proe陣列教程

1、陣列詳細(xì)教程1、陣列理論4、創(chuàng)建尺寸陣列7、創(chuàng)建參照陣列陣列特征即將單個(gè)特征、主要內(nèi)容：2、創(chuàng)建方向陣列列5、創(chuàng)建填充陣列8、創(chuàng)建曲線陣列10、陣列實(shí)例1.陣列理論：3、創(chuàng)建軸陣6、創(chuàng)建表陣列9、創(chuàng)建關(guān)系陣列特征組或陣列特征按照某種規(guī)則排列,生成大量形狀相同或相近的特征。常用于快速、準(zhǔn)確地創(chuàng)建數(shù)量較多、排列規(guī)則且形狀相同或相近的一組結(jié)構(gòu)注意：陣列只能對(duì)單個(gè)特征進(jìn)行陣列，要想對(duì)多個(gè)特征進(jìn)行陣列，須將多個(gè)特征編為一個(gè)組進(jìn)行陣列。1.1 執(zhí)行陣列方法方法一：右鍵單擊要陣列的特征或特征組（該特征稱之為“陣列導(dǎo)引”），在快捷菜單中選擇陣列方法二：選中要陣列的特征或特征組，單擊工具欄陣列按鈕：方法三：選中

2、要陣列的特征或特征組，單擊編輯菜單一一陣列1.2 陣列操控板簡(jiǎn)介1.3 陣列再生選項(xiàng)一一相同、可變、一般選定用于陣列的特征或特征組稱之為“陣列導(dǎo)引”（原始特征）.陣列出來(lái)的其他副本稱之為陣列成員.原始特征和陣列成員遵循父子關(guān)系，每個(gè)陣列成員都從屬于原始特征，即原始特征（父特征）發(fā)生變化時(shí)，陣列成員（子特征）相應(yīng)也發(fā)生變化。在預(yù)覽時(shí)，陣列導(dǎo)引的預(yù)覽邊界始終比其他陣列成員粗許多。如下圖相同：子、父特征的尺寸大小、參照必須完全相同，各特征之間不可相交；可變：子、父特征的尺寸大小、參照可以不同，但各個(gè)特征之間不可相交；一般：子、父特征的尺寸大小、參照可以不同，各個(gè)特征之間可以相交。如圖所示再生選項(xiàng)。相

3、同o可變-*-1銀選項(xiàng)屬性可變型陣列降列前相同型陸列一般型陣列1.4陣列的類型在proe4.0中，陣列的類型共有七種，分別是尺寸陣列(Dimension)、方向陣列(Direction)、軸心陣列(Axis填充陣列(Fill)、表陣列(Table)、參考陣列(Reference)和曲線陣列。首先我們應(yīng)對(duì)這些陣列的類型有所了解，才會(huì)選擇合適的陣列類型。 方向陣列：用于創(chuàng)建線性陣列或叫矩形陣列，陣列出來(lái)的特征呈直線排列，可以創(chuàng)建一個(gè)方向上的陣列，也可以創(chuàng)建兩個(gè)方向上的陣列。 軸陣列：用于創(chuàng)建環(huán)形陣列，即圓周方向上的陣列，該陣列也有兩個(gè)方向：圓周方向和半徑方向。方向陣列和軸陣列都是proewildf

4、ire版新增加的陣列類型，這兩種類型的陣列可以滿足大多數(shù)情況下的需要，并且操作簡(jiǎn)單，不易出錯(cuò)。 尺寸陣列：使用尺寸來(lái)驅(qū)動(dòng)陣列的方向，選擇不同的尺寸類型，可創(chuàng)建不同的陣列，如選擇線性尺寸，類似與方向陣列，選擇角度尺寸，類似于軸陣列。優(yōu)點(diǎn)：功能強(qiáng)大，可使用關(guān)系式創(chuàng)建各種復(fù)雜的陣列。缺點(diǎn)：操作稍有復(fù)雜，初學(xué)者難以上手。我的意見(jiàn)：如果用方向陣列或軸陣列能滿足要求，建議初學(xué)者盡量使用這兩種陣列，可能一些proe老手喜歡用尺寸陣列。填充陣列：在指定草繪區(qū)域內(nèi)按照某種排列方式創(chuàng)建陣列。也是WildFire新引入的。通過(guò)指定一個(gè)草繪的陣列區(qū)域，Proe就會(huì)自動(dòng)用原始特征根據(jù)所給的形狀及參數(shù)來(lái)填滿整個(gè)區(qū)域.參照

