DW-032高效鍍硬鉻添加劑使用指南

1、DW-032高效鍍硬鉻添加劑使用指南DW-032結(jié)晶器銅管高效鍍鉻添加劑dw-032采用抗鉻酸氧化的新材料，分解產(chǎn)物夾雜在鍍層內(nèi)，對(duì)鍍液沒有副作用，屬于世界上最好的綠色環(huán)保鍍鉻添加劑。比普通鍍鉻硬度增加300HV，耐磨性提高3倍，深度能力提高5倍，分散能力更佳，赫爾槽試片，鍍鉻層完全覆蓋，全光亮。比現(xiàn)在最好的鍍鉻走位劑（赫爾槽試片達(dá)90%）還好，完全沒有鍍不上的地方，對(duì)于復(fù)雜件，不用制作輔助陽(yáng)極，是鍍鉻史上一次革命，鍍鉻耐鹽霧超過(guò)192小時(shí)。 電流效率可達(dá)25-45%，是傳統(tǒng)鍍鉻添加劑，永遠(yuǎn)也達(dá)不到的。Dw-032鍍鉻添加劑是第四代鍍鉻添加劑的換代產(chǎn)品，該工藝電流效率高、沉積速度快、省電、省時(shí)

2、、成本低、硬度高、有微裂紋、鍍層均勻、光亮、無(wú)氟、無(wú)腐蝕。鍍液性能更穩(wěn)定，操作更方便，鍍層性能進(jìn)一步提高。Dw-032系列鍍鉻添加劑屬于世界最新一代鍍鉻催化劑及工藝，也是國(guó)內(nèi)最早推出的新型鍍鉻添加劑，它克服了硫酸催化劑，氟化物催化劑的許多不足之處，不斷完善的工藝技術(shù)，多年的經(jīng)驗(yàn)積累，使鍍鉻工藝達(dá)到了新的高度。該工藝適合于鍍硬鉻、微裂紋鉻，裝飾鉻等。廣泛應(yīng)用在結(jié)晶器銅管鍍鉻，缸套鍍鉻，活塞桿鍍鉻，減震器鍍鉻，造紙機(jī)烘缸，石油機(jī)械，石油泵筒，模具行業(yè)等。 減震器桿鍍鉻及陽(yáng)極布置工藝特點(diǎn) 1、陰極電流效率高達(dá)35-45。沉積速度快，大約可節(jié)約4050的電費(fèi)。 2、不含氟、無(wú)稀土、無(wú)磺酸，無(wú)陰極低電流

3、區(qū)腐蝕。 3、不會(huì)猛烈侵蝕鉛錫陽(yáng)極，無(wú)需使用特殊陽(yáng)極材料。（因加入陽(yáng)極腐蝕抑制劑） 4、光潔度好，高均鍍能力。高分散能力，方形件內(nèi)口四角可均勻鍍鉻。角部鍍層后度接近面厚度。 5、鍍層硬度高，可達(dá)HV1000-1200以上。 6、能產(chǎn)生微裂紋，微裂紋數(shù)可達(dá)800-1600條厘米（根據(jù)需要調(diào)節(jié)），提高抗腐蝕能力?；钊麠U耐鹽霧可達(dá)192小時(shí)以上。減震器桿耐鹽霧192小時(shí)以上。 7、電流密度范圍寬，可使用高達(dá)90安培平方分米以上。按高電流電流效率可達(dá)45，鍍速提高1.2倍。 8、鍍層與基體結(jié)合力極佳，即使是細(xì)小部分，鉻層也不會(huì)脫落。真正達(dá)到鍍鉻層即硬度高，又潤(rùn)性好，極抗磨。 9、摩擦系數(shù)小，耐磨性是普

