重大關(guān)鍵核心技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目資金申請(qǐng)報(bào)告

1、PAGE PAGE 40重大關(guān)鍵核心技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目資金申請(qǐng)報(bào)告項(xiàng)目名稱(chēng)稱(chēng) 高高端微納納光刻裝裝備研發(fā)發(fā)與產(chǎn)業(yè)業(yè)化項(xiàng)目承擔(dān)擔(dān)單位 蘇州州蘇大維維格光電電科技股股份有限限公司 項(xiàng)目負(fù)責(zé)責(zé)人 陳林林森 聯(lián)系電話(huà)話(huà) 05512-6288688882-8266 項(xiàng)目主持持部門(mén) 江蘇蘇省發(fā)展展和改革革委員會(huì)會(huì)申報(bào)日期期 220155年3月月11日日 江蘇省推推進(jìn)戰(zhàn)略略性新興興產(chǎn)業(yè)發(fā)發(fā)展工作作領(lǐng)導(dǎo)小小組辦公公室二一五五年一月月目錄TOC o 1-3 h z u HYPERLINK l _Toc414182700 一、項(xiàng)目目的背景景和必要要性 PAGEREF _Toc414182700 h 3 HYPERLIN

2、K l _Toc414182701 （一）國(guó)國(guó)內(nèi)外現(xiàn)現(xiàn)狀： PAGEREF _Toc414182701 h33 HYPERLINK l _Toc414182702 （二）技技術(shù)發(fā)展展趨勢(shì)： PAGEREF _Toc414182702 h 5 HYPERLINK l _Toc414182703 （三）擬擬解決的的關(guān)鍵技技術(shù)和問(wèn)問(wèn)題： PAGEREF _Toc414182703 h 66 HYPERLINK l _Toc414182704 （四）對(duì)對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)發(fā)展的作作用與影影響： PAGEREF _Toc414182704 h 77 HYPERLINK l _Toc414182705 （五）市市場(chǎng)分

3、析析： PAGEREF _Toc414182705 h 8 HYPERLINK l _Toc414182706 二、項(xiàng)目目法人基基本情況況 PAGEREF _Toc414182706 h 9 HYPERLINK l _Toc414182707 三、項(xiàng)目目的技術(shù)術(shù)基礎(chǔ) PAGEREF _Toc414182707 h 113 HYPERLINK l _Toc414182708 （一）成成果來(lái)源源及知識(shí)識(shí)產(chǎn)權(quán)情情況 PAGEREF _Toc414182708 h 133 HYPERLINK l _Toc414182709 （二）產(chǎn)產(chǎn)學(xué)研合合作情況況 PAGEREF _Toc414182709 h 1

4、5 HYPERLINK l _Toc414182710 （三）已已完成的的研究開(kāi)開(kāi)發(fā)工作作及中試試情況和和鑒定年年限 PAGEREF _Toc414182710 h 177 HYPERLINK l _Toc414182711 （四）技技術(shù)或工工藝特點(diǎn)點(diǎn)以及與與現(xiàn)有技技術(shù)或工工藝比較較所具有有的優(yōu)勢(shì)勢(shì) PAGEREF _Toc414182711 h 22 HYPERLINK l _Toc414182712 （五）重重大關(guān)鍵鍵技術(shù)突突破對(duì)行行業(yè)技術(shù)術(shù)進(jìn)步的的重要意意義和作作用 PAGEREF _Toc414182712 h 244 HYPERLINK l _Toc414182713 四、項(xiàng)目目建設(shè)

5、方方案 PAGEREF _Toc414182713 h 266 HYPERLINK l _Toc414182714 （一）建建設(shè)的主主要內(nèi)容容、建設(shè)設(shè)規(guī)模 PAGEREF _Toc414182714 h 226 HYPERLINK l _Toc414182715 （二）工工藝技術(shù)術(shù)路線(xiàn)與與技術(shù)工工藝特點(diǎn)點(diǎn) PAGEREF _Toc414182715 h 27 HYPERLINK l _Toc414182716 （三）設(shè)設(shè)備選型型及主要要技術(shù)經(jīng)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)標(biāo) PAGEREF _Toc414182716 h 28 HYPERLINK l _Toc414182717 （四）產(chǎn)產(chǎn)品市場(chǎng)場(chǎng)預(yù)測(cè) PAGERE

6、F _Toc414182717 h 330 HYPERLINK l _Toc414182718 （五）建建設(shè)地點(diǎn)點(diǎn)、建設(shè)設(shè)周期和和進(jìn)度安安排、建建設(shè)期管管理等 PAGEREF _Toc414182718 h 332 HYPERLINK l _Toc414182719 五、項(xiàng)目目投資 PAGEREF _Toc414182719 h 334 HYPERLINK l _Toc414182720 （一）項(xiàng)項(xiàng)目總投投資規(guī)模模、資金金來(lái)源、投資使使用方案案 PAGEREF _Toc414182720 h 34 HYPERLINK l _Toc414182721 （二）資資金籌措措方案 PAGEREF _T

7、oc414182721 h 335 HYPERLINK l _Toc414182722 六、項(xiàng)目目財(cái)務(wù)分分析、經(jīng)經(jīng)濟(jì)分析析及主要要指標(biāo) PAGEREF _Toc414182722 h 336 HYPERLINK l _Toc414182723 （一）財(cái)財(cái)務(wù)分析析 PAGEREF _Toc414182723 h 36 HYPERLINK l _Toc414182724 （二）風(fēng)風(fēng)險(xiǎn)分析析 PAGEREF _Toc414182724 h 38 HYPERLINK l _Toc414182725 （三）經(jīng)經(jīng)濟(jì)效益益分析 PAGEREF _Toc414182725 h 339 HYPERLINK l

8、_Toc414182726 （四）社社會(huì)效益益分析 PAGEREF _Toc414182726 h 339 HYPERLINK l _Toc414182727 八、資金金申請(qǐng)報(bào)報(bào)告附件件 PAGEREF _Toc414182727 h 41本項(xiàng)目符符合江江蘇省“十二五五”培育和和發(fā)展戰(zhàn)戰(zhàn)略性新新興產(chǎn)業(yè)業(yè)規(guī)劃中產(chǎn)業(yè)業(yè)發(fā)展重重點(diǎn)：（七）高高端裝備備制造產(chǎn)產(chǎn)業(yè) -智能制制造裝備備，同時(shí)時(shí)也是（二）新新材料產(chǎn)產(chǎn)業(yè)中的的上游核心心設(shè)備，負(fù)責(zé)工工藝流程程中前端端制程，具有關(guān)關(guān)鍵支撐撐作用。一、項(xiàng)目目的背景景和必要要性國(guó)內(nèi)外現(xiàn)現(xiàn)狀和技技術(shù)發(fā)展展趨勢(shì)，擬解決決的關(guān)鍵鍵技術(shù)和和問(wèn)題，對(duì)產(chǎn)業(yè)業(yè)發(fā)展的的作用與與影響

9、，市場(chǎng)分分析。（一） 國(guó)內(nèi)外外現(xiàn)狀：高端微納納光刻裝裝備是開(kāi)開(kāi)展微納納新材料料、半導(dǎo)導(dǎo)體、MMEMSS、生物物芯片、精密電電路、平平板顯示示、固態(tài)態(tài)照明等等領(lǐng)域技技術(shù)研發(fā)發(fā)和產(chǎn)品品生產(chǎn)的的必要設(shè)設(shè)備。目前，一一場(chǎng)新型型柔性功功能材料料的革命命性改變變正在發(fā)發(fā)生：超超薄柔性性材料的的功能化化，成為為推動(dòng)行行業(yè)發(fā)展展的革命命性力量量，使得得精密加加工制造造技術(shù)向向微米-納米結(jié)結(jié)構(gòu)和智智能制造造發(fā)展。隨著移移動(dòng)互聯(lián)聯(lián)的高速速發(fā)展，便攜、可穿戴戴光電子子器件需需要進(jìn)一一步解決決節(jié)能、低成本本問(wèn)題。柔性電子子制造領(lǐng)領(lǐng)域國(guó)家家計(jì)劃與與政府投投入：美美國(guó)FDDCASSU計(jì)劃劃、在220122年美國(guó)國(guó)“總統(tǒng)報(bào)

10、報(bào)告”中將柔柔性電子子制造作作為先進(jìn)進(jìn)制造111個(gè)優(yōu)優(yōu)先發(fā)展展的尖端端領(lǐng)域、20112年NNASAA制定柔柔性電子子戰(zhàn)略、20114年成成了柔性性混合電電子器件件制造創(chuàng)創(chuàng)新中心心；歐盟盟（第77研究框框架、地地平線(xiàn)計(jì)計(jì)劃）的的印刷技技術(shù)在柔柔性塑料料基底上上進(jìn)行制制備、英英國(guó)（“拋石機(jī)機(jī)”計(jì)劃、建設(shè)英英國(guó)的未未來(lái)計(jì)劃劃）將塑塑料電子子作為制制造業(yè)主主要發(fā)展展領(lǐng)域；德國(guó)投投資數(shù)十十億歐元元建立柔柔性顯示示生產(chǎn)線(xiàn)線(xiàn)；韓國(guó)國(guó)韓國(guó)國(guó)綠色I(xiàn)IT國(guó)家家戰(zhàn)略20110年投投資7220億美美金發(fā)展展AMOOLEDD；日本本TRAADIMM計(jì)劃在在20111年成成立先進(jìn)進(jìn)印刷電電子技術(shù)術(shù)研發(fā)聯(lián)聯(lián)盟；我我國(guó)電子子