5、陣列：用于創(chuàng)建依附與已有陣列特征上的陣列。,表陣列：通過(guò)選取一定數(shù)量的驅(qū)動(dòng)尺寸，從而形成一個(gè)陣列表，由表格里的尺寸去驅(qū)動(dòng)陣列里每個(gè)成員的尺寸。優(yōu)點(diǎn)：尺寸更加靈活，適用于創(chuàng)建不規(guī)則形狀的陣列；缺點(diǎn)：效率低曲線陣列：可將原始特征沿某條曲線進(jìn)行陣列該類型為WildFire3.0以后新增加的陣列類型。所有類型的陣列都可以附加可變化的尺寸。1.5其他在創(chuàng)建好的陣列特征上單擊鼠標(biāo)右鍵，彈出下圖所示快捷菜單刪除：刪除原始特征和所有陣列實(shí)例刪除陣列：刪除所有陣列實(shí)例，保留原始特征要修改已經(jīng)陣列好的特征，只能在原始特征上修改。.挽伸41拉伸41拉伸4控伸4拉伸4二拉伸4倒圄翔1陣列的導(dǎo)引特征，要修改原始特征,單

6、擊該成員修改一在此插入C&1陣列成員（陣列實(shí)例）川2、創(chuàng)建方向陣列可用于創(chuàng)建線性陣列，方向陣列要求選擇一些參照來(lái)確定陣列的方向，如果選取了平面或平曲面，陣列將垂直與參照延伸；如果選取的是線性曲線、邊或軸，陣列將沿著參照延伸，也可以將陣列延伸方向反向180度。也可選擇坐標(biāo)系作為方向參照第一個(gè)方向的參照一第一個(gè)方向的陣列數(shù)目«第一個(gè)方向的陣列成員的間隔反向方向第二個(gè)方向的參照，第二個(gè)方向的,列數(shù)目/反向方向22.1創(chuàng)建一個(gè)方向的方向陣列1）打開(kāi)配套文件：dir_pattern_1st.prt2）右鍵單擊“拉伸2”，選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具3）在操控板中，將陣列類型改為“方向”4

7、）選擇長(zhǎng)方體左邊實(shí)體邊（右圖紅色部分）作為第一方向的方向參照（亦可選擇其他參照）5）在操控板中輸入第一個(gè)方向的成員數(shù)：4,如陣列方向不是預(yù)期效果可單擊反向按鈕，輸入第一個(gè)方向陣列成員的間距：10,確定。因艮堂衰尺寸奉招.表婀一皿出向國(guó)1|1%jg.VjlOO最終效果如下圖16）右鍵單擊剛剛做出來(lái)的陣列特征，選擇編輯，將陣列拉伸數(shù)從4該為8（右圖2）,再生，效果如右圖3所示以下演示為該陣列增加一個(gè)可變尺寸7）右鍵單擊剛剛做出來(lái)的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，此時(shí)該陣列導(dǎo)引特征的尺寸將顯示在屏幕上，選擇該拉伸特征的長(zhǎng)度尺寸5,將尺寸添加到下圖所示列表框

8、，增量改為3,中鍵確定，最終結(jié)果如右下圖所示，該陣列成員的拉伸高度在陣列方向上依次增加3。該可變尺寸的變化增量若美茶堂女提量在第二個(gè)方向附加可變化的尺寸，要想讓尺寸在第一個(gè)方向發(fā)生變化，必須將該尺寸添加到此列表框，按CTRL鍵可多選J在第一個(gè)方向附加可變化的尺寸，要想讓尺寸在第一個(gè)方向發(fā)生變化，必須將該尺寸添加到此列表框，按CTRL鍵可多選公以下演示為該陣列增加兩個(gè)可變尺寸8）右鍵單擊剛剛做出來(lái)的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，此時(shí)該陣列導(dǎo)引特征的尺寸將顯示在屏幕上，按住CTRL®選擇該拉伸特征的定位尺寸30,將尺寸添加到下圖所示列表框，增

9、量改為-5,中鍵確定,最終結(jié)果如右下圖所示，該陣列成員的拉伸高度在陣列方向上依次增加3,同時(shí)到right平面的距離依次減小5。arm尺寸即量劃61的倬300的&戶1白1伸-5W按關(guān)系定義啦-fsm尺寸噌量單擊*區(qū)添加將關(guān)系定義墻鼻H鬧費(fèi)尺寸M廉性方向同IL變速2.2創(chuàng)建兩個(gè)方向的方向陣列1）打開(kāi)配套文件：dir_pattern_2nd.prt2）按住Ctrl鍵依次選擇特征“拉伸3”和“倒圓角1”，右鍵單擊并選擇組，將這兩個(gè)特征歸組。3）右鍵單“組LACAL_GROUP,擊選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具4）在操控板中，將陣列類型改為“方向”5）選擇長(zhǎng)方體左邊實(shí)體邊（右圖紅色部分）作為第一方向