4、通鍍鉻液的三倍。提高過(guò)鋼量，比普通添加劑提高2000噸。 10，尤其適合同電鍍鎳鈷合金配套使用，結(jié)合力好，成倍提高過(guò)鋼量。添加標(biāo)準(zhǔn)：工藝流程：堿清洗 高效除油粉°陽(yáng)極活化活化劑1-5ml/l° 鍍硬鉻 ， 3dw-032 15-20ml電流密度40-90新配鍍液，加入量15-20ml/l補(bǔ)加：KAH：50-100ml/l所獲得的鍍鉻層硬度為，并且通過(guò)了的鹽霧試驗(yàn)詳細(xì)使用分析一、鉻酐濃度的影響1.1導(dǎo)電率：鉻酐濃度俞高，導(dǎo)電率俞高，所需電壓俞低，溶液因通過(guò)電流的升溫量俞小。1.2 陰極電流效率：鉻酐濃度俞低，陰極電流效率俞高。如鉻酐150克/升時(shí)，陰極電流效率為1516%，2

5、50克/升時(shí)為1315%，350克/升時(shí)為812%。高濃度比低濃度時(shí)電流效率降低一半，使鉻層的電鍍速度降低一半。1.3分散能力：隨鉻酐濃度的提高，使分散能力降低，如鉻酐150克/升時(shí)分散能力為-50%，250克時(shí)升為-65%，350克時(shí)為-85%。1.4光亮區(qū)工作范圍：鉻酐濃度的提高，使光亮區(qū)工作范圍由窄變寬。1.5硬度：鉻酐濃度低，鍍層硬度高，相反，濃度高，鍍層硬度低較軟易拋光。1.6結(jié)論：鍍硬鉻溶液應(yīng)選鉻酐濃度較低為佳，如150200克/升。而裝飾性鍍鉻宜選鉻酐濃度較高為佳，如250350克/升。平時(shí)可使用比重表測(cè)量，前者控制在1418，后者控制在2228。 二、硫酸的影響：在鉻液之中主要

6、是控制硫酸/鉻酐的比值。2.1當(dāng)硫酸/鉻酐小于1%，如0.80.9%時(shí)，光亮程度和深鍍能力提高，但低電區(qū)無(wú)鍍層處呈彩虹色，鍍層白霧，陰極電流效率，沉積速度和分散能力降低。如在0.6%時(shí)，鍍層與空白交界處模糊，鍍層有棕色斑點(diǎn)，如果完全沒硫酸時(shí)，即=0%，在陰極只有氫氣大量析出，沒有鉻和三價(jià)鉻形成。2.2當(dāng)硫酸/鉻酐在1%，此時(shí)氫氣出現(xiàn)適量，鉻的沉積最大，電流效率最高，分散能力和深鍍能力都較好，外觀光亮，微帶藍(lán)光。2.3當(dāng)硫酸/鉻酐大于1%，如1.11.5%，電流效率稍有降低，但鉻能沉積正常，鍍層交界線明顯。目前比例是用HEEC高效鍍硬鉻工藝最合適，100：1鍍層發(fā)白亮；100：1.21.3鍍層發(fā)

7、烏亮；100：1.31.5鍍層發(fā)蘭亮。使用時(shí)客戶自行調(diào)節(jié)，按自己或按客戶需求進(jìn)行選擇。2.4當(dāng)硫酸/鉻酐大于1.5%以上，氫氣繼續(xù)減小，氣泡變小，三價(jià)鉻顯著增加，電流效率降低。鍍層帶烏蘭光。高電區(qū)易燒焦，三價(jià)鉻上升快，溶液粘度大，易粘附表面帶出多。2.5結(jié)論，控制硫酸/鉻酐的比值，鍍硬鉻宜在1.1%1.5%，裝飾鉻宜在0.9%1%，如鉻溶液中硫酸過(guò)高，可用碳酸鋇除去，形成硫酸鋇沉淀槽底，可暫不過(guò)濾。碳酸鋇不溶于水，在加入時(shí)應(yīng)研細(xì)后在攪拌下撒入鍍鉻液。因會(huì)產(chǎn)生急劇的氣體逸出，故應(yīng)緩慢分批地加入，每2克碳酸鋇可沉淀1克硫酸。加完碳酸鋇后還要繼續(xù)攪拌12小時(shí)，以使化學(xué)反應(yīng)徹底完成，并且進(jìn)行過(guò)濾后最好