11、信息制制造業(yè)“十二五五”發(fā)展規(guī)規(guī)劃，新新型顯示示器件、太陽(yáng)能能光伏等等作為發(fā)發(fā)展重點(diǎn)點(diǎn)方向，國(guó)家自自然科學(xué)學(xué)基金112-55、133-5規(guī)規(guī)劃中將將柔性電電子作為為微納制制造重要要研究領(lǐng)領(lǐng)域。柔性光電電功能材材料具有有數(shù)以千千億計(jì)的的潛在市市場(chǎng)需求求。在下下一代裸裸眼3DD顯示、大尺寸寸柔性觸觸控屏、OLEED照明明的納米米襯底、可穿戴戴電子器器件，具具有微米米級(jí)線(xiàn)寬寬-納米米結(jié)構(gòu)，現(xiàn)有的的光刻設(shè)設(shè)備達(dá)不不到這種種精度加加工的要要求。微納光刻刻裝備是是高端技技術(shù)密集集型微納納產(chǎn)業(yè)中中的核心心設(shè)備，負(fù)責(zé)工工藝流程程中前端端制程。這些產(chǎn)產(chǎn)業(yè)的發(fā)發(fā)展，離離不開(kāi)微微納光刻刻裝備。高端微微納光刻刻設(shè)備，

12、對(duì)于科科學(xué)研究究中的工工藝試驗(yàn)驗(yàn)研究、新品研研發(fā)、產(chǎn)產(chǎn)品生產(chǎn)產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)跨越發(fā)發(fā)展都具具有重大大意義。目前高端端微納光光刻裝備備領(lǐng)域的研研發(fā)和產(chǎn)產(chǎn)業(yè)化工工作開(kāi)展展較好的的公司在在國(guó)外，如德國(guó)國(guó)Heiidellberrg IInsttrummentts、瑞瑞典Miicroonicc、以色色列Orrbottechh、美國(guó)國(guó)Appplieed MMateeriaal，能能夠?qū)κ惺袌?chǎng)需求求和設(shè)備備研發(fā)制制造形成成良性的的循環(huán)，另外，韓國(guó)、日本等等一些研研發(fā)型公公司也在在進(jìn)行該該項(xiàng)工作作的推進(jìn)進(jìn)。我國(guó)科研研院所在在微納光光刻領(lǐng)域域的研究究，主要要模式是是采購(gòu)國(guó)國(guó)外科研研型設(shè)備備，進(jìn)行行工藝和和器件的的開(kāi)發(fā)

13、，對(duì)高端端裝備技技術(shù)的研研究開(kāi)展展較少。國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)業(yè)環(huán)境的的發(fā)展，產(chǎn)品創(chuàng)創(chuàng)新對(duì)高高端微納納直寫(xiě)光光刻與加加工裝備備具有大大量需求求；與國(guó)國(guó)外企業(yè)業(yè)相比，在技術(shù)術(shù)溝通、服務(wù)響響應(yīng)能力力方面具具有優(yōu)勢(shì)勢(shì)；國(guó)內(nèi)內(nèi)還缺乏乏“微納級(jí)級(jí)別”的高端端智能激激光直寫(xiě)寫(xiě)光刻裝裝備的研研發(fā)與制制造企業(yè)業(yè)，蘇大大維格公公司通過(guò)過(guò)國(guó)家8863計(jì)計(jì)劃的重重點(diǎn)項(xiàng)目目的資助助，掌握握了微納納直寫(xiě)裝裝備的核核心技術(shù)術(shù)，擁有有人才團(tuán)團(tuán)隊(duì)，依依托于國(guó)國(guó)家發(fā)改改委批準(zhǔn)準(zhǔn)的“國(guó)家地地方聯(lián)合合工程研研究中心心”，公司司在高端端微納智智能裝備備的研發(fā)發(fā)具有，同時(shí)公公司也是是創(chuàng)業(yè)板板上市公公司在產(chǎn)產(chǎn)業(yè)化上上也有優(yōu)優(yōu)勢(shì)。值得一提提的是，本公司

14、司（蘇大大維格）在國(guó)家家8633計(jì)劃和和江蘇省省攀登計(jì)計(jì)劃支持持下，在在高端微微納光刻刻設(shè)備的的研發(fā)上上卓有成成效，積積累了若若干光機(jī)機(jī)電關(guān)鍵鍵技術(shù)，激光智智能SLLM干涉涉直寫(xiě)儀儀器等設(shè)設(shè)備填補(bǔ)補(bǔ)行業(yè)空空白，在在1000nm特特征尺寸寸的直寫(xiě)寫(xiě)系統(tǒng)上上，研發(fā)發(fā)成功HHolooScaanV、HolloMaakerrIIII和iGGrappherr2000等系列列化的儀儀器設(shè)備備，具有有行業(yè)領(lǐng)領(lǐng)先水平平，在國(guó)國(guó)內(nèi)著名名高等研研究院所所應(yīng)用，并出口口日本、以色列列等國(guó)。獲20011年年國(guó)家科科技進(jìn)步步二等獎(jiǎng)獎(jiǎng)，省科科技進(jìn)步步一等獎(jiǎng)獎(jiǎng)。（二）技技術(shù)發(fā)展展趨勢(shì)：微納米技技術(shù)產(chǎn)業(yè)業(yè)作為先先導(dǎo)性領(lǐng)領(lǐng)域，對(duì)

15、對(duì)我國(guó)新新興產(chǎn)業(yè)業(yè)的創(chuàng)新新發(fā)展中中具有不不可或缺缺的先導(dǎo)導(dǎo)作用，高端微微納光刻刻裝備是是進(jìn)行微微納技術(shù)術(shù)的科學(xué)學(xué)研究、新器件件、新功功能材料料的研發(fā)發(fā)與應(yīng)用用的核心心儀器，具有關(guān)關(guān)鍵支撐撐作用。舉例說(shuō)明明，“光電轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)換效率率提升”是新型型光電器器件（LLED，太陽(yáng)能能、新型型照明、低耗能能材料）研究的的核心問(wèn)問(wèn)題，除除了材料料自身的的光電特特性之外外，微納納結(jié)構(gòu)分分布與高高效制備備是推進(jìn)進(jìn)高性能能器件研研制的重重要方向向，例如如，在LLED領(lǐng)領(lǐng)域，納納米圖形形化技術(shù)術(shù)是提升升器件發(fā)發(fā)光效率率的重要要途徑，目標(biāo)達(dá)達(dá)到每瓦瓦1500流明以以上，納納圖形理理論和實(shí)實(shí)驗(yàn)研究究是重點(diǎn)點(diǎn)領(lǐng)域；薄膜太太陽(yáng)能

16、電電池的效效率提升升需納米米陷光結(jié)結(jié)構(gòu)襯底底的制備備；在平平板立體體顯示領(lǐng)領(lǐng)域，納納米線(xiàn)柵柵結(jié)構(gòu)、3D位位相延遲遲片偏振振片、濾濾光片是是提升顯顯示光能能利用率率的重要要研究方方向；在在光電子子、微機(jī)機(jī)電系統(tǒng)統(tǒng)器件等等科學(xué)研研究領(lǐng)域域，需要要有高分分辨、高高效、33D曝光光的多功功能圖形形化手段段和檢測(cè)測(cè)儀器，尤其在在大尺寸寸納米結(jié)結(jié)構(gòu)器件件的無(wú)損損檢測(cè)是是急需解解決的重重大問(wèn)題題；在國(guó)國(guó)防領(lǐng)域域，超大大幅面光光柵的研研制，需需要有更更好的檢檢測(cè)儀器器。在納納米印刷刷研究和和開(kāi)發(fā)領(lǐng)領(lǐng)域，高高端圖形形化與檢檢測(cè)是提提供無(wú)油油墨納米米色彩圖圖像品質(zhì)質(zhì)的必由由之路。因此，該類(lèi)型型的高端端微納圖圖形化

17、儀儀器設(shè)備備的研制制，可打打破國(guó)外外技術(shù)壟壟斷，具具有重大大戰(zhàn)略意意義。微納圖形形直寫(xiě)與與檢測(cè)儀儀器設(shè)備備的研制制，對(duì)于于科學(xué)研研究中的的工藝試試驗(yàn)研究究、新品品研發(fā)中中的圖形形快速制制備與檢檢測(cè)，實(shí)實(shí)現(xiàn)跨越越發(fā)展具具有重大大意義。（三）擬擬解決的的關(guān)鍵技技術(shù)和問(wèn)問(wèn)題：紫外大視視場(chǎng)平場(chǎng)場(chǎng)成像光光學(xué)系統(tǒng)統(tǒng)研制：光學(xué)系統(tǒng)統(tǒng)是微納納光刻裝裝備的基基礎(chǔ)性關(guān)關(guān)鍵部件件，對(duì)裝裝備的總總體性能能具有重重要影響響。針對(duì)對(duì)各種不不同影響響，設(shè)備備的光學(xué)學(xué)系統(tǒng)將將做相應(yīng)應(yīng)的設(shè)計(jì)計(jì)和研制制。本公公司在紫紫外位相相-空間間混合調(diào)調(diào)制的微微納光學(xué)學(xué)系統(tǒng)具具有自主主知識(shí)產(chǎn)產(chǎn)權(quán)，是是高效微微納米圖圖形光刻刻的有效效解決手手