10、的方向參照，（亦可選擇其他參照）在操控板中輸入第一個(gè)方向的成員數(shù)：8,單擊反向按鈕，輸入第一個(gè)方向陣列成員的間距：10。6）單擊操控板”方向2參照收集器”，選擇長(zhǎng)方體水平邊作為第二個(gè)方向參照，在操控板中輸入第一個(gè)方向的成員數(shù)：5,輸入第二個(gè)方向陣列成員的間距：18,確定。MJ尺寸星性方向回1iI條邊以下演示為該陣列增加兩個(gè)可變尺寸7）右鍵單擊剛剛做出來(lái)的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，此時(shí)該陣列導(dǎo)引特征的尺寸將顯示在屏幕上，選擇該拉伸特征的長(zhǎng)度尺寸5,將該尺寸添加到左下圖所示列表框，增量改為3,接下來(lái)單擊方向2下面的列表框，同樣選擇該拉伸特征的長(zhǎng)度尺

11、寸5,將尺寸添加到左下圖所示列表框，增量改為-0.5。確定。該陣列成員的拉伸高度在第一個(gè)陣列方向上依次增加3,同時(shí)，在第二個(gè)陣列方向上依次減小0.5。最終結(jié)果如右下圖所示。方向之尺寸453、創(chuàng)建軸陣列使用軸陣列可圍繞指定的軸徑向陣列特征（即環(huán)形陣列），創(chuàng)建軸陣列需要指定以下幾個(gè)選項(xiàng)：指定軸參照：陣列按選定的參照軸按角度延伸?？梢苑聪蚪嵌确较?，使陣列從順時(shí)針?lè)较蜃優(yōu)槟鏁r(shí)針?lè)较蜓由?。注意：該軸必須在陣列導(dǎo)引之前創(chuàng)建。指定第一個(gè)方向的成員數(shù)，即繞軸參照旋轉(zhuǎn)的圓周方向，注意：成員數(shù)包含陣列導(dǎo)引。指定角度間距：以度為單位，可以在操控板或圖形窗口中編輯角度間距，或拖動(dòng)控制滑塊進(jìn)行編輯。附加可選設(shè)置設(shè)置角度

12、范圍：設(shè)置陳列成員繞軸參照等距分割的角度范圍，即總角度。可從下拉列表選擇90、180、270或360也可自己輸入角度范圍。該選項(xiàng)和角度間距只能同時(shí)使用一個(gè)。成員方向：確定陣列成員繞軸參照定向的方式，有“從動(dòng)旋轉(zhuǎn)”和“定向”兩附加可變尺1同克寸森尺寸蒙毓攜選項(xiàng)軸ifedA個(gè)曜目陣列方向軸參類型標(biāo)記“照卡J/¥一一f廣第_個(gè)方向（圓周第二個(gè)方向方向）的陣列數(shù)史J方向）的障第.'1/一、,N660003AZ3鬻W/1第一個(gè)方向的陣列單擊該按鈕|1S口成員的角度間隔¥可設(shè)置角度1底JJ范圍.J種方式3.1創(chuàng)建一個(gè)方向的軸陣列1）打開(kāi)配套文件：axis_pattern_1st

13、.prt2）右鍵單擊“組LACAL_GROUP,選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具3）在操控板中，將陣列類型改為“軸”6”，將角度增量改為60,如下圖4）選取基準(zhǔn)軸A_11,在操控板中將陣列成員數(shù)該為“所示，預(yù)覽效果如右圖1個(gè)項(xiàng)目5）在操控板中單擊“設(shè)置角度范圍”按鈕，將陣列角度范圍該為“90”，如下圖所示,預(yù)覽效果如左下圖。6）將陣列角度范圍該回到“360”，單擊確定，最終效果如右下圖以下演示如何更改陣列成員方向再生誨項(xiàng)軸3i1個(gè)項(xiàng)目占90007）右鍵單擊剛剛做出來(lái)的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控板選項(xiàng)按鈕，將成員方向改為“常數(shù)”，如左下圖所示。單擊確定，最終效果如右下圖2.一般S：60一00v旋

14、轉(zhuǎn)平面上的成員方向從動(dòng)旋轉(zhuǎn)層性以下演示如何為該陣列附加可變化尺寸8）返回到步驟6所做陣列結(jié)果9）右鍵單擊該陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，此時(shí)該陣列導(dǎo)引特征的尺寸將顯示在屏幕上，選擇該特征的尺寸3.5,將該尺寸添加到左下圖所示列表框，增量改為1,接下來(lái)按住CTRL4擇尺寸R3,增量改為0.5,如右圖1所示，確定。最終結(jié)果如右圖2所示。方向1尺寸電3.1創(chuàng)建兩個(gè)方向的軸陣列1）打開(kāi)配套文件：axis_pattern_2st.prt2）右鍵單擊“組LACAL_GROUP選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具3）在操控板中，將陣列類型改為“軸”4）選取基準(zhǔn)軸A_11,