8、電解一段時(shí)間后再沉積過(guò)濾，重新分析槽液，調(diào)整后進(jìn)行電鍍生產(chǎn)。 三、三價(jià)鉻的影響在鉻酐250克/升，硫酸2.5克/升不變的情況下，三價(jià)鉻的影響如下：3.1電流效率：三價(jià)鉻的增加，陰極電流效率下降。如三價(jià)鉻為7克/升時(shí)，電流效率為15%，11克/升時(shí)為14.5%，15克/升時(shí)為13.8%3.2分散能力：鍍液的分散能力隨三價(jià)鉻含量的增加而逐漸下降。如當(dāng)三價(jià)鉻5顆/升時(shí)，分散能力為-18%，10克/升時(shí)為-22%，15克/升時(shí)為-25%3.3深鍍能力：鍍液深鍍能力隨三價(jià)鉻升高而增強(qiáng)。但三價(jià)鉻升到8.5克/升時(shí)為最大值92%，隨后降低，如三價(jià)鉻11克/升深鍍能力降到82%，12.5克/升時(shí)80%，18克

9、/升時(shí)79%3.4光亮區(qū)的影響：當(dāng)三價(jià)鉻14克/升時(shí)，光亮區(qū)電流密度增大至最大，光亮范圍最寬。茲后三價(jià)鉻大于4克/升光亮區(qū)電流密度范圍減小。3.5對(duì)鍍層耐磨性的影響：不含三價(jià)鉻時(shí)磨損失重最大，而磨性最差。三價(jià)鉻含量220克/升時(shí)耐磨性相近。三價(jià)鉻21克/升時(shí)磨損失重最小。3.6結(jié)論：保持三價(jià)鉻的穩(wěn)定的必要性，為了使鍍液的性能保持穩(wěn)定，三價(jià)鉻的控制是必要的，三價(jià)鉻與六價(jià)鉻在不同的陰、陽(yáng)極面積及電流密度不同時(shí)會(huì)互相轉(zhuǎn)換。如長(zhǎng)時(shí)間鍍內(nèi)孔，陽(yáng)極面積小于陰極面積，三價(jià)鉻就會(huì)上升。相反，長(zhǎng)時(shí)間獨(dú)小件，陽(yáng)極面積大大地大于陰極面積，三價(jià)鉻就會(huì)減小。為了保持三價(jià)鉻的穩(wěn)定，陽(yáng)極面積應(yīng)比陰極面積大一倍。三價(jià)鉻保持在

10、24克/升為適宜。最大不超過(guò)10克/升，三價(jià)鉻過(guò)低鍍液透明紅即可知三價(jià)鉻過(guò)低，鍍層亮度不佳，沉積速度慢，鍍層硬度不高，深鍍能力差，可采用大陰極小陽(yáng)極電解升高三價(jià)鉻。若三價(jià)鉻過(guò)高，采用大陽(yáng)極面積，陰極面積為陽(yáng)極的10%3%，陽(yáng)極電流密度為1.5安/平方分米，通大電流電解處理，可使三價(jià)鉻氧化還原為六價(jià)鉻。 四、溫度：對(duì)鍍層外觀色澤影響明顯4.1溫度低于40度以下，外觀呈暗灰色。允許的電流密度也低，邊緣易燒焦。4.2溫度正常時(shí)4060度，外觀光亮，隨著溫度的升高，硬度和電流密度降低，裝飾鉻溫度為4550度，硬鉻為5060度。4.3溫度高于70度，外觀乳白色，鍍層硬度低五、電流密度隨著溫度的升高采用的