18、段。自動(dòng)化多多軸控制制技術(shù)：基于可編編程多軸軸控制器器的自動(dòng)動(dòng)化控制制技術(shù)，是精密密光刻設(shè)設(shè)備運(yùn)行行的關(guān)鍵鍵技術(shù)。通過(guò)編編寫(xiě)程序序?qū)崿F(xiàn)設(shè)設(shè)備光、機(jī)、電電的協(xié)調(diào)調(diào)運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)設(shè)設(shè)備的預(yù)預(yù)期功能能?？刂浦萍夹g(shù)包包含了同同步曝光光技術(shù)、數(shù)據(jù)分分割和上上載技術(shù)術(shù)、圖像像處理技技術(shù)、高高速多軸軸平臺(tái)閉環(huán)環(huán)控制技術(shù)術(shù)等。本本公司在在基于PPMACC、ACCS等的的控制器器的控制制技術(shù)有有了長(zhǎng)期期研發(fā)基基礎(chǔ)，研研發(fā)了飛飛行曝光光技術(shù)、Z-校校正自動(dòng)動(dòng)聚焦技技術(shù)、積積分曝光光技術(shù)等等，為設(shè)設(shè)備功能能多樣化化開(kāi)發(fā)積積累了經(jīng)經(jīng)驗(yàn)。微納數(shù)據(jù)據(jù)處理技技術(shù)：大幅面微微納結(jié)構(gòu)構(gòu)圖形的的數(shù)據(jù)是是海量的的，例如如，以數(shù)數(shù)據(jù)解析

19、析分辨率率為0.25uum計(jì)算算，10000mmm10000mmm圖形的的數(shù)據(jù)量量將達(dá)到到16TTB。微納結(jié)構(gòu)構(gòu)數(shù)據(jù)，采用具具有行業(yè)業(yè)共性的的GDSSII、DXFF、GEERBEER、CCIF等等格式。數(shù)據(jù)處理理技術(shù)，流程是是：數(shù)據(jù)據(jù)格式轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)換數(shù)據(jù)據(jù)圖形化化圖形數(shù)數(shù)據(jù)切割割和組合合。光刻刻是數(shù)據(jù)據(jù)分批分分隊(duì)列上上載到光光刻設(shè)備備，通過(guò)過(guò)控制軟軟件將圖圖形光刻刻輸出。工藝開(kāi)發(fā)發(fā)和優(yōu)化化：針對(duì)具體體應(yīng)用方方向，需需要對(duì)光光刻工藝藝進(jìn)行探探索和研研究，通通過(guò)測(cè)試試和分析析結(jié)果，對(duì)工藝藝的控制制參數(shù)、部件參參數(shù)進(jìn)行行優(yōu)化，最終滿(mǎn)滿(mǎn)足應(yīng)用用需求。（四）對(duì)對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)發(fā)展的作作用與影影響：“十二五五”期間，國(guó)

20、家和和江蘇省省鼓勵(lì)新新興產(chǎn)業(yè)業(yè)發(fā)展，江蘇省省及蘇州州地方將將納米技技術(shù)產(chǎn)業(yè)業(yè)作為主主導(dǎo)發(fā)展展產(chǎn)業(yè)，迫切需需要研究究并解決決產(chǎn)業(yè)發(fā)發(fā)展中缺缺乏上游游微納制制造技術(shù)術(shù)的共性性問(wèn)題。20114年，國(guó)家發(fā)發(fā)展改革革委深入入貫徹落落實(shí)創(chuàng)新新驅(qū)動(dòng)戰(zhàn)戰(zhàn)略，以以加快經(jīng)經(jīng)濟(jì)結(jié)構(gòu)構(gòu)戰(zhàn)略轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)型為主主攻方向向，以改改革創(chuàng)新新促發(fā)展展，切實(shí)實(shí)推動(dòng)高高技術(shù)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)和戰(zhàn)戰(zhàn)略性新新興產(chǎn)業(yè)業(yè)平穩(wěn)健健康發(fā)展展。其中中的一個(gè)個(gè)重點(diǎn)就就是深入入推進(jìn)新新型平板板顯示、高性能能醫(yī)學(xué)診診療設(shè)備備等重大大創(chuàng)新發(fā)發(fā)展工程程建設(shè)，擴(kuò)大節(jié)節(jié)能環(huán)保保、信息息惠民、衛(wèi)星導(dǎo)導(dǎo)航、智智能制造造等領(lǐng)域域的示范范應(yīng)用，重點(diǎn)突突破深刻刻影響產(chǎn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展展的關(guān)鍵鍵核

21、心技技術(shù)，推推動(dòng)傳統(tǒng)統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改改造升級(jí)級(jí)，加快快培育新新的經(jīng)濟(jì)濟(jì)增長(zhǎng)點(diǎn)點(diǎn)。高端端微納光光刻裝備備是上述述領(lǐng)域上上游所需需的核心心設(shè)備，具有關(guān)關(guān)鍵支撐撐作用。中國(guó)版工工業(yè)4.0規(guī)劃劃中中國(guó)制造造業(yè)發(fā)展展綱要(20115220255)即即將于220155年出臺(tái)臺(tái)。作為為牽頭制制定中國(guó)國(guó)制造業(yè)業(yè)20225規(guī)劃劃的部門(mén)門(mén)，工信信部已著著手研究究制定裝裝備制造造領(lǐng)域相相關(guān)專(zhuān)項(xiàng)項(xiàng)規(guī)劃，規(guī)劃重重點(diǎn)實(shí)施施領(lǐng)域?yàn)闉樾乱淮畔⒓技夹g(shù)產(chǎn)業(yè)業(yè)、生物物醫(yī)藥與與生物制制造產(chǎn)業(yè)業(yè)、高端端裝備制制造產(chǎn)業(yè)業(yè)、新能能源產(chǎn)業(yè)業(yè)等四大大產(chǎn)業(yè)領(lǐng)領(lǐng)域。本項(xiàng)目突突破大尺尺度幅面面、納米米結(jié)構(gòu)及及納米精精度、微微納結(jié)構(gòu)構(gòu)器件與與材料的的低成

22、本本制造關(guān)關(guān)鍵技術(shù)術(shù)，開(kāi)發(fā)發(fā)高端微微納制造造裝備，滿(mǎn)足提提升產(chǎn)業(yè)業(yè)創(chuàng)新能能力，促促進(jìn)區(qū)域域經(jīng)濟(jì)發(fā)發(fā)展方面面的需求求，建設(shè)設(shè)微納結(jié)結(jié)構(gòu)器件件功能設(shè)設(shè)計(jì)、微微納米柔柔性制造造關(guān)鍵技技術(shù)與裝裝備、材材料應(yīng)用用及加工工檢測(cè)創(chuàng)創(chuàng)新平臺(tái)臺(tái)。對(duì)區(qū)區(qū)域納米米技術(shù)創(chuàng)創(chuàng)新體系系的完善善，對(duì)相相關(guān)產(chǎn)業(yè)業(yè)轉(zhuǎn)型升升級(jí)、高高技術(shù)企企業(yè)孵化化、高端端人才培培養(yǎng)與引引進(jìn)具有有重大作作用。高端微納納光刻裝裝備對(duì)多多個(gè)產(chǎn)業(yè)業(yè)的發(fā)展展具有重重要作用用：平板顯示示和觸控控屏：用用于光掩掩模版制制備、大大幅面觸觸摸屏電電路圖形形化光刻刻，例如如55寸寸的大尺尺寸電容容觸控屏屏電路制制備等。TV超薄薄背光源源（BLLU）：平板電電腦、液

23、液晶顯示示器、電電視機(jī)的的超薄化化趨勢(shì)，用于超超薄導(dǎo)光光板的熱熱壓模具具制備（例如770寸微微透鏡金金屬壓印印模具）。高密度柔柔性電路路、ICC載板：10m以下下線(xiàn)寬工工藝，是是下一代代集成電電路3DD封裝必必須的關(guān)關(guān)鍵技術(shù)術(shù)，目前前需要00.255微米分分辨率的的高精度度直寫(xiě)光光刻設(shè)備備。MEMSS芯片：MEMMS芯片片制備，需要解解決厚膠膠圖形化化光刻工工藝。公共安全全：特殊殊微納結(jié)結(jié)構(gòu)的視視讀特征征，是實(shí)實(shí)現(xiàn)證卡卡安全、產(chǎn)品保保護(hù)、金金融安全全等領(lǐng)域域公共安安全的有有效手段段?？蒲?、國(guó)國(guó)家項(xiàng)目目需求：微納加加工技術(shù)術(shù)，是諸諸多科研研領(lǐng)域的的共性技技術(shù)，小小型微納納光刻設(shè)設(shè)備，可可用于高高

