MODIS-影像氣溶膠反演

1、精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上專心-專注-專業(yè)專心-專注-專業(yè)精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上專心-專注-專業(yè)一、MODIS 影像的輻射校正 在ENVI 5.0中打開MODIS影像的HDF文件就已經(jīng)做了輻射校正，打開HDF文件的方法是File-Open As-EOS-MODIS打開后在數(shù)據(jù)列表中可以看到三個(gè)文件，第一個(gè)是發(fā)射率Emissive（band20-band36），第二個(gè)是輻射率Radiance（band1-band26）,第三個(gè)是反射率Reflectance（band1-band26），如圖所示。二、幾何校正 2.1 發(fā)射率文件的幾何校正 （1）Georeferenc

2、e MODIS 工具 ENVI5.0下有對(duì)特定傳感器進(jìn)行幾何校正的工具，其中就有專門針對(duì)MODIS數(shù)據(jù)的幾何校正， Geometric CorrectionGeoreference by sensorGeoreference MODIS （2）選擇發(fā)射率文件 （3）Georeference MODIS 參數(shù)設(shè)置 Georeference MODIS Parameters對(duì)話框中，選擇投影信息見圖，其中要注意保存GCP控制點(diǎn)以及對(duì)MODIS影像做雙眼皮去除（在MODIS1 B圖像中,存在著重疊現(xiàn)象,俗稱“雙眼皮”現(xiàn)象(bow-tie effect) ,嚴(yán)重地影響著MODIS圖像的應(yīng)用），然后點(diǎn)擊

3、OK。 （4）發(fā)射率幾何校正參數(shù)設(shè)置 Registration Parameters對(duì)話框中，注意分辨率是1000（默認(rèn)）選擇保存路徑點(diǎn)擊OK即可。（5）發(fā)射率幾何校正結(jié)果2.2 反射率文件的幾何校正 （1）Wrap from GCPs：Image to Map Registration 工具 發(fā)射率文件幾何校正之后，可以利用導(dǎo)出的GCP控制點(diǎn)來校正其他文件。在工具箱中找 Geometric CorrectionRegistrationWrap from GCPs：Image to Map Registration工具。（2）選擇 GCP 控制點(diǎn)文件 雙擊Wrap from GCPs：Imag

4、e to Map Registration工具后打開選擇GCP控制點(diǎn)對(duì)話框，選擇之前保持的GCP控制點(diǎn)文件。（3）Image to Map 投影設(shè)置 接著打開Image to Map Registration 對(duì)話框，調(diào)整參數(shù)如圖，注意更改分辨率為1000，然后點(diǎn)擊OK。（4）選擇待校正影像，調(diào)整幾何校正方法 選擇待校正的反射率文件。打開Registration Parameters對(duì)話框參數(shù)設(shè)置如圖，注意更改幾何校正方法為Triangulation和重采樣方法Bilinear，使之與發(fā)射率校正結(jié)果相匹配。 （幾何校正模型：RST為仿射變換模型、Polynomial為多項(xiàng)式模型、Triangu

5、lation為局部三角網(wǎng)模型）反射率幾何校正結(jié)果 （6）反射率校正結(jié)果與發(fā)射率校正結(jié)果對(duì)比 ENVI 5.0中提供了更多的圖像間的對(duì)比查看，可以點(diǎn)擊Views菜單選擇創(chuàng)建多個(gè)視圖，然后進(jìn)行l(wèi)ink查看，也可以將兩個(gè)圖像添加進(jìn)一個(gè)視圖利用影像查看功能查看。2.3 角度數(shù)據(jù)集的幾何校正 該實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)采用的是MODIS L1B 1KM數(shù)據(jù)，其中包括了角度信息，但是角度數(shù)據(jù)集的行列號(hào)與科學(xué)數(shù)據(jù)集的行列號(hào)不同，因此如果想用校正發(fā)射率的GCP控制點(diǎn)來校正角度數(shù)據(jù)集必須在校正角度數(shù)據(jù)集之前進(jìn)行重采樣到行列號(hào)為1354 ,2030。（1）打開角度數(shù)據(jù)集 角度數(shù)據(jù)集的打開不能和科學(xué)數(shù)據(jù)集一樣直接打開，打開路徑為F