15、在操控板中將陣列成員數(shù)該為“6”，將角度增量改為60,同時(shí)將第二個(gè)方向的增量改為“3”，徑向間距改為“15”，如下圖所示。?因尺寸莪尺寸一一選理罐慢：T輸一一.1I1個(gè)tw目Xbgoofad4劃oo"-,'-1-".口，一-5）單擊操控板左上角尺寸按鈕，為該陣列添加可變化尺寸。單擊方向1下的列表框，在視圖中選取該特征右邊孔的直徑尺寸2,將增量改為-0.2（圖1）。然后單擊方向2下的列表框，在視圖中選取該特征左邊孔的直徑尺寸2,將增量改為1（圖2）,然后按住CTRLB選擇拉伸高度尺寸5,增量改為5（圖3）,如圖4所示。確定。最終結(jié)果如圖5所示。練習(xí)：創(chuàng)建下圖所示陣列1

16、）打開(kāi)配套文件：axis_pattern.prt.12）右鍵單擊特征“孔1”選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具，注意該孔在創(chuàng)建的時(shí)候使用“徑向”方式定位。3）在操控板中，將陣列類型改為“軸”4）選取基準(zhǔn)軸A_11,在操控板中將陣列成員數(shù)該為“30”，將角度增量改為20,如下圖所示。5）單擊操控板左上角尺寸按鈕，為該陣列添加可變化尺寸。單擊方向1下的列表框，在視圖中選取該特征半徑方向定位尺寸R10（圖1）,將增量改為1,接下來(lái)按住CTRL鍵選擇該孔直徑尺寸巾2（圖2）,將增量改為0.2,如圖3所示。確定。4、創(chuàng)建尺寸陣列所謂尺寸陣列，就是在陣列的時(shí)候需要選擇特征上合適的尺寸作為陣列的方式。通常選擇的是特

17、征的定位尺寸，如選擇線性尺寸，則陣列類似于方向陣列，如選擇角度尺寸，則類似于軸陣列，還可以有其他類型的尺寸，后面會(huì)有講述。所以說(shuō)，尺寸陣列關(guān)鍵是設(shè)置導(dǎo)引特征的標(biāo)注參照，如拉伸一個(gè)圓柱體，要求在拉伸特征中包含角度尺寸，就需要用到合適的參照（或者使用內(nèi)部基準(zhǔn)，構(gòu)造線等等）。尺寸陣列是wildfire版本以前最常用的陣列類型，它的功能非常強(qiáng)大，幾乎可以創(chuàng)建各種類型的陣列。確定是初學(xué)者不太好掌握，操作稍有復(fù)雜。尺寸陣列操控板介紹:尺寸列表寸屬性1個(gè)項(xiàng)目/.、方向標(biāo)記VI個(gè)項(xiàng)目26陣列類型口Z第一個(gè)方向陣列的成員數(shù)/<第一個(gè)方向陣列的尺寸參照收集器I第二個(gè)方向陣列的成羹數(shù)"第二個(gè)方向底列

18、的破尺寸參照收篋>4.1使用尺寸陣列創(chuàng)建線性陣列1）打開(kāi)配套文件：dim_pattern_dir.prt.12）右鍵單擊“組LACAL_GROUP選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具3）在操控板中，將陣列類型改為“尺寸”，單擊第一個(gè)方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位尺寸15添加到該收集器，增量改為“20”（也可在尺寸列表中更改）（圖1）,第一個(gè)方向陣列成員數(shù)改為“4”。然后單擊第二個(gè)方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位尺寸10添加到該收集器，增量改為“15”（也可在尺寸列表中更改）（圖2）,第二個(gè)方向陣列成員數(shù)改為“6”。如圖3所示。確定，最終效果如圖4。F面在這兩個(gè)方向上繼續(xù)添加可

19、變化的尺寸4）右鍵單擊剛剛做出來(lái)的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，按住Ctrl鍵選擇該拉伸特征的長(zhǎng)度尺寸5,增量改為-1,將該尺寸添加到左下圖所示列表框，接下來(lái)單擊方向2下面的列表框，同樣選擇該拉伸特征的長(zhǎng)度尺寸5,將尺寸添加到左下圖所示列表框，增量改為2。確定。該陣列成員的拉伸高度在第一個(gè)陣列方向上依次減小1,同時(shí)，在第二個(gè)陣列方向上依次增大2。最終結(jié)果如右下圖所示。方向】&17FB幽牌J3j1500200樂(lè)美系定弼站金國(guó)M屬性從上面例子可以看出，尺寸陣列每個(gè)方向選擇的第一個(gè)尺寸很重要，一般選擇特征的定位尺寸，該尺寸的變化確定了陣列的形式，

