2022-2023年（備考資料）藥學期末復習-畢業(yè)綜合考試（本科藥學專業(yè)）考試測驗能力拔高訓練一（帶答案）1

1、2022-2023年（備考資料）藥學期末復習-畢業(yè)綜合考試（本科藥學專業(yè)）考試測驗能力拔高訓練一（帶答案）一.綜合考核題庫(共40題)1.含毒性藥散劑及貴重細料藥散劑的分劑量多采用（ ）(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、目測法B、估分法C、重量法D、容量法E、以上方法均可正確答案:C2.下列關于藥典作用的表述中，正確的是(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、藥品生產(chǎn)、檢驗、供應的依據(jù)B、藥品檢驗、供應與使用的依據(jù)C、藥品生產(chǎn)、供應與使用的依據(jù)D、藥品生產(chǎn)、檢驗、使用的依據(jù)E、藥品生產(chǎn)、檢驗、供應與使用的依據(jù)正確答案:E3.藥物的等滲濃度與其自身的等張濃度相等。（ ）（難度：1）正確答案:錯誤4.片劑生產(chǎn)中

2、制粒的目的錯誤的敘述是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、減少片重差異B、避免片劑含量不均勻C、避免粘沖現(xiàn)象D、避免松片、裂片的發(fā)生E、避免復方制劑中各成分間的配伍變化正確答案:E5.薄膜衣的特點是( )（章節(jié)：藥劑學，難度：2）A、衣層牢固光滑B、對片劑崩解影響小C、不如糖衣美觀D、節(jié)省物料E、可以起到定位發(fā)揮藥效的作用正確答案:A,B,C,D6.一般情況下，含毒劇藥品的tincture每100m1相當于原藥物（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、1gB、5gC、10gD、15gE、20g正確答案:C7.以下說法中錯誤的是(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、藥物與成膜材料加工制成的膜狀制劑稱膜劑B、制備

3、膜劑時要將藥物與成膜材料用揮發(fā)性有機溶劑溶解C、EVA常用于復合膜的外膜D、膜劑分單層膜和多層膜E、外用膜劑用于局部治療正確答案:B8.下列關于percolation優(yōu)點的敘述，錯誤的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、有良好的濃度差B、溶劑的用量較漫漬法少C、操作比浸漬法簡單易行D、浸出效果較浸漬法好E、可制得較高濃度浸出液正確答案:C9.下列哪項不是氣霧劑的優(yōu)點（）。(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、使用方便B、奏效迅速C、劑量準確D、成本較低正確答案:D10.以下有關滴鼻劑的敘述中，錯誤的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、一般制成溶液劑B、pH一般為5.5-7.5C、只能產(chǎn)生局部作用D、應

4、無刺激E、應等滲正確答案:C11.對ointments的質量要求敘述錯誤的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、應均勻、細膩、涂在皮膚上無粗糙感B、有適當?shù)酿こ硇?、易涂布于皮膚或黏膜等部位C、性質穩(wěn)定、無酸敗、變質等現(xiàn)象D、無刺激性、過敏性及其他不良反應E、用于創(chuàng)面的軟膏劑還應限菌正確答案:E12.膠囊劑的特點是生物利用度高，尤其是藥物水溶液滴成的膠丸，生物利用度更高。（難度：1）正確答案:錯誤13.片劑中最常用的潤滑劑是輕質氧化鎂。（ ）（難度：1）正確答案:錯誤14.關于滴丸特點的敘述錯誤的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、滴丸載藥量小B、滴丸可使液體藥物固體化C、滴丸劑量準確D、滴丸均為

5、速效劑型E、勞動保護好正確答案:D15.制備granules的工藝流程為（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、粉碎，過篩，混合，分劑量，包裝B、粉碎，混合，制軟材，制粒，干燥，整粒，包裝C、粉碎，過篩，混合，制軟材，制粒，分級，分劑量，包裝D、粉碎，過篩，混合，制軟材，制粒，干燥，整粒與分級包裝E、粉碎，過篩，混合，制軟材，制粒，干燥，整粒，壓片，包裝正確答案:D16.將吐溫80(HLB=15）兩份和司盤80(HLB=4.3)一份混合，混合后的HLB值最接近的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、9.6B、18.2C、9.5D、11.4E、12.6正確答案:D17.關于淀粉的特點敘述正確的是（）(章

6、節(jié)：藥劑學，難度：1)A、淀粉可以充當粘合劑B、淀粉可壓性好C、淀粉易吸濕潮解D、淀粉有助流性E、淀粉也可充當崩解劑正確答案:E18.乳劑特點的錯誤表述是（）。(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、乳劑液滴的分散度大B、一般W/O型乳劑專供靜脈注射用C、乳劑的生物利用度高D、靜脈注射乳劑注射后分布較快，有靶向性正確答案:B19.關于糖漿劑的質量標準敘述正確的是( )（章節(jié)：藥劑學，難度：2）A、要求為澄明液體，色澤均勻B、貯存期間允許有少量輕搖即散的沉淀C、中藥糖漿劑含糖量應不低于50%（g/ml）D、中藥糖漿劑含糖量應不低于60%（g/ml）E、要求有一定的相對密度正確答案:B,D,E20.測定藥物