24、等院所所的實(shí)驗(yàn)驗(yàn)室，特特殊定制制的微納納光刻裝裝備，可可以服務(wù)務(wù)于國(guó)家家重大項(xiàng)項(xiàng)目。（五）市市場(chǎng)分析析：柔性電子子技術(shù)已已經(jīng)并將將開(kāi)辟出出許多創(chuàng)創(chuàng)新的電電子產(chǎn)品品應(yīng)用領(lǐng)領(lǐng)域，從從而，帶帶來(lái)一場(chǎng)場(chǎng)電子信信息技術(shù)術(shù)革命。據(jù)IDDTecchExx預(yù)測(cè)，20111年柔柔性電子子的市場(chǎng)場(chǎng)銷(xiāo)售額額將高達(dá)達(dá)49.3億美美元，220188年為4469.4億美美元，220288年為330100億美元元。柔性電子子制造技技術(shù)和裝裝備是穿穿戴式電電子、新新能源、高端顯顯示、物物聯(lián)網(wǎng)和和智能家家居領(lǐng)域域發(fā)展的的關(guān)鍵技技術(shù)，可可提供原原創(chuàng)性柔柔性電子子器件、知識(shí)產(chǎn)產(chǎn)權(quán)和關(guān)關(guān)鍵技術(shù)術(shù)，能為為新興市市場(chǎng)培育育、高層層次人才

25、才培養(yǎng)提提供新機(jī)機(jī)遇，服服務(wù)并推推動(dòng)相關(guān)關(guān)信息產(chǎn)產(chǎn)業(yè)的跨跨越發(fā)展展。二、項(xiàng)目目法人基基本情況況項(xiàng)目法人人的所有有制、主主營(yíng)業(yè)務(wù)務(wù)，近三三年的銷(xiāo)銷(xiāo)售收入入、利潤(rùn)潤(rùn)、稅收收、固定定資產(chǎn)、資產(chǎn)負(fù)負(fù)債率、銀行信信用等級(jí)級(jí)、企業(yè)業(yè)技術(shù)開(kāi)開(kāi)發(fā)、經(jīng)經(jīng)營(yíng)管理理、資金金籌集、市場(chǎng)開(kāi)開(kāi)拓等情情況。企業(yè)名稱(chēng)稱(chēng)：蘇州州蘇大維維格光電電科技股股份有限限公司企業(yè)性質(zhì)質(zhì)： 股股份制企企業(yè)，深深交所創(chuàng)創(chuàng)業(yè)板上上市公司司（代碼碼：30003331）企業(yè)地址址：蘇州州工業(yè)園園區(qū)新昌昌路688號(hào)；資本：93000萬(wàn)人人民幣主營(yíng)業(yè)務(wù)務(wù)：激光光光刻直直寫(xiě)系統(tǒng)統(tǒng)與納米米壓印裝裝備、LLED納納米圖形形光刻設(shè)設(shè)備、OOGS掩掩膜和灰灰度光

26、刻刻設(shè)備；光學(xué)（鐳射）膜：定定制光學(xué)學(xué)（鐳射射）印材材、防偽偽解決方方案和材材料；平平板顯示示照明：超薄導(dǎo)導(dǎo)光板、大尺寸寸電容觸觸控屏（非ITTO）；光掩模模板。公司已于于20112年66月在深深交所創(chuàng)創(chuàng)業(yè)板上上市（股股票代碼碼：30003331），銀行信信用等級(jí)級(jí)：AAA級(jí)近三年財(cái)財(cái)務(wù)情況況： （萬(wàn)元）年度銷(xiāo)售收入入利潤(rùn)稅收固定資產(chǎn)產(chǎn)資產(chǎn)負(fù)債債率20122218771.8824599.28818711.35550300.33319.116%20133245772.33219366.68810844.944123888.6616.883%20144276661.88630122.9332014

27、4.466140887.22417.550%公司建有有國(guó)家級(jí)級(jí)研究平平臺(tái)“數(shù)碼激激光成像像與顯示示國(guó)家地地方聯(lián)合合工程研研究中心心”（國(guó)家家發(fā)改委委批準(zhǔn)，20111年），設(shè)有有“ HYPERLINK t _blank 江蘇省省微納柔柔性制造造工程技技術(shù)研究究中心”（20010年年，省政政府批準(zhǔn)準(zhǔn)），擁?yè)碛?0000平平米用于于工程研研究和產(chǎn)產(chǎn)品中試試的實(shí)驗(yàn)驗(yàn)室。圖1 公公司場(chǎng)地地具有面向向新型顯顯示、照照明和成成像領(lǐng)域域的微納納制造工工程研發(fā)發(fā)與檢測(cè)測(cè)條件。設(shè)有四四個(gè)研發(fā)發(fā)方向：先進(jìn)光光學(xué)顯示示器件、微納制制造技術(shù)術(shù)與裝備備、柔性性材料與與器件和和納米印印刷技術(shù)術(shù)。公司司建有江江蘇省院院士工作

28、作站和全全國(guó)博士士后工作作站。圖2 國(guó)國(guó)家工程程中心和和院士工工作站公司擁有有國(guó)際一一流創(chuàng)的的新團(tuán)隊(duì)隊(duì)，江蘇蘇省科技技創(chuàng)新團(tuán)團(tuán)隊(duì)。重重大成果果獲得：國(guó)家科科學(xué)技術(shù)術(shù)進(jìn)步二二等獎(jiǎng)（20111年度度）、江江蘇省科科技進(jìn)步步一等獎(jiǎng)獎(jiǎng)（20011年年度，220077年度）、第十十二屆、十四屆屆“中國(guó)優(yōu)優(yōu)秀專(zhuān)利利獎(jiǎng)”（20010年年，20012年年）、第第七屆江江蘇省專(zhuān)專(zhuān)利金獎(jiǎng)獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)項(xiàng)。為此此，公司司榮獲首首屆江蘇蘇省企業(yè)業(yè)技術(shù)創(chuàng)創(chuàng)新獎(jiǎng)（全省119家企企業(yè)）。圖3 重重大科技技獲獎(jiǎng)公司擁有有授權(quán)發(fā)發(fā)明專(zhuān)利利49項(xiàng)，其中與與本項(xiàng)目目相關(guān)自自主研發(fā)發(fā)設(shè)備和和技術(shù)已已獲得發(fā)發(fā)明專(zhuān)利利16項(xiàng)項(xiàng)。公司建立立了以

29、市市場(chǎng)為導(dǎo)導(dǎo)向、自自主創(chuàng)新新為推動(dòng)動(dòng)力的經(jīng)經(jīng)營(yíng)管理理制度，從產(chǎn)品品設(shè)計(jì)、品質(zhì)管管理、客客戶(hù)溝通通與服務(wù)務(wù)、到產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量量體系認(rèn)認(rèn)證、新新品導(dǎo)入入與跟蹤蹤，有完完整的管管理制度度，力圖圖與國(guó)際際體系接接軌。形形成了一一個(gè)研發(fā)發(fā)、設(shè)計(jì)計(jì)、裝備備改進(jìn)、制程提提升、各各戶(hù)認(rèn)證證的快速速反應(yīng)能能力。對(duì)對(duì)于新品品導(dǎo)入項(xiàng)項(xiàng)目，成成立項(xiàng)目目領(lǐng)導(dǎo)小小組，以以董事長(zhǎng)長(zhǎng)為負(fù)責(zé)責(zé)人，總總經(jīng)理執(zhí)執(zhí)行人的的項(xiàng)目領(lǐng)領(lǐng)導(dǎo)組，協(xié)調(diào)與與處理項(xiàng)項(xiàng)目研發(fā)發(fā)、市場(chǎng)場(chǎng)實(shí)施過(guò)過(guò)程中的的各種問(wèn)問(wèn)題。業(yè)內(nèi)第一一個(gè)研發(fā)發(fā)成功并并批量化化14寸寸0.5mmm厚度LLED超超薄導(dǎo)光光板卷對(duì)對(duì)卷產(chǎn)線(xiàn)線(xiàn)，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)應(yīng)應(yīng)用； 發(fā)發(fā)明并實(shí)實(shí)現(xiàn)消色色差光學(xué)學(xué)

30、膜的高高效光刻刻方法； 發(fā)發(fā)明了“寬幅衍衍射光變變圖像高高速光刻刻方法與與設(shè)備”：解決決了微納納結(jié)構(gòu)工工業(yè)化制制備的行行業(yè)難題題； 率率先建立立了“微納柔柔性制造造生產(chǎn)線(xiàn)線(xiàn)”，從“微納結(jié)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)計(jì)、材料料特性研研究、重重大裝備備研發(fā)和和成果產(chǎn)產(chǎn)業(yè)化”工藝鏈鏈； 第第一個(gè)研研制成功功“3D光光變圖像像全息制制版系統(tǒng)統(tǒng)”實(shí)現(xiàn)了了全息圖圖像的微微納結(jié)構(gòu)構(gòu)表達(dá)，并推進(jìn)進(jìn)了立體體圖像的的工業(yè)化化應(yīng)用； 發(fā)發(fā)明“定位激激光轉(zhuǎn)移移紙張”（印刷刷第一色色概念），實(shí)現(xiàn)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化化； 第第一個(gè)研研發(fā)成功功數(shù)字化化“數(shù)碼激激光全息息制版系系統(tǒng)”，國(guó)內(nèi)內(nèi)外廣泛泛使用； 提提出并實(shí)實(shí)現(xiàn)了導(dǎo)導(dǎo)模共振振納米光光子晶體體變色薄