20、后面選擇的另外兩個(gè)尺寸（都是定形尺寸）和以前的方向陣列類似，即附加的可變化尺寸。4.2使用尺寸陣列創(chuàng)建軸陣列1）打開(kāi)配套文件：dim_pattern_axis.prt.12）右鍵單擊“組LOCAL_GROUP選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具在操控板中，將陣列類型改為“尺寸”，單擊第一個(gè)方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位角度尺寸“45度”添加到該收集器，增量改為“60度”（該角度尺寸決定了在第一個(gè)方向上陣列為環(huán)形陣烈）（圖1）,第一個(gè)方向陣列成員數(shù)改為“6”。然后單擊第二個(gè)方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位尺寸15添加到該收集器，增量改為“15”（可在尺寸列表中更改）（圖2）,第二個(gè)方

21、向陣列成員數(shù)改為“6”。如（圖3、圖4）所示。確定，最終效果如圖5。尺寸網(wǎng)16|匚1個(gè)項(xiàng)目I息31個(gè)項(xiàng)目尺寸陣列和方向陣列中的尺寸還是有點(diǎn)區(qū)別的，尺寸陣列中添加的尺寸可以使用關(guān)系式，而方向陣列和軸陣列中附加的可變化尺寸無(wú)法使用關(guān)系式。同時(shí)，尺寸陣列中的陣列成員和陣列導(dǎo)引特征參照完全一致，而方向陣列或軸陣列則不然。如下圖所示練習(xí)1）拉伸長(zhǎng)方體300*200*202）在長(zhǎng)方體上表面草繪樣條曲線，如圖13）選中長(zhǎng)方體上表面，單擊拉伸按鈕，進(jìn)入草繪器，單擊菜單草繪一一參照一一將長(zhǎng)方體左邊和兩條樣條曲線分別設(shè)為尺寸參照。如圖2所示的幾條虛線。草繪矩形，注意草繪的矩形左邊兩個(gè)頂點(diǎn)分別落在上下兩條樣條曲線上

22、，標(biāo)注矩形到左邊豎直參照的距離。完成拉伸特征。如圖34）現(xiàn)在陣列剛剛完成的拉伸2特征。如果該特征用方向陣列陣列出來(lái)，結(jié)果如圖4,只要沒(méi)附加可變化的尺寸，所有陣列成員的大小就和陣列導(dǎo)引完全一模一樣。但是，如果使用尺寸陣列，選擇如圖5所示尺寸作為導(dǎo)引尺寸，同樣的間距，同樣的數(shù)目，結(jié)果卻如圖6所示，其他陣列成員的參照始終保持和陣列導(dǎo)引特征一致，即所有的陣列成員底面矩形的兩個(gè)頂點(diǎn)始終位于草繪的兩個(gè)樣條曲線上。尺寸陣列的功能非常強(qiáng)大，后面將會(huì)給大家介紹如何在尺寸陣列中使用關(guān)系式5、填充陣列填充陣列即在規(guī)劃的草繪范圍內(nèi)按照某種規(guī)則創(chuàng)建陣列特征。首先規(guī)劃陣列范圍，然后指定陣列排列格式并調(diào)整相關(guān)參數(shù)。1）陣列

23、類型2）選擇填充陣列的填充范圍參照，通常是一個(gè)草繪，可以封閉也可以不封閉,可以是內(nèi)部草繪，也可以選擇一個(gè)外部草繪3）設(shè)置填充陣列的填充方法4）設(shè)置填充陣列成員兩兩之間的間隔5）設(shè)置陣列成員距離填充邊界的最小值6）設(shè)置陣列成員繞柵格原點(diǎn)的旋轉(zhuǎn)角度7）當(dāng)填充方法為圓形或螺旋形時(shí)，徑向距離填充方法有如下幾種類型：正方形"菱形"三角形"圓形，曲線，螺旋形5.1創(chuàng)建填充陣列1）打開(kāi)配套文件：fill_pattern.prt.12）右鍵單擊特征“孔1”選擇“陣列”，啟動(dòng)陣列工具。3）操控板中，陣列類型自動(dòng)選中“填充”，單價(jià)操控板中參照按鈕一一定義一一選擇旋轉(zhuǎn)特征底面為草繪平面

