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1、PTHPTH工序質(zhì)量分析工序質(zhì)量分析SYE QE 08.02.26培訓(xùn)目的了解PTH工序現(xiàn)階段主要質(zhì)量監(jiān)控點(diǎn)、主要質(zhì)量問(wèn)題、缺陷形態(tài)、可能產(chǎn)生原因了解PTH工序主要質(zhì)量數(shù)據(jù)和指標(biāo) 課程要點(diǎn)一、PTH工序現(xiàn)階段主要質(zhì)量監(jiān)控點(diǎn)、缺陷形態(tài)、可能產(chǎn)生原因n1.PTH工序現(xiàn)階段主要質(zhì)量監(jiān)控點(diǎn)具體見(jiàn)附件具體見(jiàn)附件 一、PTH工序現(xiàn)階段主要質(zhì)量監(jiān)控點(diǎn)、主要質(zhì)量問(wèn)題、缺陷形態(tài)、可能產(chǎn)生原因2.主要質(zhì)量監(jiān)控點(diǎn)參數(shù)主要質(zhì)量監(jiān)控點(diǎn)參數(shù)去毛刺:1、磨痕測(cè)試(8-18mm) 2、高壓水洗壓力(板厚0.6MM時(shí)60-100kg/cm2,板厚0.6MM時(shí)關(guān)閉高壓水洗) 3、速度(1.2-4.0m/min或2.0-2.8m/
2、min)、磨轆壓力(板厚 1MM時(shí)3-5.5%,板厚1MM時(shí)3-6.5%)、烘干溫度(50-70)化學(xué)沉銅:1、凹蝕量(0.1-0.35mg/cm2 ) 2、微蝕量(0.7-1.5um ) 3、沉銅速率(0.010-0.022um/min )、背光級(jí)數(shù)(9級(jí))加厚銅:1、深鍍能力(T/P80%) 2、電鍍均勻性(COV12.5%)一、PTH工序現(xiàn)階段主要質(zhì)量監(jiān)控點(diǎn)、主要質(zhì)量問(wèn)題、缺陷形態(tài)、可能產(chǎn)生原因3、工序常見(jiàn)缺陷原因及處理方法:故故 障障原原 因因解解 決決 方方 法法擦花前工序來(lái)料擦花操作運(yùn)輸不規(guī)范掉架擦花加強(qiáng)來(lái)料檢查,控制前工序改善規(guī)范操作檢查行車定位系統(tǒng)及周邊配件是否磨損異??卓谂h
3、鉆孔披鋒過(guò)于嚴(yán)重;去毛刺機(jī)磨痕過(guò)??;去毛刺機(jī)磨刷壓力達(dá)不到要求;鉆孔后對(duì)底板進(jìn)行打磨處理;檢查并調(diào)節(jié)磨痕在控制范圍;檢查并調(diào)整去毛刺機(jī)磨刷電流;板面磨刷處理不均勻磨刷局部磨損嚴(yán)重;沒(méi)有按規(guī)定整刷處理。更換磨刷;整刷處理。凹蝕量異常凹蝕片稱量不標(biāo)準(zhǔn);凹蝕片測(cè)試過(guò)程不規(guī)范;藥水濃度、溫度異常。按標(biāo)準(zhǔn)方法稱量;檢查操作過(guò)程是否規(guī)范; 檢查濃度、溫度。微蝕量異常藥水濃度、溫度異常;稱量不標(biāo)準(zhǔn);測(cè)試過(guò)程不規(guī)范;檢查濃度、溫度;按標(biāo)準(zhǔn)方法稱量;檢查操作過(guò)程是否規(guī)范;板面銅粒層壓后板面樹(shù)脂點(diǎn)在減薄銅后形成銅粒;板面膠污;藥水成分異常;漏電或電流過(guò)高產(chǎn)生銅粉。層壓后減薄銅前磨板處理;清除膠污來(lái)源;檢查藥水分析
4、;檢查漏電位置,預(yù)防使用過(guò)高電流。沉銅速率異常藥水濃度、溫度異常;稱量不標(biāo)準(zhǔn);測(cè)試過(guò)程不規(guī)范;檢查濃度、溫度;按標(biāo)準(zhǔn)方法稱量;檢查操作過(guò)程是否規(guī)范;一、PTH工序現(xiàn)階段主要質(zhì)量監(jiān)控點(diǎn)、主要質(zhì)量問(wèn)題、缺陷形態(tài)、可能產(chǎn)生原因故故 障障原原 因因解解 決決 方方 法法背光級(jí)數(shù)異常藥水濃度、溫度異常;測(cè)量方法不規(guī)范;孔壁粗糙度過(guò)大。檢查濃度、溫度;規(guī)范測(cè)量方法;鉆孔工序改善孔壁質(zhì)量。鍍層剝離藥水濃度、溫度異常;板面氧化嚴(yán)重;微蝕不足;鍍銅層偏薄。檢查濃度、溫度;嚴(yán)格控制在空氣中停留時(shí)間;檢查微蝕藥水濃度及溫度;檢查鍍銅參數(shù)。孔內(nèi)無(wú)銅藥水濃度、溫度異常;孔壁粗糙度超標(biāo);雜物塞孔;孔內(nèi)氣泡。檢查濃度、溫度