31、薄膜。三、項(xiàng)目目的技術(shù)術(shù)基礎(chǔ)成果來(lái)源源及知識(shí)識(shí)產(chǎn)權(quán)情情況，產(chǎn)產(chǎn)學(xué)研合合作情況況，已完完成的研研究開(kāi)發(fā)發(fā)工作及及中試情情況和鑒鑒定年限限，技術(shù)術(shù)或工藝藝特點(diǎn)以以及與現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)術(shù)或工藝藝比較所所具有的的優(yōu)勢(shì)，該項(xiàng)技技術(shù)的突突破對(duì)行行業(yè)技術(shù)術(shù)進(jìn)步的的重要意意義和作作用。（一）成成果來(lái)源源及知識(shí)識(shí)產(chǎn)權(quán)情情況核心技術(shù)術(shù)來(lái)源于于蘇大維維格公司司的技術(shù)術(shù)積累和和產(chǎn)學(xué)研研合作，公司在在高精度度激光微微納米直直寫(xiě)和加加工技術(shù)術(shù)方面開(kāi)開(kāi)展了長(zhǎng)長(zhǎng)期研發(fā)發(fā)創(chuàng)新，主要包包括微光光學(xué)元器器件開(kāi)發(fā)發(fā)、納米米精度光光機(jī)結(jié)構(gòu)構(gòu)研發(fā)、4-66軸運(yùn)動(dòng)動(dòng)控制技技術(shù)、CCCD影影像檢測(cè)測(cè)處理技技術(shù)、海海量圖形形數(shù)據(jù)處處理和傳傳輸技術(shù)術(shù)

32、等，為為本項(xiàng)目目開(kāi)發(fā)積積累了大大量核心心和關(guān)鍵鍵技術(shù)。依托單位位是本行行業(yè)內(nèi)惟惟一建有有國(guó)家工工程研究究中心“”數(shù)碼碼激光成成像與顯顯示國(guó)家家地方聯(lián)聯(lián)合工程程研究中中心（國(guó)國(guó)家發(fā)改改委批準(zhǔn)準(zhǔn)，20011年年），表表明了行行業(yè)領(lǐng)先先地位。目前，我國(guó)唯唯一具有有大面積積（微納納金屬模模具制備備能力、能夠?qū)崒?shí)現(xiàn)大尺尺寸納米米尺度圖圖形掩模模、配套套納米壓壓印全制制程、擁?yè)碛凶灾髦髦R(shí)產(chǎn)產(chǎn)權(quán)，目目前支持持42”尺寸微微納透明明導(dǎo)電材材料。依依托單位位在微納納制造裝裝備的應(yīng)應(yīng)用基礎(chǔ)礎(chǔ)研究、技術(shù)創(chuàng)創(chuàng)新、材材料研發(fā)發(fā)和高端端裝備研研制方面面，形成成了完整整的創(chuàng)新新鏈，并并已在多多個(gè)產(chǎn)業(yè)業(yè)實(shí)現(xiàn)規(guī)規(guī)模應(yīng)用用。本

33、項(xiàng)項(xiàng)目經(jīng)過(guò)過(guò)國(guó)家重重大8663專(zhuān)項(xiàng)項(xiàng)的支持持，已經(jīng)經(jīng)完成了了技術(shù)攻攻關(guān)，即即將進(jìn)入入產(chǎn)業(yè)化化階段。在激光直直寫(xiě)和加加工技術(shù)術(shù)領(lǐng)域，獲得發(fā)發(fā)明專(zhuān)利利授權(quán)116項(xiàng)：專(zhuān)利名稱(chēng)稱(chēng)專(zhuān)利號(hào)光學(xué)加工工系統(tǒng)和和方法ZL 2201221011144482.4光學(xué)加工工系統(tǒng)和和方法ZL 2201221000763397.3光學(xué)加工工系統(tǒng)和和方法ZL 2201221000762272.0一種步進(jìn)進(jìn)式光學(xué)學(xué)加工系系統(tǒng)和加加工方法法ZL 2201111033237729.9一種透明明導(dǎo)電膜膜及其制制作方法法ZL 2201001055332228.9一種光刻刻裝置和和光刻方方法ZL 2201001055037788.X一

34、種金屬屬母板的的制作方方法ZL 2201001022874422.3一種導(dǎo)光光膜制作作裝置ZL 2201001022245529.3一種卷對(duì)對(duì)卷紫外外納米壓壓印裝置置及方法法ZL 2201001022245532.5并行光刻刻直寫(xiě)系系統(tǒng)ZL 2201001011709978.4用于紫外外激光干干涉光刻刻直寫(xiě)系系統(tǒng)的光光學(xué)鏡頭頭ZL 2200991000282297.1多視角圖圖形輸入入的三維維圖形直直寫(xiě)方法法ZL 2200991000282296.7一種彩色色濾光片片的制作作方法與與裝置ZL 2200881011237711.2一種精密密數(shù)字化化微納米米壓印的的方法ZL 22007710113

35、23387.6對(duì)光滑表表面進(jìn)行行微米結(jié)結(jié)構(gòu)光刻刻蝕的方方法及裝裝置ZL 2200661000377797.8衍射光變變圖像的的高速激激光直寫(xiě)寫(xiě)方法和和系統(tǒng)ZL 2200551000957775.2受理發(fā)明明專(zhuān)利117項(xiàng)。專(zhuān)利名稱(chēng)稱(chēng)申請(qǐng)?zhí)栆环N導(dǎo)光光膜制作作裝置PCT/CN220100/07797336APPAARATTUS FORR MAANUFFACTTURIING LIGGHT GUIIDE FILLMU種紫外外固化微微納米結(jié)結(jié)構(gòu)拼版版裝置及及拼版工工藝201331011529954.X三維激光光打印方方法與系系統(tǒng)201331011663341.1分束器件件、多光光

36、束干涉涉光路系系統(tǒng)201331022342223.X納米圖形形化襯底底制備裝裝置與方方法201331022361124.5一種標(biāo)簽簽簽注方方法與系系統(tǒng)201331022910009.8連續(xù)可調(diào)調(diào)結(jié)構(gòu)光光照明的的超分辨辨顯微成成像方法法與系統(tǒng)統(tǒng)PCT/CN220133/08878883超薄觸控控傳感器器及其制制作方法法201441000376667.9一種三維維碼及其其制作方方法201441000420013.5一種激光光直寫(xiě)系系統(tǒng)與光光刻方法法201441000421111.9一種變色色燙印膜膜及其制制造方法法201441000620088.X掩膜版及及其制備備方法和和圖形化化方法201441

37、022247727.8彩色動(dòng)態(tài)態(tài)圖的激激光打印印裝置及及方法201441044485548.2一種無(wú)掩掩膜激光光直寫(xiě)疊疊加曝光光方法201441066212284.6一種多視視角像素素指向型型背光模模組及裸裸眼3DD顯示裝裝置201441088522242.3基于大面面積多臺(tái)臺(tái)階二元元光學(xué)元元件的激激光直寫(xiě)寫(xiě)方法201551000125577.9軟件著作作權(quán)4項(xiàng)：登記號(hào)軟件名稱(chēng)稱(chēng)20111SR00371129基于DXXF的并并行激光光直寫(xiě)加加工圖形形處理軟軟件V11.020111SR00371127基于DiirecctX的的空間光光調(diào)制器器圖形發(fā)發(fā)生軟件件V1.020111SR00416635

38、蘇大維格格頻閃曝曝光直寫(xiě)寫(xiě)系統(tǒng)20155SR00179923HolooMakkerIIIICC SyysteemV11.0獲獎(jiǎng)清單單如下：項(xiàng)目名稱(chēng)稱(chēng)獎(jiǎng)勵(lì)名稱(chēng)稱(chēng)獲批時(shí)間間大幅面微微納圖形形制造技技術(shù)及產(chǎn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)應(yīng)用國(guó)家科技技進(jìn)步二二等獎(jiǎng)20111.122卷對(duì)卷納納米壓印印關(guān)鍵技技術(shù)及應(yīng)應(yīng)用江蘇省科科學(xué)技術(shù)術(shù)進(jìn)步一一等獎(jiǎng)20122.2面向微納納柔性制制造的創(chuàng)創(chuàng)新工程程江蘇省企企業(yè)技術(shù)術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng)獎(jiǎng)20122.2衍射光變變圖像高高速制作作方法與與系統(tǒng)中國(guó)專(zhuān)利利優(yōu)秀獎(jiǎng)獎(jiǎng)20100.111微光變圖圖像的激激光直寫(xiě)寫(xiě)方法及及裝置中國(guó)專(zhuān)利利優(yōu)秀獎(jiǎng)獎(jiǎng)20122.111寬幅智能能激光SSLM光光刻系統(tǒng)統(tǒng)與應(yīng)用用江蘇

39、省科科學(xué)技術(shù)術(shù)進(jìn)步一一等獎(jiǎng)20088.5亞波長(zhǎng)光光學(xué)制造造技術(shù)研研究與應(yīng)應(yīng)用教育部科科學(xué)技術(shù)術(shù)進(jìn)步二二等獎(jiǎng)20088.1一種消色色差變色色銀衍射射圖像的的制作方方法江蘇省專(zhuān)專(zhuān)利金獎(jiǎng)獎(jiǎng)20111.122微結(jié)構(gòu)制制造的高高效光刻刻技術(shù)與與應(yīng)用教育部技技術(shù)發(fā)明明二等獎(jiǎng)獎(jiǎng)20099.1（二）產(chǎn)產(chǎn)學(xué)研合合作情況況“十二五五”期間，在國(guó)家家高技術(shù)術(shù)研究（8633計(jì)劃）計(jì)劃重重大項(xiàng)目目、國(guó)家家自然基基金重點(diǎn)點(diǎn)項(xiàng)目的的資助下下，蘇州州蘇大維維格光電電科技股股份有限限公司與與相關(guān)業(yè)業(yè)內(nèi)企業(yè)業(yè)和高校校協(xié)同合合作，攻攻克了“微納柔柔性制造造工藝裝裝備”、“3D成成像納米米印刷技技術(shù)”、“彩色全全息顯示示的基礎(chǔ)礎(chǔ)問(wèn)題