24、一一進(jìn)入草繪（圖1）4）單擊工具欄“通過(guò)邊創(chuàng)建圖元”，選擇“環(huán)”方式（圖2）,創(chuàng)建圖3所示圓。確定，返回陣列5）填充類型該為圓，兩兩間隔20,徑向距離20,圖4。確定。最終效果圖5以下內(nèi)容需要回復(fù)才能看到6、創(chuàng)建表陣列表陣列是一種相對(duì)比較自由的陣列方式，常用于創(chuàng)建不太規(guī)則布置的特征陣列創(chuàng)建表陣列的步驟:1）收集特征的相關(guān)尺寸此參數(shù)創(chuàng)建陣列表2）在編輯器中輸入或更改每個(gè)陣列成員的相關(guān)尺寸參數(shù)表陣列在創(chuàng)建是關(guān)鍵是如何確定每個(gè)陣列成員的尺寸參數(shù)選擇使用邊O單個(gè)）0鏈國(guó)）弱環(huán)；志用I-Hl!Ktt一好一呷I|斗，.：JiH表陣列操控板簡(jiǎn)介（圖1）屬性當(dāng)前活就表名稱出陣列表尺寸收集器，選中狀態(tài)下單擊特征

25、尺寸.可將尺寸添加到以下用實(shí)例說(shuō)明具體如何創(chuàng)建表陣列表陣列表編輯器簡(jiǎn)介（圖2）1)打開(kāi)配套文件table_pattern.prt.12)活動(dòng)表TMLE1陣列實(shí)例索引，索引從1開(kāi)蛤屯每個(gè)案型必須咻一.不必連參陣列類型量擊漠至施打.升三.刊表編建器海加到當(dāng)苜陣列表中/002000500X00S00所有陣到賣倒的尺寸,與導(dǎo)引彝在相同的尺寸可以代替ridl18(IS00)»dllT白000)20050.00500TO001000的導(dǎo)引特征的顯寸已加入陣列表中的尺寸dllLF8G立伸_3)趕！8:78(1立伸_3)dl8：F80if*,3)右鍵單擊特征“組LOCAL_GROUP擇“陣列”，啟動(dòng)

26、陣列工具3） 在操控板中，將陣列類型改為“表”，單擊陣列表尺寸收集器，然后選擇該特征組的尺寸10、15和5（圖1）,將這三個(gè)尺寸添加到表尺寸中（圖2）。所有陣列成員都將依據(jù)這三個(gè)尺寸來(lái)發(fā)生變化。4） 單擊操控板中的編輯按鈕，打開(kāi)表編輯器，輸入圖5所示的陣列實(shí)例索引和尺寸。完成后退出。確定，最終效果如圖6每個(gè)特征對(duì)應(yīng)一組尺寸=7、創(chuàng)建參照陣列參照陣列可以創(chuàng)建依附于其他已有陣列特征基礎(chǔ)上的陣列。倒角特如圖i所示，已經(jīng)創(chuàng)建好了一個(gè)方向陣列，如果在原始特征上繼續(xù)添加一個(gè)新特征,征，并希望在各個(gè)陣列實(shí)例上也添加相同的特征，就可以使用參照陣列。Z建參照陣I列后，所有的陣列實(shí)例上均出現(xiàn)倒角特征心注意：創(chuàng)建參

27、照陣列時(shí)，只有在原始特征上創(chuàng)建新特征后才可以使用參照陣列的方法在各個(gè)子特征上創(chuàng)建同類特征，而在各實(shí)例特征上創(chuàng)建新特征后并不能使用參照陣列。參照陣列的類型：a）特征：參照陣列參照現(xiàn)有的特征陣列b）組：參照陣列參照某個(gè)陣列的組或現(xiàn)有的陣列。c）兩者：參照陣列同時(shí)參照現(xiàn)有的特征陣列和組陣列。如下圖所示，該陣列其實(shí)是一個(gè)嵌套陣列，即先做拉伸特征的軸陣列，然后以軸陣列為陣列導(dǎo)引（相當(dāng)于一個(gè)局部組）再進(jìn)行方向陣列?，F(xiàn)在在原始特征（拉伸特征）上創(chuàng)建圓角特征，對(duì)圓角特征再做參照陣列，即有如下三種類型以第一次創(chuàng)建的軸陣列為參照創(chuàng)建參照陣列，類型工特征類型：組以第二欷創(chuàng)建的方向陣列為參.照創(chuàng)建參照陣列類型：?同時(shí)

28、參月和方向,練習(xí)：創(chuàng)建參照陣列1）打開(kāi)配套文件ref_pattern.prt.12）右鍵單擊“倒圓角2”，在快捷菜單中選擇“陣列”3）操控板中陣列類型自動(dòng)選擇“參照”，參照類型為“特征”，觀察預(yù)覽陣列結(jié)果4）單擊操控板參照類型后列表框，選擇“組”，觀察預(yù)覽陣列結(jié)果8、創(chuàng)建曲線陣列曲線陣列是proe3.0以后新增加的陣列類型，可以創(chuàng)建沿著指定曲線均勻分布的陣列。分布可分兩種類型：定距和定數(shù)曲建沿曲線定野等分，具陣列成員方向固定不變*選擇參照曲線，可以用處鄭莖繪，也可以用電鄭莫成員方向M從動(dòng)曲面常數(shù)草鴕平面上的成員方向J從動(dòng)曲段常敬陣列成員方向隨曲線變化而變化一r沿曲線等距等分，間距為w選項(xiàng)展性回