11、電流密度相應(yīng)地升高，才能得到光亮鍍層，電流密度的升高，電流效率和分散能力均有提高。 溫度 允許陰極電流（安/平方分米） 40 1020 45 1530 50 2035 55 3050 60 4070六、陽(yáng)極 鍍鉻使用不溶液性鉛陽(yáng)極在正常工作情況下，在陽(yáng)極表面生成一層可導(dǎo)電的紅棕色膜，其成份為氧化鉛。在通電時(shí)在陽(yáng)極表面上產(chǎn)生氧氣，在液面陽(yáng)極周圍可以看見小氣泡向上逸出，表明陽(yáng)極處于正常導(dǎo)電狀態(tài)。氧化膜的生成有保護(hù)鉛基體不受腐蝕。在開始工作前，最好先開大電流一促使陽(yáng)極表面氧化，生成氧化膜。工作完畢后最好取出陽(yáng)極掛于槽側(cè)，以免氧化膜被鍍液溶解，有利于延長(zhǎng)陽(yáng)極使用壽命。陽(yáng)極上如生成黃色堆積物，這是鉻酸鉛

12、，它既影響導(dǎo)電，又腐蝕鉛基體，應(yīng)予刷去。6.1陽(yáng)極成份，除鉛外，有的含有7%的銻，也有的含有5%的錫，銻和錫都能提高陽(yáng)極的硬度和耐蝕性。含有錫的比含有銻的更耐蝕些。也有的由鉛85%，銻11.5%，錫4.5%三元合金鑄成。由于它們的混合熔點(diǎn)不超過(guò)300度，可以很容易地在石墨坩堝或鑄鐵鍋中熔化澆鑄成截面為圓形，扁形，橢圓形以及各種形狀的陽(yáng)極。鑄造時(shí)最好將銅鉤一并鑄在鉛基體內(nèi)，以保持良好的導(dǎo)電。6.2陽(yáng)極面積，為了保持三價(jià)鉻的平衡穩(wěn)定，陽(yáng)極面積應(yīng)為陰極面積的23倍。在配制溶液初期為了生成三價(jià)鉻，陰極面積為陽(yáng)極面積的35倍。在一千升的鍍液，用500安培的電解34小時(shí)，即可獲得24克的三價(jià)鉻。如果內(nèi)孔鍍

13、硬鉻，陰極面積比陽(yáng)極面積大，電鍍時(shí)間長(zhǎng)了三價(jià)鉻回越鍍?cè)礁?，此時(shí)應(yīng)該用適當(dāng)?shù)拇箨?yáng)極小陰極來(lái)電解，以降低三價(jià)鉻總量。6.3結(jié)論，陽(yáng)極面積是控制三價(jià)鉻增減的要素。 七、鍍硬鉻工藝流程7.1檢查零件，不得有裂紋、針孔，光潔度應(yīng)在8以上，光潔度越高，氫析出越少，有利于鉻的析出。7.2絕緣，不需要鍍鉻的部分要鉛封或塑料堵塞，或者用塑料帶或絕緣漆保護(hù)好。7.3除油、清蝕（前處理），用除油劑和前處理液拭搽待鍍表面，然后用水沖洗，再浸或淋1：7的稀硫酸數(shù)秒鐘，用水沖洗干凈后入槽（鑄鐵只用水砂）。7.4陽(yáng)極處理，只適用與碳鋼，電流密度為5070安/平方分米，時(shí)間數(shù)秒至數(shù)分鐘，視綱的種類而定。含碳量愈高，陽(yáng)極處理時(shí)