7、油水分配系數(shù)時最常用的有機溶劑為（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、氯仿B、正辛醇C、乙酸乙酯D、苯E、甲醇正確答案:B21.藥物按一級反應分解，反應速度常數(shù)K=0.3465（年）則該藥物的t12約為（）(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、1年B、2年C、3年D、4年E、5年正確答案:B22.以下屬于氣霧劑閥門系統(tǒng)組成部件的是：(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、拋射劑B、藥物C、橡膠封圈D、耐壓容器E、附加劑正確答案:C23.用于大面積燒傷及皮膚嚴重損傷的軟膏需進行無菌檢查的。（ ）（難度：1）正確答案:正確24.制備維生素C注射液時，以下不屬抗氧化措施的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、通入CO2B、

8、加亞硫酸氫鈉C、調節(jié)pH為6.0-6.2D、100、15min滅菌E、將注射用水煮沸放冷后使用正確答案:D25.下列對休止角表述正確的是（ ）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、粒子表面粗糙的物料休止角小B、休止角越大，流動性越好C、休止角大于30，物料流動性好D、休止角小于30，物料流動性好E、粒徑大的物料休止角大正確答案:D26.眼膏劑應進行無菌檢查。（ ）（難度：1）正確答案:正確27.以下關于熱熔法制備軟膏劑的注意事項中，錯誤的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、熔融時，熔點高的先加，熔點低的后加B、藥物加入基質攪拌均勻后，要迅速冷凝C、夏季可適量增加基質中石蠟的用量D、冬季可適量增加基質中

9、液體石蠟用量E、可用于熔點不同的基質制備軟膏劑正確答案:B28.關于液體藥劑的分散體系描述錯誤的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、溶液型液體藥劑藥物以分子或離子形式分散于分散介質中B、膠體溶液以多分子聚集體的形式分散C、混懸液與乳濁液均屬于粗分散體系D、乳濁液為多相分散體系E、混懸液為不均勻分散體系正確答案:B29.下列關于糖漿劑的表述錯誤的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、糖漿劑自身具有抑菌作用，故不需要加入防腐劑B、糖漿劑系指含藥物或芳香物質的濃的蔗糖水溶液C、糖漿可用作矯味劑、助懸劑D、制備糖漿劑應在避菌環(huán)境中進行E、冷溶法適用于對熱不穩(wěn)定或揮發(fā)性藥物制備糖漿劑正確答案:A30.中藥

10、劑型按制備方法可分為(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、丸劑、片劑B、液體制劑、固體制劑C、溶液、混懸液D、口服制劑、注射劑E、浸出制劑、滅菌制劑正確答案:E31.藥品的穩(wěn)定性受到多種因素的影響，下屬哪一項為影響藥品穩(wěn)定性的環(huán)境因素。(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、藥品的成分B、化學結構C、劑型D、輔料E、濕度正確答案:E32.下列各種蒸汽中滅菌效率最高的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、飽和蒸汽B、濕飽和蒸汽C、不飽和蒸汽D、過熱蒸汽E、流通蒸汽正確答案:A33.某藥物借助于潛溶劑與拋射劑混溶制得的氣霧劑，按組成分類為（）。(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、二相型B、三相型C、O/W型D、W/O型正確

11、答案:A34.以下關于中華人民共和國藥典的敘述中，不正確的是(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、現(xiàn)行版是2015版B、由衛(wèi)生部組織編纂C、是我國記載藥品規(guī)格、標準的法典D、由國家藥品監(jiān)督管理局審批頒布E、2000版中國藥典分為一、二兩部正確答案:B35.-環(huán)糊精包合物的制備技術藥劑學上的應用有( )。（章節(jié)：藥劑學，難度：2）A、可增加藥物的穩(wěn)定性B、可促進揮發(fā)性藥物揮發(fā)，遮蓋藥物的苦臭味C、可以增加藥物的溶解度D、液體藥物的粉末化正確答案:A,B,C,D36.中國藥典規(guī)定注射用水可采取哪種方法制備（）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、離子交換法B、蒸餾法C、反滲透法D、電滲析法E、重蒸餾法正確答案:B37.下列不是軟膏劑質量檢查項目的是（）(章節(jié)：藥劑學，難度：1)A、酸堿度、熔點、物理外觀B、融變時限C、刺激性、穩(wěn)定性D、粒度、裝量、滅菌E、稠度與黏度正確答案:B38.以下對壓片機敘述錯誤的是（ ）(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、旋轉式壓片機壓力分布均勻，生產(chǎn)效率高B、單沖壓片機是通過調節(jié)下沖下降的位置來調節(jié)壓力C、單沖壓片機是上沖加壓，所以壓力分布不均勻D、二次壓片機適合于粉末直接壓片E、旋轉式壓片機通過調節(jié)下壓輪的位置來調節(jié)壓力正確答案:B39.下列關于表面活性劑的論述（）是錯誤的(章節(jié)：藥劑學，難度：2)A、能夠顯著降低兩相間界