29、跟隨曲面形狀曲面F7敢伸步I威夏2”、一雖然用尺寸陣列也可以做曲線陣列，但相對(duì)來(lái)說(shuō)，步驟稍微復(fù)雜一點(diǎn)，需要一些參照來(lái)確定陣列導(dǎo)引在曲線上的位置。這些，用曲線陣列都可以很好的解決了。注意：要想讓陣列特征和曲線位置完全重合，應(yīng)讓特征和曲線的端點(diǎn)重合在一起。以下用實(shí)例說(shuō)明如何創(chuàng)建參照陣列1）打開(kāi)配套文件curver_pattern.prt.12）右鍵單擊“拉伸3”，在快捷菜單中選擇“陣列”3）在操控板中將陣列類型改為“曲線”，單擊“參照收集器”，在模型樹(shù)中選擇“草繪1”，將草繪1中的樣條曲線作為該陣列的參照曲線（亦可單擊操控板“參照”一一“定義”，自己重新定義一個(gè)內(nèi)部草繪）4）在操控板中將成員間距改

30、為10,確定，結(jié)果如下圖1。5）右鍵單擊剛剛做好的陣列特征，在快捷菜單中選擇“編輯定義”，將陣列成員數(shù)該為“20”，確定，結(jié)果如下圖2。6）右鍵單擊剛剛做好的陣列特征，在快捷菜單中選擇“編輯定義”，在操控板單擊“選項(xiàng)”，將草繪“平面上成員的方向”改為常數(shù)，確定，結(jié)果如下圖3。右鍵單擊剛剛做好的陣列特征，在快捷菜單中選擇“編輯定義”，在操控板單擊“選項(xiàng)”，勾選跟隨平面，在視圖中選擇曲面“拉伸4”，確定，結(jié)果如下圖49、創(chuàng)建關(guān)系陣列關(guān)系陣列其實(shí)是屬于尺寸陣列，只有在陣列類型設(shè)置為尺寸時(shí)，才可以使用關(guān)系式來(lái)定義尺寸的變化。之所以把關(guān)系陣列單獨(dú)列出來(lái)講，一是因?yàn)殛P(guān)系陣列問(wèn)的人比較多，大家可能都比較感興

31、趣，二是因?yàn)殛P(guān)系陣列稍微有點(diǎn)復(fù)雜，需要一定的數(shù)學(xué)基礎(chǔ)和編程基礎(chǔ)。關(guān)系陣列即用關(guān)系式來(lái)確定陣列的變化形式，屬于尺寸陣列尺寸陣列本身功能就非常強(qiáng)大，形式很靈活，并且陣列導(dǎo)引和陣列成員的參照完全一樣，這點(diǎn)和其他陣列類型稍有不同（參照前面講的尺寸陣列），所以，就要求陣列導(dǎo)引在創(chuàng)建的時(shí)候一定要考慮全面，選擇合適的尺寸和參照。否則，非常容易出錯(cuò)。在proe中尺寸有兩種表示形式，一種是直接用數(shù)值表示，另外一種用“字母+數(shù)字”的形式來(lái)表示，相當(dāng)于該尺寸的代號(hào)，這樣，就可以使用關(guān)系式了，否則，關(guān)系式中要用到的尺寸就會(huì)始終為常量了。如下圖所示，左邊圖形中孔的尺寸是用數(shù)值顯示的，右邊圖形中孔的尺寸使用“字母+數(shù)字”

32、的形式顯示的。要切換尺寸的顯示，可單擊菜單“信息”一一“切換尺寸”即可。或在關(guān)系窗口中單擊菜單“實(shí)用工具”一一“切換尺寸”亦可。曳。三中尺寸的顯示形式.下面，由淺入深，來(lái)講述怎樣創(chuàng)建關(guān)系陣列。a)以top平面為草繪平面，做長(zhǎng)方體，200*80*10,最好讓該長(zhǎng)方體關(guān)于right平面和front平面都對(duì)稱。然后在該長(zhǎng)方體上表面打孔，使用線性孔放置類型，尺寸如上圖所示b)接下來(lái)將該孔沿著尺寸15的方向在板上陣列10個(gè)，要求無(wú)論板的尺寸以后如何變化，陣列出來(lái)的10個(gè)孔在板上都要均勻分布，這就要用到最簡(jiǎn)單的關(guān)系陣列了。(1)首先分析一下該關(guān)系如何來(lái)寫。如下圖所示，板的長(zhǎng)度尺寸是“d2”，孔距離板左邊尺

