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1、隧穿場(chǎng)效應(yīng)管的特性分析及仿真開題報(bào)告1. 選題的背景與意義隨著 MOSFET 尺寸的不斷縮小, 器件的功耗問題和可靠性問題成為制約集 成電路發(fā)展的重要因素。為了降低集成電路的功耗,隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管 (TFET)和InGaAs MOSFET成為了國際上的研究重點(diǎn)。與傳統(tǒng) Si MOSFET 比較, TFET 的室溫亞閾值擺幅可以突破 60mV/decade的限制, InGaAs材 料的電子遷移率大約比 Si 材料的電子遷移率高一個(gè)數(shù)量級(jí)。 雖然國際上對(duì) TFET 和 InGaAs MOSFET 已經(jīng)做過很多研究工作, 但是對(duì)上述器件的可靠 性,國際上仍然缺乏了解。隨著超大規(guī)模集成電路()的低功耗
2、應(yīng)用需求不斷增加,具有柵 控結(jié)構(gòu)的隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管()的應(yīng)用也越來越廣泛,其 閾值擺幅可以突破傳統(tǒng)的下限。目前,隧 穿晶體管的研究主要集中在基本器件特性和制備技術(shù),特別是利用新材料 和結(jié)構(gòu)來改善開啟電流,最近還有一些關(guān)于其可靠性方面的研究報(bào)道。 業(yè)界認(rèn)為,半導(dǎo)體工業(yè)正在快速接近晶體管小型化的物理極限?,F(xiàn)代晶體 管的主要問題是產(chǎn)生過多的熱量。最新研究表明, TFET 性能可與目前的 晶體管相媲美,而且能效也較以往有所提高,有望解決上述過熱問題。2. 隧穿場(chǎng)效應(yīng)管工作原理在傳統(tǒng) MOSFET 中,載流子從源極越過 pn 結(jié)勢(shì)壘熱注入到溝道中。而隧 穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管( Tunneling Field-
3、Effect Transistor 或者 TFET)的工作原理 是帶間隧穿( Band-to-band tunneling或者 BTBT )。 BTBT 最早由 Zener 在 1934年提出來。 pn結(jié)在反偏狀態(tài)下, 當(dāng)n區(qū)導(dǎo)帶中某些未被電子占據(jù)的空 能態(tài)與 p 區(qū)價(jià)帶中某些被電子占據(jù)的能態(tài)具有相同的能量,而且勢(shì)壘區(qū)很 窄時(shí),電子會(huì)從 p 區(qū)價(jià)帶隧穿到 n 區(qū)導(dǎo)帶。下圖是一個(gè)型的雙柵結(jié)構(gòu)的 Si TFET 示意圖,其中 tox 表示柵介質(zhì)的厚度, tsi 表示體硅的厚度。 TFET 是一個(gè) p+-i-n+結(jié)構(gòu), i 區(qū)上方是柵介質(zhì)和柵電極。它通過柵極電壓的變化 調(diào)制 i 區(qū)的能帶來控制器件的
4、電流。word 文檔可自由復(fù)制編輯在理想狀態(tài)下,一個(gè) p+區(qū)和 n+區(qū)摻雜對(duì)稱的 TFET 在不同極性的柵極電壓 偏置下可以表現(xiàn)出雙極性。 所以對(duì)于 n型TFET來說,p+區(qū)是源區(qū), i 區(qū)是 溝道區(qū), n+區(qū)是漏區(qū)。對(duì)于 p型 TFET 來說, p+區(qū)是漏區(qū), i區(qū)是溝道區(qū), n+區(qū)是源區(qū)。漏極電壓用 Vd 表示,柵極電壓用 Vs 表示,柵極電壓用 Vg 表示。下面以 nTFET 為例,描述它的基本工作原理:(1)Vg=Vs=0V ,Vd0V 時(shí)的能帶示意圖如圖 ( a)所示。 p+-i-n+結(jié) 構(gòu)處于反偏狀態(tài),但是源區(qū)勢(shì)壘寬度很寬,此時(shí)沒有帶間隧穿發(fā)生, nTFET 處于關(guān)態(tài)。(2)Vs=
5、0V,Vg=Vd0V 時(shí)的能帶示意圖如圖 (b)所示。 Vg 使溝 道的能帶降低,當(dāng)源區(qū)( p+區(qū))的價(jià)帶高于溝道( i 區(qū))導(dǎo)帶而且勢(shì) 壘變薄時(shí), 源區(qū)價(jià)帶的電子可以通過帶間隧穿進(jìn)入到溝道的導(dǎo)帶。 此 時(shí) nTFET 處于開態(tài)。word 文檔可自由復(fù)制編輯nTFET 沿著水平溝道方向的能帶示意圖a)關(guān)態(tài): Vs=Vg=0V ,Vd0b)開態(tài): Vs=0V ,Vg=Vd0隧穿晶體管中包含多種量子效應(yīng),第一種量子效應(yīng)是量子隧穿帶間隧穿,國際上通常利用模型來計(jì)算其隧穿幾率:其中,表示隧穿電場(chǎng),和是常數(shù)另外,還包括量子統(tǒng)計(jì)效應(yīng)(即費(fèi)米狄拉克統(tǒng)計(jì))和量子限制效應(yīng)(即溝道垂直方向的能量量子化)3. 研究
6、方法 利用公司的器件仿真軟件進(jìn)行二維器件仿真,量 子隧穿模型采用非局域的帶間隧穿模型( ) ??紤]量子限制效應(yīng)時(shí),使用自 洽求解的薛定諤泊松方程模型( ) 。 仿真中,通過添加界面態(tài)和不加界面態(tài)得到兩條曲線,從而可以 獲得隧穿晶體管在加應(yīng)力前后電流的退化量。仿真中,界面態(tài)word 文檔可自由復(fù)制編輯 被均勻分布在禁帶中等間距的個(gè)能級(jí)上。另外,由于軟件 在計(jì)算隧穿晶體管電場(chǎng)時(shí)可以考慮量子限制效應(yīng),但在計(jì)算器件的 特性時(shí)無法包含量子限制效應(yīng),因此,在研究量子限制效應(yīng)對(duì)隧穿晶體管 特性的影響時(shí),在對(duì)電場(chǎng)和界面態(tài)的仿真中已經(jīng)考慮了 量子限制效應(yīng)。4、工作進(jìn)度與安排設(shè)計(jì)(論文)各階段任務(wù)起止日期1查 資料,看書完成開題報(bào)告及準(zhǔn)備工作3.1-3.112熟 悉軟件與程序3.11-3.23編程、調(diào)試,初步測(cè)試隧穿場(chǎng)效應(yīng)管的3特 性3.24-4.204修 改,完成設(shè)計(jì)4.21-5.105完 成畢業(yè)論文及答辯5.11-5.275參考文獻(xiàn)1隧
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