40、”方面關(guān)關(guān)鍵基礎(chǔ)礎(chǔ)問(wèn)題和和技術(shù)難難題，取取得國(guó)內(nèi)內(nèi)外矚目目的重大大成果，引起國(guó)國(guó)內(nèi)外同同行的高高度關(guān)注注。第一，前前瞻性重重大技術(shù)術(shù)創(chuàng)新取取得突破破。從原原理上，現(xiàn)有的的技術(shù)手手段（如如金剛石石加工僅僅能加工工柱光柵柵膜的模模具）不不能加工工全息原原理的裸裸眼3DD顯示，必須突突破納米米加工技技術(shù)瓶頸頸。蘇大大維格在在高端微微納裝備備及關(guān)鍵鍵技術(shù)方方面取得得重大研研究進(jìn)展展，在國(guó)國(guó)際上率率先實(shí)現(xiàn)現(xiàn)“四獨(dú)立立變量微微納結(jié)構(gòu)構(gòu)快速制制造”、“大幅面面微納混混合光刻刻”等新技技術(shù)方法法，研發(fā)發(fā)成功“納米級(jí)級(jí)制造設(shè)設(shè)備”，使得得中國(guó)在在“大幅面面微納結(jié)結(jié)構(gòu)制造造”方面擁?yè)碛辛俗宰灾鞲叨硕搜b備。先后獲獲

41、國(guó)家科科技進(jìn)步步二等獎(jiǎng)獎(jiǎng)（20012）、江蘇蘇省科技技一等獎(jiǎng)獎(jiǎng)（20011）和中國(guó)國(guó)專(zhuān)利獎(jiǎng)獎(jiǎng)（20010）。因此此，在納納米加工工設(shè)施、知識(shí)產(chǎn)產(chǎn)權(quán)方面面，為本本項(xiàng)建議議任務(wù)提提供關(guān)鍵鍵手段支支撐。第二，需需求牽引引的組織織模式創(chuàng)創(chuàng)新。通通過(guò)運(yùn)行行機(jī)制的的創(chuàng)新，納米技技術(shù)從實(shí)實(shí)驗(yàn)室走走向產(chǎn)業(yè)業(yè)應(yīng)用，形成上上下游的的創(chuàng)新鏈鏈，協(xié)同同產(chǎn)業(yè)和和高校共共同推進(jìn)進(jìn)在納米米印刷（3D圖圖像印刷刷）、柔柔性電子子（微結(jié)結(jié)構(gòu)透明明導(dǎo)電膜膜）、平平板顯示示（超薄薄導(dǎo)光板板）的產(chǎn)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用用，并取取得重大大進(jìn)展，培育了了1家上上市公司司（20012年年上市）和5家家國(guó)家高高新技術(shù)術(shù)企業(yè)。從基礎(chǔ)礎(chǔ)環(huán)節(jié)創(chuàng)創(chuàng)新、整整個(gè)過(guò)程

42、程的技術(shù)術(shù)工藝創(chuàng)創(chuàng)新，直直至推進(jìn)進(jìn)產(chǎn)業(yè)應(yīng)應(yīng)用，探探索了產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈創(chuàng)創(chuàng)新的成成功路徑徑，為取取得顛覆覆性重大大目標(biāo)產(chǎn)產(chǎn)品提供供了組織織上經(jīng)驗(yàn)驗(yàn)。第三，以以重大任任務(wù)（目目標(biāo)產(chǎn)品品）為目目標(biāo)的創(chuàng)創(chuàng)新能力力建設(shè)。蘇大維維格公司司組建了了“國(guó)家地地方聯(lián)合合工程研研究中心心”（數(shù)碼碼激光成成像顯示示）（國(guó)國(guó)家發(fā)改改委20011年年批準(zhǔn)），60000平平米研發(fā)發(fā)場(chǎng)所，1萬(wàn)平平米中試試平臺(tái)。在重大大目標(biāo)產(chǎn)產(chǎn)品的取取得突破破，得到到同行專(zhuān)專(zhuān)家、領(lǐng)領(lǐng)導(dǎo)和市市場(chǎng)高度度評(píng)價(jià)。華為科科技、京京東方科科技、龍龍騰光電電、蘇大大維格光光電等一一批企業(yè)業(yè)具備合合作推進(jìn)進(jìn)裸眼33D顯示示關(guān)鍵技技術(shù)和部部件研制制的基礎(chǔ)礎(chǔ)能力。

43、為今今后以重重大任務(wù)務(wù)位目標(biāo)標(biāo)的組織織實(shí)施，提供了了更好的的創(chuàng)新平平臺(tái)和產(chǎn)產(chǎn)業(yè)合作作基礎(chǔ)。第四、培培養(yǎng)一支支敢于承承擔(dān)風(fēng)險(xiǎn)險(xiǎn)和奉獻(xiàn)獻(xiàn)、能承承擔(dān)重大大任務(wù)的的團(tuán)隊(duì)。通過(guò)協(xié)協(xié)同合作作和體制制機(jī)制改改革，培培養(yǎng)了一一支高素素質(zhì)的團(tuán)團(tuán)隊(duì)，團(tuán)團(tuán)隊(duì)成員員以中青青年成員員為主，包括國(guó)國(guó)家8663計(jì)劃劃重大項(xiàng)項(xiàng)目首席席專(zhuān)家，千人計(jì)計(jì)劃人才才、海外外特聘教教授和國(guó)國(guó)內(nèi)杰出出年輕人人才構(gòu)成成的充滿(mǎn)滿(mǎn)活力創(chuàng)創(chuàng)新與創(chuàng)創(chuàng)新混合合的團(tuán)隊(duì)隊(duì)。在 “裸眼33D顯示示的基礎(chǔ)礎(chǔ)問(wèn)題”，“納米結(jié)結(jié)構(gòu)3DD成像原原理”、“納米導(dǎo)導(dǎo)光板研研究”方面做做了大量量工作，敢于突突破和自自主創(chuàng)新新。（三）已已完成的的研究開(kāi)開(kāi)發(fā)工作作及中試試情

44、況和和鑒定年年限1、根據(jù)據(jù)不同的的行業(yè)應(yīng)應(yīng)用需求求和加工工的尺度度不同，已完成成四種類(lèi)類(lèi)型樣機(jī)機(jī)的研發(fā)發(fā)：（1）、高速激激光圖形形直寫(xiě)光光刻裝備備應(yīng)用樣樣機(jī)：iiGraapheer系列列iGraapheer專(zhuān)門(mén)門(mén)用于精精密電路路、光掩掩模（光光罩MAASK）、微納納結(jié)構(gòu)無(wú)無(wú)掩模光光刻的“高端激激光直寫(xiě)寫(xiě)設(shè)備(UV lasser pattterrn ggeneerattor)。幅面面：8英英寸-665英寸寸，應(yīng)用用90nnm-1130nnm節(jié)點(diǎn)點(diǎn)（0.22uum-00.5uum光學(xué)學(xué)分辨率率）柔性性電路和和光掩膜膜板制備備。iGraapheer突破破了一系系列關(guān)鍵鍵難題技技術(shù)，實(shí)實(shí)現(xiàn)了上上述大幅

45、幅面微圖圖形高速速直寫(xiě)功功能，對(duì)對(duì)光掩模模文件、集成電電路文件件全兼容容。iGGrappherr采用高高速空間間光調(diào)制制器（sspattiall liightt moodullatiion），陣列列圖形輸輸入模式式（可達(dá)達(dá)8k幀幀），33D導(dǎo)航航飛行曝曝光（33D nnaviigattionn fllyinng eexpoosurre）、納秒時(shí)時(shí)序平鋪鋪曝光（parrallleliism、 naano-seccondd paatteerniing）技術(shù)，專(zhuān)用于于光掩模模、柔性性電子的的微圖形形（線(xiàn)寬寬1umm-100um）、LIIGA工工藝、微微納模具具的高效效光刻。（2）、多功能能微圖形形光

46、刻設(shè)設(shè)備工程程樣機(jī)：MiccrollabMicrroLaab1000是一一款適應(yīng)應(yīng)微結(jié)構(gòu)構(gòu)圖形光光刻的名名副其實(shí)實(shí)的小型型微加工工實(shí)驗(yàn)室室，系統(tǒng)統(tǒng)操作方方便在微微納結(jié)構(gòu)構(gòu)功能器器件、生生物與微微納界面面作用（微流控控、基因因芯片、探針）和光電電子、微微光學(xué)等等研究中中，MiicrooLabb是一種種理想的的、高性性?xún)r(jià)比的的微加工工手段。尤其適適合于小小尺寸精精密掩膜膜、CGGH、微微光學(xué)器器件、光光束整形形、MEEMS、衍射與與折射光光學(xué)陣列列的研制制。MicrroLaab1000支持持灰度光光刻grraysscalle llithhogrraphhy，拖拖曳曝光光（形狀狀光闌積積分曝光光）l