5、;鉆孔工序改善孔壁質(zhì)量;檢查鉆孔參數(shù)、去毛刺機(jī)清洗效果檢查打氣、過(guò)濾泵是否漏氣鍍銅不均鈦籃擺放位置不正確;浮架設(shè)計(jì)不合理;藥水異常;上板方式不正確;拼板尺寸不規(guī)范;板過(guò)薄彎板;按要求擺放;重新評(píng)估合理性;檢查藥水分析;規(guī)范上板方式;按要求規(guī)范拼板尺寸;按薄板控制方法生產(chǎn);二、PTH工序主要質(zhì)量指標(biāo)工序主要質(zhì)量數(shù)據(jù):工序主要質(zhì)量數(shù)據(jù):質(zhì)量控制項(xiàng)目目標(biāo)數(shù)據(jù)來(lái)源頻率主要影響缺陷報(bào)廢率普通板0.20MRBERP日?qǐng)?bào)、周報(bào)、月報(bào)孔內(nèi)無(wú)銅、塞孔、擦花、板面銅粒HDI板0.15PONC10萬(wàn)/月QEPONC月報(bào)孔內(nèi)無(wú)銅、塞孔、擦花、板面銅粒二、PTH工序主要質(zhì)量指標(biāo):1、報(bào)廢率:、報(bào)廢率:A、每周普通板報(bào)廢
6、率趨勢(shì)分析;B、每周HDI板報(bào)廢率趨勢(shì)分析;報(bào)廢率和PONC是工序最重要的質(zhì)量指標(biāo)!二、PTH工序主要質(zhì)量指標(biāo):工序報(bào)廢率主要影響缺陷分析、標(biāo)準(zhǔn)、控制方法:工序報(bào)廢率主要影響缺陷分析、標(biāo)準(zhǔn)、控制方法: 具體見(jiàn)附件二、PTH工序主要質(zhì)量指標(biāo):2、PONC值:值: PONC(Price of Nonconformance):不符合要求的代價(jià)- 指當(dāng)質(zhì)量不符合要求時(shí)產(chǎn)生的額外的費(fèi)用。包括返工、返修、趕工、報(bào)廢、庫(kù)存過(guò)多、客戶抱怨及索賠等。 工序PONC=Internal MRB Ponc + Process Ponc (內(nèi)部報(bào)廢產(chǎn)生的(內(nèi)部報(bào)廢產(chǎn)生的PONC) (返工產(chǎn)生的(返工產(chǎn)生的PONC) P
7、ONC是公司內(nèi)部除報(bào)廢率、一次合格率之外衡量質(zhì)量狀況的另一重要質(zhì)量數(shù)據(jù)。 PS:具體見(jiàn)QA38-質(zhì)量成本控制二、PTH工序主要質(zhì)量指標(biāo):各工序PONC的具體計(jì)算方法:各小組列出影響工序的各項(xiàng)不合格所引起的資源的浪費(fèi)(包括人數(shù)、時(shí)間、返工數(shù)量、機(jī)器水流量、機(jī)器功率、單位時(shí)間平均人工、單位物料消耗代價(jià)、水單價(jià)、電單價(jià)、單位時(shí)間機(jī)器折舊等); 根據(jù)公式計(jì)算:1)人工費(fèi)用人數(shù)時(shí)間單位時(shí)間平均人工 2)物料費(fèi)用實(shí)際返工數(shù)量/面積單位數(shù)量/面積消耗物料代價(jià) 3)機(jī)器費(fèi)用時(shí)間單位時(shí)間機(jī)器折舊 4)水的費(fèi)用時(shí)間機(jī)器平均水流量水單價(jià) 5)電的費(fèi)用時(shí)間機(jī)器功率電單價(jià)工序PONCMRB PONCProcess PO
8、NC MRB PONC工序報(bào)廢面積單位面積消耗所有資源總和 Process PONC返工數(shù)量返工生產(chǎn)單元面積消耗的所有資源總和三、PTH工序質(zhì)量數(shù)據(jù)分析及改善 工序的質(zhì)量數(shù)據(jù)分析和改善分為兩個(gè)方面: 1、工序常規(guī)缺陷質(zhì)量數(shù)據(jù)分析和改善:常規(guī)缺陷的數(shù)據(jù)分析,根 據(jù)工序日常質(zhì)量數(shù)據(jù)的變化來(lái)進(jìn)行判斷、分析、改善和評(píng)價(jià);此類項(xiàng)目的分析多數(shù)是通過(guò)表觀確認(rèn)、切片確認(rèn)等方法來(lái)確認(rèn)問(wèn)題點(diǎn)和改善思路。 2、工序異常/重要缺陷質(zhì)量問(wèn)題的分析和改善:主要是對(duì)于工序異常批量問(wèn)題和與板可靠性有關(guān)的重要項(xiàng)目進(jìn)行的系統(tǒng)的專項(xiàng)實(shí)驗(yàn)分析和跟進(jìn);此類項(xiàng)目的分析通常要借助特殊的質(zhì)量監(jiān)控點(diǎn)和物理/可靠性測(cè)試方法來(lái)對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行確認(rèn)。 三、PT
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