33、寸為“d462”，要想讓10個(gè)孔在板上均勻分布，則兩兩孔之間的間距為：(d22Xd462)/9。（2）將上述關(guān)系式添加到陣列尺寸中右鍵單擊模型樹(shù)上的“孔1”，在快捷菜單中選擇“陣列”確定陣列類型為“尺寸”（1）,單擊孔定位尺寸“15”（2）,將該尺寸作為陣列的導(dǎo)引尺寸，在操控板中將陣列數(shù)目改為“10”（3）,然后單擊操控板左上角“尺寸”按鈕（4）,選中方向1下列表框中的尺寸“d462”（5）,勾選“按關(guān)系定義增量”（6）,單擊“編輯”按鈕（7）,就可進(jìn)入陣列關(guān)系編輯器窗口。尺寸JJ增胃尺寸增量單擊此處酒制遑瑁野性1個(gè)攻月在陣列關(guān)系中，以下幾個(gè)參數(shù)必須要有所了解 memb_v指定方向中的關(guān)系驅(qū)動(dòng)

34、最終尺寸，也就是陣列成員在陣列方向上變化后的實(shí)際尺寸。如下圖所示，第4個(gè)孔的陣列尺寸如用memb_v表示，則是孔到板最左邊的距離。 memb_i指定方向中的關(guān)系驅(qū)動(dòng)增量，即陣列實(shí)例兩兩之間的問(wèn)隔。memb_v和memb_i都可以表示陣列成員的尺寸變化，但在同一個(gè)關(guān)系式中不可同時(shí)使用。 lead_vleader值(選取尺寸確定方向)，陣列導(dǎo)引的尺寸值，在下圖中為15,始終不會(huì)發(fā)生變化。 idxl在第一方向上的陣列實(shí)例索引，原始特征為0,依次為1、2。idx2在第二方向的陣列實(shí)例索引，原始特征為0,依次為1、2ooc在陣列關(guān)系式編輯器中輸入公式memb_i=(d2-2*d462)/9,對(duì)于尺寸d2

35、和d462,也可以在模型視圖中直接選擇，該尺寸將會(huì)自動(dòng)添加到關(guān)系式編輯器。注意，在輸入時(shí)所有符號(hào)必須用英文狀態(tài)下的符號(hào)，否則無(wú)效(和C語(yǔ)言一樣)。如下圖所示。美系cC*金電X步.？E項(xiàng)A()4班回舊C悔可以單擊Aft承加解小c野火論力t)(3)最終結(jié)果如下圖所示7（4）右鍵單擊“拉伸1”特征，選擇編輯定義，將板的尺寸改為100,確定,結(jié)果如下，可見(jiàn)，無(wú)論板的尺寸如何發(fā)生變化，陣列出來(lái)的10個(gè)孔在板上都是均勻分布的。c）返回到第（3）步，接下來(lái)演示如何讓上述陣列的10個(gè)孔在豎直方向上按正弦規(guī)律變化，振幅為30。右鍵單價(jià)剛剛做好的陣列特征一一編輯定義，按住CTRLS將孔豎直方向定位尺寸添加到方向1

36、列表框中（1）,選中該尺寸（2）,勾選“按關(guān)系定義增量”（3）,單擊“編輯”按鈕（4）,在關(guān)系編輯器中輸入公式：memb_v=lead_v+30*sin（360/9*idx1）（5）如下圖所示。d）若要更改陣列的數(shù)目，可在陣列特征上單擊右鍵一一編輯，如尺寸按數(shù)值顯示，可再單擊菜單信息一一更改尺寸，記下該陣列成員數(shù)的尺寸代號(hào)，在本例中為P535如下圖所示。然后編輯陣列特征，將上述兩個(gè)關(guān)系式中陣列數(shù)目9改為尺寸代號(hào)“p353”。確定。編輯陣列，將數(shù)目給為20,最終效果如下圖確定，最終效果如下圖+manb_v=lead_v+30*sin(3S0/9*idx1)出RI櫛美中二1,2聚關(guān)系區(qū)文關(guān)系同理，可將孔直徑在陣列方向設(shè)為按余弦規(guī)律變化，略。e)在關(guān)系式中，還可以使用一些簡(jiǎn)單的編程語(yǔ)句和函數(shù)，如if語(yǔ)句,string_length()函數(shù)等等，接下來(lái)演示一個(gè)簡(jiǎn)單的if語(yǔ)句關(guān)系式編輯陣列，將該陣列豎直方向尺寸的關(guān)系改為下圖所示移美系定義增處編輯該尺寸“Offset”為用戶定義變量，“八”表示