47、aaserr drragggingg，圖形形化paaralllell paatteerniing，3D形形貌等高高級(jí)加工工，比如如，閃耀耀槽型、微透鏡鏡陣列、多臺(tái)階階圖形、點(diǎn)陣圖圖形等，支持薄薄膠和厚厚膠工藝藝。支持持DXFF，GDDSIII，位圖圖文件。只要有有基本計(jì)計(jì)算機(jī)背背景和圖圖像知識(shí)識(shí)，適當(dāng)當(dāng)培訓(xùn)后后，就可可以上機(jī)機(jī)操作。支持224小時(shí)時(shí)不間斷斷運(yùn)行，運(yùn)行成成本低，占地44平方米米，基本本免維護(hù)護(hù)。適合合于科學(xué)學(xué)研究、研究生生培養(yǎng)之之用途。（3）、大幅面面微納金金屬模具具激光加加工設(shè)備備工程樣樣機(jī)：iiEnggravver大幅面激激光精密密微加工工設(shè)備，用于超超薄TVV背光源源金屬模

48、模具制備備。可實(shí)實(shí)現(xiàn)幅面面1570寸寸。大尺尺寸精密密導(dǎo)光板板的模具具光學(xué)性性能為業(yè)業(yè)內(nèi)做好好水平，精密模模具加工工設(shè)備與與工藝成成熟度得得到充分分驗(yàn)證，加工的的超薄導(dǎo)導(dǎo)光板的的光學(xué)效效率、導(dǎo)導(dǎo)光均齊齊度為業(yè)業(yè)內(nèi)最高高水準(zhǔn)。性能參數(shù)數(shù)：最小小微結(jié)構(gòu)構(gòu)尺寸115umm激光光源源： HYPERLINK mailto:100kHz10W 300kHzz100W機(jī)臺(tái)：花花崗石機(jī)機(jī)臺(tái)光學(xué)頭單單次掃描描面積：10mmmx110mmm - 15mmmx115mmm加工速率率：4-10小小時(shí)（不不同模具具尺寸和和光學(xué)網(wǎng)網(wǎng)點(diǎn)）運(yùn)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)臺(tái)：直線(xiàn)線(xiàn)電機(jī)驅(qū)驅(qū)動(dòng)定位精度度：0.1umm行程：根根據(jù)型號(hào)號(hào)確定軟件：光光

49、學(xué)設(shè)計(jì)計(jì)文檔格格式，或或*.DDXF；*.AARR配套：整整套網(wǎng)點(diǎn)點(diǎn)設(shè)計(jì)和和處理工工藝（4）、激光動(dòng)動(dòng)態(tài)圖形形簽注系系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了不不需要位位移和旋旋轉(zhuǎn)的33D動(dòng)態(tài)態(tài)圖形的的實(shí)時(shí)簽簽注方法法和關(guān)鍵鍵技術(shù)。采用曲曲面擴(kuò)散散片實(shí)現(xiàn)現(xiàn)3D動(dòng)動(dòng)態(tài)圖像像簽注的的景深變變化，實(shí)實(shí)現(xiàn)簽注注的動(dòng)態(tài)態(tài)聚焦，同時(shí)設(shè)設(shè)計(jì)不同同棱角位位置與棱棱角鍥角角，通過(guò)過(guò)軟件控控制記錄錄圖形的的位置，分別對(duì)對(duì)應(yīng)在相相應(yīng)鍥形形棱鏡位位置，一一次性簽簽注將能能獲得不不同再現(xiàn)現(xiàn)視角的的角度與與方向的的效果。簽注效效率高，適合工工程化應(yīng)應(yīng)用。能夠同時(shí)時(shí)滿(mǎn)足變變景深、多視角角簽注的的要求，提高了了簽注圖圖形技術(shù)術(shù)門(mén)檻。圖形簽簽注僅需需5秒至至

50、10秒秒，能滿(mǎn)滿(mǎn)足激光光簽注的的工程化化應(yīng)用。在工業(yè)業(yè)化應(yīng)用用方面，可應(yīng)用用在銀行行卡、護(hù)護(hù)照、等等證卡的的個(gè)性化化序列號(hào)號(hào)和動(dòng)態(tài)態(tài)圖形的的簽注，號(hào)牌激激光安全全防偽簽簽注，食食品安全全三維碼碼溯源簽簽注技術(shù)術(shù)等公共共安全領(lǐng)領(lǐng)域上。2、完成成場(chǎng)地建建設(shè)：220000平方米米場(chǎng)地。（1）、機(jī)械部部件裝配配間（2）、電氣部部件裝配配間（3）、總裝調(diào)調(diào)試間（4）、部件、材料、成品倉(cāng)倉(cāng)庫(kù)（5）、員工培培訓(xùn)室（6）、生產(chǎn)調(diào)調(diào)度室鑒定年限限：本項(xiàng)項(xiàng)目的鑒鑒定年限限為20017年年3 月月。（四）技技術(shù)或工工藝特點(diǎn)點(diǎn)以及與與現(xiàn)有技技術(shù)或工工藝比較較所具有有的優(yōu)勢(shì)勢(shì)技術(shù)特點(diǎn)點(diǎn)：（1）攻攻克了空空間-位位相調(diào)制

51、制的圖形形化技術(shù)術(shù)，微米米-納米米混合光光場(chǎng)調(diào)制制，從而而能實(shí)現(xiàn)現(xiàn)/4結(jié)結(jié)構(gòu)分辨辨率的國(guó)國(guó)際領(lǐng)先先水平（在3555波長(zhǎng)長(zhǎng)下，實(shí)實(shí)現(xiàn)1000nmm結(jié)構(gòu)）；（22）納秒秒時(shí)序33D導(dǎo)航航飛行曝曝光，實(shí)實(shí)現(xiàn)大面面積微納納米結(jié)構(gòu)構(gòu)的快速速光刻，定位精精度達(dá)到到20nnm；（3）海海量數(shù)據(jù)據(jù)處理和和直寫(xiě)軟軟件與硬硬件技術(shù)術(shù)；支持持40TTB的數(shù)數(shù)據(jù)處理理。（44）4-6軸的的納米精精度控制制技術(shù)；（5）微納功功能材料料加工的的工藝：力圖在在國(guó)際上上率先實(shí)實(shí)現(xiàn)3DD納米印印刷技術(shù)術(shù)，為柔柔性材料料功能化化提供關(guān)關(guān)鍵技術(shù)術(shù)手段。在應(yīng)用用工藝上上，重點(diǎn)點(diǎn)攻克在在顯示、新型照照明和觸觸控傳感感材料低低成本制制造

52、技術(shù)術(shù)，推進(jìn)進(jìn)行業(yè)合合作和潛潛在重大大應(yīng)用，與相關(guān)關(guān)產(chǎn)業(yè)（例如華華為）共共同研發(fā)發(fā)攻關(guān)“微納米米結(jié)構(gòu)手手機(jī)功能能”光刻工工藝研究究。技術(shù)先進(jìn)進(jìn)性?xún)?yōu)勢(shì)勢(shì)：1、微納納直寫(xiě)光光刻與加加工設(shè)備備，綜合合了微納納光學(xué)、精密機(jī)機(jī)械、數(shù)數(shù)控電氣氣、納米米精度控控制，利利用計(jì)算算機(jī)或工工作站進(jìn)進(jìn)行4-5軸的的光機(jī)電電聯(lián)合控控制，高高端技術(shù)術(shù)的集成成度高，設(shè)備自自動(dòng)化化化運(yùn)行，屬于高高端智能能裝備。2、該類(lèi)類(lèi)加工裝裝備，加加工宏觀(guān)觀(guān)尺寸達(dá)達(dá)到米級(jí)級(jí)，微結(jié)結(jié)構(gòu)的尺尺寸達(dá)到到亞微米米級(jí)，部部件運(yùn)行行精度、數(shù)據(jù)分分辨率定定義，均均需達(dá)到到1000納米以以下級(jí)別別，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)大幅面面、微結(jié)結(jié)構(gòu)、高高精度特特征的統(tǒng)統(tǒng)一。3、

53、海量量數(shù)據(jù)：以0.1微米米分辨率率電路為為例，2200mmmx2200mmm的電電路的數(shù)數(shù)據(jù)量為為4.00TB, 一幅幅6000mmXX10000mmm電路數(shù)數(shù)據(jù)達(dá)660Tbb,因此此，這種種精密電電路圖形形的海量量處理技技術(shù)和軟軟件、數(shù)數(shù)據(jù)傳輸輸與壓縮縮、光電電轉(zhuǎn)換和和光刻模模式等，具有極極高難度度。4、微納納直寫(xiě)光光刻與加加工設(shè)備備，是多多行業(yè)生生產(chǎn)工藝藝流程中中的關(guān)鍵鍵核心裝裝備，用用于提供供光掩模模板、微微米線(xiàn)寬寬電路制制備與模模板、或或進(jìn)行直直接圖形形結(jié)構(gòu)加加工，比比如超薄薄導(dǎo)光板板模具，是微納納功能材材料（裸裸眼3DD顯示、柔性電電路、觸觸控）、器件（背光源源等）等等行業(yè)不不可缺少