6、ile - Open As - Generic Formats- HDF,點(diǎn)擊后選擇HDF文件。選擇四個(gè)角度數(shù)據(jù)集：衛(wèi)星天頂角（SensorZ），衛(wèi)星方位角（SensorA），太陽天頂角（SolarZ），太陽方位角（SolarA）。 （2）重采樣工具 角度數(shù)據(jù)集的行列數(shù)是271*406的，而發(fā)射率的行列數(shù)是1354*2030的，因此要用之前的GCP文件來校正角度數(shù)據(jù)集必須重采樣。重采樣工具Raster ManagementResize Data。 (3)重采樣參數(shù)設(shè)置 在重采樣參數(shù)設(shè)置窗口中，設(shè)置X Y的采樣比例：X=4.9963 Y=5 點(diǎn)擊Enter，即可采樣到1354*2030，選擇重采

7、樣方法為Blinear。將四個(gè)角度數(shù)據(jù)進(jìn)行重采樣之后就可以進(jìn)行幾何校正了。 （4）角度數(shù)據(jù)集幾何校正 角度數(shù)據(jù)的幾何校正和發(fā)射率的幾何校正是一樣的，根據(jù)校正發(fā)射率產(chǎn)生的GCP控制點(diǎn)，利用Wrap from GCPs：Image to Map Registration工具進(jìn)行校正。 三、波段合成和裁剪 3.1 反射率和發(fā)射率的合成 （1）Layer Satacking 工具 在 ENVI5.0 下打開之前校正好的反射率文件和發(fā)射率文件，利用 Layer Stacking 工具進(jìn)行合成，雙擊Layer Satacking 工 具 ， 打 開 參 數(shù) 設(shè) 置 窗 口 。 （2）空間裁剪 點(diǎn)擊 Imp

8、ort File選擇幾何校正后的反射率文件和發(fā)射率文件，然后利用北京市的行政范圍來裁剪，Spatial SubsetROI/EVF，選擇Beijing.evf（3）調(diào)整合成文件的順序 點(diǎn)擊 Recorder File 調(diào)整順序，必須是反射率在上，發(fā)射率在下。合成結(jié)果如圖所示3.2 角度數(shù)據(jù)的合成 角度數(shù)據(jù)的合成和反射率發(fā)射率的合成是一樣的，只是要注意角度數(shù)據(jù)的合成時(shí)的順序是衛(wèi)星天頂角（Sensor Zenith）、衛(wèi)星方位角（Sensor Azimuth）、太陽天頂角（Solar Zenith）、太陽方位角（Solar Zenith），順序如圖所示，合成結(jié)果如圖所示。 四、合成后處理 4.1

9、云檢測(cè) 云檢測(cè)工具是擴(kuò)展工具，該工具實(shí)現(xiàn)對(duì)反射率和發(fā)射率的合成文件進(jìn)行去云處理，將modis_cloud.sav文件放在ENVI 5.0安裝目錄下的Extensions文件夾下，重啟ENVI即可看到modis_cloud工具。 （1）modis_cloud 工具 雙擊 modis_cloud 工具，選擇幾何校正結(jié)果，就是反射率發(fā)射率合成裁剪后的結(jié)果。 4.2角度數(shù)據(jù)后處理 HDF中的角度數(shù)據(jù)是擴(kuò)大了100倍的，所以在進(jìn)行氣溶膠反演之前要將角度合成數(shù)據(jù)乘以0.01。 band math 工具 （2）角度數(shù)據(jù)波段運(yùn)算 b1*0.01（3）選擇角度合成文件 保存角度數(shù)據(jù)處理結(jié)果 五、氣溶膠反演 氣溶膠反演工具（modis_aerosol_inversion.sav）也是擴(kuò)展工具，放在ENVI5.0安裝目錄下的Extensions文件夾下重啟ENVI即可。 5.1