當某排氣筒高度大于本標準列出的最大值（30m）時，應按本標準列出的最大排氣筒高度對應的最高允許排放速率執(zhí)行。內(nèi)插法的計算公式同GB16297-1996中附錄B。企業(yè)內(nèi)部設(shè)置的鍋爐，其大氣污染物排放應執(zhí)行GB13271。監(jiān)測采樣點污水采樣點位設(shè)置應符合HJ/T91的規(guī)定，在排放口應設(shè)置排污口標志、污水水量計量裝置。污水監(jiān)測采樣方案設(shè)計應符合GB/T12997的規(guī)定。廢氣排氣筒中氣態(tài)污染物監(jiān)測的采樣點數(shù)目及采樣點位置的設(shè)置，按GB/T16157執(zhí)行。新建（包括改、擴建）的項目應在廢氣處理設(shè)施的進口和出口預設(shè)采樣孔。采樣頻率污水樣品采集應符合GB/T12997、GB/T12998和GB/T12999的規(guī)定。污水的采樣頻率應符合HJ/T91的規(guī)定。排氣筒中廢氣樣品采集（不包括氨的排放速率監(jiān)測）以連續(xù)1h的采樣獲取平均值；或在1h內(nèi)，以等時間間隔采集4個樣品，并計平均值。特殊情況下廢氣的采樣時間和頻次若某排氣筒的排放為間斷性排放，排放時間小于1h，應在排放時段內(nèi)實行連續(xù)采樣，或在排放時段內(nèi)以等時間間隔采樣2-4個樣品，并計平均值；若某排氣筒的排放為間斷性排放，排放時間大于1h，則應在排放時段內(nèi)按的要求采樣；氨的排放速率監(jiān)測應按生產(chǎn)周期確定監(jiān)測頻率，生產(chǎn)周期在8h以內(nèi)的，每2h采集一次，生產(chǎn)周期大于8h的，每4h采集一次，取其最大測定值；在進行污染事故排放監(jiān)測時，按需要設(shè)置的采樣時間和采樣頻次，不受上述要求限制；建設(shè)項目環(huán)境保護設(shè)施竣工驗收監(jiān)測的采樣時間和頻次，根據(jù)國家環(huán)境保護總局制定的建設(shè)項目環(huán)境保護設(shè)施竣工驗收監(jiān)測辦法執(zhí)行。監(jiān)測工況要求在對污染源的日常監(jiān)督性監(jiān)測中，采樣期間的工況應與當時的運行工況相同，排污單位的人員和實施監(jiān)測的人員都不應任意改變當時的運行工況。建設(shè)項目環(huán)境保護設(shè)施竣工驗收監(jiān)測的工況要求按照國家環(huán)境保護總局制定的建設(shè)項目環(huán)境保護設(shè)施竣工驗收監(jiān)測辦法執(zhí)行。分析方法污染物的分析方法按表5和表6執(zhí)行。表5水污染物分析方法序號污染物分析方法方法來源1總鎘原子吸收分光光度法GB7475等離子發(fā)射光譜法1)2總鉻高錳酸鉀氧化—二苯碳酰二肼分光光度法GB7466火焰原子吸收分光光度法1)等離子發(fā)射光譜法1)3六價鉻二苯碳酰二肼分光光度法GB7467續(xù)表序號污染物分析方法方法來源4總砷二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法GB7485硼氫化鉀-硝酸銀分光光度法GB/T11900新銀鹽分光光度法1)原子熒光法1)等離子發(fā)射光譜法1)氫化物發(fā)生－原子吸收分光光度法1)5總鉛原子吸收分光光度法GB7475等離子發(fā)射光譜法1)6總鎳火焰原子吸收分光光度法GB11912等離子發(fā)射光譜法1)7總銀火焰原子吸收分光光度法GB11907等離子發(fā)射光譜法1)8氟化物離子選擇電極法GB7484離子色譜法HJ/T849硫化物亞甲基藍分光光度法GB/T16489直接顯色分光光度法GB/T17133碘量法HJ/T60氣相分子吸收光譜法1)10總氰化物硝酸銀滴定法異煙酸－吡唑啉酮分光光度法吡啶－巴比妥酸分光光度法GB748611總銅原子吸收分光