54、少的工具具。工藝優(yōu)勢(shì)勢(shì)：本項(xiàng)目申申請(qǐng)單位位，長(zhǎng)期期從事微微納制造造領(lǐng)域的的研發(fā)創(chuàng)創(chuàng)新和產(chǎn)產(chǎn)業(yè)化，尤其在在超精密密大幅面面光刻直直寫(xiě)等裝裝備制造造方面具具有100余年的的工藝積積累，公公司是我我國(guó)唯一一具有整整套微納納米柔性性制造產(chǎn)產(chǎn)線(xiàn)的企企業(yè)，具具有國(guó)際際領(lǐng)先水水平。國(guó)國(guó)內(nèi)外同同行和專(zhuān)專(zhuān)家參觀(guān)觀(guān)后給予予充分贊贊賞和肯肯定，為為此，公公司曾承承擔(dān)了國(guó)國(guó)家8663計(jì)劃劃和電子子發(fā)展基基金等項(xiàng)項(xiàng)目，并并圓滿(mǎn)完完成。在在微納精精密制造造領(lǐng)域，項(xiàng)目申申請(qǐng)單位位無(wú)疑在在國(guó)內(nèi)同同行中具具有領(lǐng)先先地位，并在國(guó)國(guó)外同行行中具有有影響。工藝設(shè)備備上：申申請(qǐng)單位位是我國(guó)國(guó)唯一的的具有獨(dú)獨(dú)立研制制“高端激激光直寫(xiě)寫(xiě)光

55、刻與與納米壓壓印設(shè)備備”企業(yè)，厚膠曝曝光設(shè)備備（8000mmmx13300mmm），擁有自自主研發(fā)發(fā)的“大型紫紫外激光光直寫(xiě)設(shè)設(shè)備”（iGGrappherr8200-15500，11000mmmx13300mmm），支持55.5代代線(xiàn)光掩掩模板的的制備，在光刻刻分辨率率、CDD和綜合合寫(xiě)入速速率等，具有國(guó)國(guó)際同行行的先進(jìn)進(jìn)水準(zhǔn)。圖4 高高端裝備備實(shí)驗(yàn)場(chǎng)地地國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)業(yè)環(huán)境的的發(fā)展，對(duì)高端端微納裝裝備具有有大量的的需求；與國(guó)外外企業(yè)相相比，在在技術(shù)溝溝通、服服務(wù)響應(yīng)應(yīng)能力方方面具有有優(yōu)勢(shì)；國(guó)內(nèi)還還缺乏微微納裝備備企業(yè)，維格公公司掌握握了核心心技術(shù)，擁有人人才團(tuán)隊(duì)隊(duì)，依托托于“國(guó)家地地方聯(lián)合合工程研

56、研究中心心”，維格格公司具具有高端端裝備產(chǎn)產(chǎn)業(yè)化的的優(yōu)勢(shì)。圖5 國(guó)國(guó)家地方方聯(lián)合工工程中心心配套生生產(chǎn)條件件（五）重重大關(guān)鍵鍵技術(shù)突突破對(duì)行行業(yè)技術(shù)術(shù)進(jìn)步的的重要意意義和作作用我國(guó)的信信息顯示示、光電電子等行行業(yè)已有有很大的的產(chǎn)業(yè)基基礎(chǔ)，江江蘇省納納米產(chǎn)業(yè)業(yè)在全國(guó)國(guó)具有優(yōu)優(yōu)勢(shì)地位位?！笆逦濉逼陂g，江蘇省省大力發(fā)發(fā)展戰(zhàn)略略新興產(chǎn)產(chǎn)業(yè)，重重點(diǎn)發(fā)展展新能源源、新材材料、高高端制造造、生物物技術(shù)和和新醫(yī)藥藥、節(jié)能能環(huán)保和和新一代代信息技技術(shù)等六六大新興興產(chǎn)業(yè)。在這些些產(chǎn)業(yè)中中，新型型顯示、固體照照明、納納米印刷刷與柔性性光電子子等是國(guó)國(guó)家中長(zhǎng)長(zhǎng)期科技技發(fā)展規(guī)規(guī)劃、江江蘇省科科技規(guī)劃劃中的重重點(diǎn)發(fā)展

57、展領(lǐng)域，與“柔性微微納材料料與制造造技術(shù)”緊密相相關(guān)。蘇州工業(yè)業(yè)園區(qū)布布局了國(guó)國(guó)際科技技園、蘇蘇州納米米城等載載體，提提供了孵孵化等系系列服務(wù)務(wù)，是蘇蘇州納米米技術(shù)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)化基基地。蘇蘇州納米米城將占占地約1100公公頃，規(guī)規(guī)劃建筑筑面積約約1300萬(wàn)平方方米，于于20110年111月啟啟動(dòng)建設(shè)設(shè)，重點(diǎn)點(diǎn)發(fā)展納納米新材材料、納納米光電電子、微微納制造造、納米米生物醫(yī)醫(yī)藥和納納米環(huán)保保等五大大產(chǎn)業(yè)領(lǐng)領(lǐng)域，以以構(gòu)建產(chǎn)產(chǎn)業(yè)生態(tài)態(tài)圈。蘇大維格格在高端端微納裝裝備上的的自主研研發(fā)能力力，無(wú)疑提提高了自自身的競(jìng)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)勢(shì)和可持持續(xù)發(fā)展展性，基基本不依依賴(lài)于國(guó)國(guó)外的設(shè)設(shè)備限制制。為此，國(guó)國(guó)家、省省部相關(guān)關(guān)領(lǐng)導(dǎo)

58、和和業(yè)內(nèi)專(zhuān)專(zhuān)家多次次視察和和調(diào)研本本項(xiàng)目申申請(qǐng)單位位的高端端裝備和和平板顯顯示關(guān)鍵鍵器件的的研發(fā)和和產(chǎn)業(yè)化化進(jìn)展和和做法。國(guó)家發(fā)改改委副主主任朱之之鑫、工工信部副副部長(zhǎng)蘇蘇波、科科技部副副部長(zhǎng)曹曹健林等等重要領(lǐng)領(lǐng)導(dǎo)視察察后，均均給予充充分肯定定和鼓勵(lì)勵(lì)。 國(guó)家發(fā)改改委的祁祁司長(zhǎng)等等領(lǐng)導(dǎo)視視察，對(duì)對(duì)申請(qǐng)單單位在高高端微納納光刻設(shè)設(shè)備和平平板顯示示領(lǐng)域研研發(fā)創(chuàng)新新和產(chǎn)業(yè)業(yè)化給予予肯定。工信部蘇蘇波部長(zhǎng)長(zhǎng)考察蘇蘇大維格格人大副委委員長(zhǎng)視視察蘇大大維格并并題詞 科技技部曹健健林副部部長(zhǎng)視察察維格公公司圖6 領(lǐng)導(dǎo)肯肯定四、項(xiàng)目目建設(shè)方方案項(xiàng)目建設(shè)設(shè)的主要要內(nèi)容、建設(shè)規(guī)規(guī)模、采采用的工工藝路線(xiàn)線(xiàn)與技術(shù)特點(diǎn)

59、、設(shè)備選選型及主主要技術(shù)術(shù)經(jīng)濟(jì)指指標(biāo)、產(chǎn)產(chǎn)品市場(chǎng)場(chǎng)預(yù)測(cè)、建設(shè)地地點(diǎn)、建建設(shè)周期期和進(jìn)度度安排、建設(shè)期期管理等等。（一）建建設(shè)的主主要內(nèi)容容、建設(shè)設(shè)規(guī)模面向平板板顯示和和大尺寸寸電容觸觸控屏、精密柔柔性電路路、精密密PCBB及封裝裝、MEEMS、公共安安全、科科研等不不同行業(yè)業(yè)應(yīng)用，用3年年時(shí)間建建設(shè)達(dá)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)化階階段，開(kāi)發(fā)出出相對(duì)應(yīng)應(yīng)的、具具有國(guó)際際先進(jìn)水水平及滿(mǎn)滿(mǎn)足工廠(chǎng)廠(chǎng)產(chǎn)業(yè)需需求的微微納加工工裝備，完成四四種型號(hào)號(hào)設(shè)備的的研發(fā)及及產(chǎn)業(yè)化化：1、大幅幅面掩模模版制版版光刻設(shè)設(shè)備：大大型紫外外高速圖圖形化直直寫(xiě)設(shè)備備，用于于55英英寸以上上平板顯顯示、大大尺寸電電容觸控控屏生產(chǎn)產(chǎn)用掩模模版制備備

60、。主要要技術(shù)指指標(biāo)：典典型線(xiàn)寬寬2umm，圖形形化光刻刻速度440000mm22/miin。2、MMEMSS、封裝裝光刻機(jī)機(jī)：中小小型紫外外圖形化化直寫(xiě)設(shè)設(shè)備，用用于6-8英寸寸MEMMS、封封裝等工工藝制程程，可適適用于厚厚膠工藝藝?？捎糜糜诳蒲醒性核牡钠骷すに囇芯烤亢托∨恐苽鋫?。主要要技術(shù)指指標(biāo)：典典型線(xiàn)寬寬1umm，精密密圖形的的光刻速速度5000mmm2/mmin，可適用用厚膠光光刻工藝藝大于110umm。3、精精密柔性性電路、PCBB無(wú)掩模模光刻機(jī)機(jī)：高速速無(wú)掩模模曝光機(jī)機(jī)，用于于下一代代10uum以下下精密電電路生產(chǎn)產(chǎn)。主要要技術(shù)指指標(biāo)：最最小線(xiàn)寬寬5umm，光刻刻速度大大