14、間愈短。陽(yáng)極處理的目的是活化表面，暴露金屬晶鉻，有利于鉻的結(jié)合力。低碳鋼，陽(yáng)極處理0.51分鐘（如有表面滲碳，則應(yīng)按高碳鋼處理）中碳鋼，陽(yáng)極處理小于0.5分鐘，然后采用沖擊鍍，（比正常電流大0.51倍）。高碳鋼，不進(jìn)行陽(yáng)極處理，用稍高于平時(shí)電鍍的電流密度沖擊鍍23分鐘鑄鐵，不進(jìn)行陽(yáng)極處理，用大于平時(shí)電鍍電流的2倍沖擊鍍35分鐘含鉻合金鋼，陰極處理12分鐘，電壓3.5伏，再逐步階梯式增大電流至正常鍍（10分鐘內(nèi)電流密度由58，810，1013，1316安/平方分米逐步升至正常電鍍）含硅合金鋼，用含氫氟酸的鹽酸酸洗，然后水洗凈后入槽不進(jìn)行陽(yáng)極處理，可先沖擊鍍12分鐘后至正常電鍍。不銹鋼，（凹氏體不

15、銹鋼如1Cr18Ni9TI鎳鉻鈦鋼）不進(jìn)行陽(yáng)極處理，下槽前用1015%硫酸活化后水洗后帶電（22.5伏）下槽，然后階梯式逐步上升電流密度至工藝值。7.5預(yù)熱，大件510分鐘，小件35分鐘，預(yù)熱至零件達(dá)到槽溫7.6沖擊鍍，特別是光潔度不高的表面，氫易析出，鉻不易均勻沉積，必須使用大電流沖擊，是表面產(chǎn)生鉻的結(jié)晶中心，有利于以后的鉻均勻細(xì)致地生長(zhǎng)。沖擊電流可選用正常電流的0.51倍（采用電流密度較高時(shí)，如50安/平方分米）或12倍，采用電流密度較低（如30安/平方分米），沖擊時(shí)間一般為35分鐘（如鑄鐵）或23分鐘（如高碳鋼）。7.7正常電鍍，為了保持表面各部位的電流密度均勻，陽(yáng)極分布，輔助陽(yáng)極的安置

16、，保護(hù)陰極的吸收電流，塑料對(duì)電流的阻擋，套考慮周全，才能使表面鉻層厚度均勻一致。鍍層增長(zhǎng)速度，在50安/平方分米時(shí)，每小時(shí)可增長(zhǎng)0.03毫米，鍍層厚度大的，要選用稍小的電流密度如30安/平方分米，一防止粗糙或顆粒的生成。鍍層薄的，可選用較大電流密度如5060安/平方分米，可在較短的時(shí)間內(nèi)鍍完，溫度宜在5060度范圍內(nèi)選擇，但溫度控制在+-2度內(nèi)。添加劑為了加速鍍鉻，并提高表面光亮度，可在槽內(nèi)加鍍鉻添加劑，如加入添加劑后電流密度可以升到60安/平方分米，每小時(shí)可沉積鉻層0.06毫米，比原來(lái)加快一倍但對(duì)于使用較低電流密度情況下，效果不顯著。7.8鍍后磨光，由于尺寸不均，鍍后需要磨光，磨光時(shí)需要用冷

17、卻液，進(jìn)刀量適當(dāng)，以免使鍍層在磨光時(shí)邊角處有炸裂脫落現(xiàn)象。磨光前需要除氫脆，即200度的烘箱烘2個(gè)小時(shí)即可。 八、鍍鉻層的硬度8.1鉻酐濃度的影響，鉻酐濃度越高，鉻硬度愈低。如300克/升時(shí)，鍍層硬度為HV850；當(dāng)鉻酐濃度為中等，在200克/升時(shí)，硬度為HV920；鉻酐濃度在100克/升時(shí)，硬度可達(dá)HV980。8.2硫酸濃度的影響，在鉻酐及其他工藝條件固定不變時(shí)，硫酸含量提高，硬度相應(yīng)地提高。如當(dāng)鉻酐為250克/升時(shí)，硫酸含量2.5克/升是硬度為HV920，當(dāng)硫酸為3.5克/升時(shí)，硬度為HV970，為最高點(diǎn)，但此后再提高硫酸至4或5克/升時(shí)，則硬度下降為HV950或920。8.3電流密度的影

18、響，在正常溫度下，如60度，電流密度愈高硬度愈高，如電流密度為15安/平方分米時(shí)，硬度為HV520；電流密度為30安/平方分米硬度為HV775；電流密度為60安/平方分米硬度達(dá)到HV940。隨后在提高電流密度，硬度不再上升，甚至使鉻層結(jié)晶組織變壞，機(jī)械性能降低。8.4鍍液溫度 影響，其他條件不變，升高溫度會(huì)降低鉻層的硬度，如當(dāng)電流密度為30安/平方分米，40度時(shí)硬度為HV1100，50度是硬度為HV1050，60度時(shí)為HV970，70度時(shí)下降至HV700。8.5三價(jià)鉻的影響，其他條件不變時(shí)，鍍液中三價(jià)鉻含量的升高，硬度增大，當(dāng)達(dá)到11.2克/升為最大值，此后鍍層硬度下降。如三價(jià)鉻5克/升時(shí)，H

19、V1140；7.5克/升時(shí)，HV1200；10克/升時(shí)，HV1250；13克/升時(shí)，HV1200；16克/升時(shí)，HV1040。8.6鍍層厚度的影響，鍍層厚度增加，硬度提高。硬度在最高值在厚度0.2毫米左右。此后厚度再提高，硬度也不再增加。 九、鉻鍍層的結(jié)合強(qiáng)度9.1材料的影響，普通鋼上鍍鉻結(jié)合強(qiáng)度為6.96*104千巴，在軸承鋼上為6.7，鑄鐵為6.66，總的來(lái)說(shuō)，鉻層在低碳鋼上結(jié)合強(qiáng)度比較理想。9.2溫度的影響，電流密度為50安/平方分米時(shí)，溫度為30度時(shí)結(jié)合強(qiáng)度為6*104千巴，50度為9.6，70度為8.5，可見50度時(shí)結(jié)合強(qiáng)度最好。9.3電流密度的影響，當(dāng)溫度為50度時(shí)，電流密度為30

20、安/平方分米，結(jié)合強(qiáng)度為6.8*104千巴，電流密度為50安/平方分米為9.6，電流密度為70是為6.2，電流密度為90時(shí)為5，可見電流密度為50安/平方分米結(jié)合強(qiáng)度最好。9.4表面予處理的影響電解拋光后再鍍鉻短時(shí)間的陽(yáng)極處理在電流沖擊35秒，這些都可以改善鉻層的結(jié)合強(qiáng)度。 十、 雜質(zhì)的影響10.1鐵，最高允許含量為8克/升，超過(guò)后使導(dǎo)電率下降，電流不穩(wěn)定，光亮范圍縮小，鍍硬鉻時(shí)容易產(chǎn)生小顆粒，或部分顆粒脫落形成針孔。鐵雜質(zhì)的來(lái)源主要是陽(yáng)極處理時(shí)零件上的鐵溶入，和非鍍面未絕緣好使鐵腐蝕進(jìn)入溶液。鍍裝飾鉻時(shí)零件掉入槽內(nèi)，未及時(shí)撈出，連鎳，銅層及基體鐵或銅一并溶蝕進(jìn)入溶液。解決的辦法最簡(jiǎn)單的是局部

21、或全部更換鍍液；采用732陽(yáng)離子交換樹脂的辦法費(fèi)用高且工作量大；采用素瓷筒電解法使鐵等金屬雜質(zhì)在陰極上析出也有一定效果。10.2銅，最高允許含量為5克/升，其來(lái)源來(lái)自計(jì)桿的腐蝕和基體或鍍層銅的溶解。處理方法和鐵一樣。銅使鍍層光亮范圍狹窄，深鍍能力下降，大電區(qū)有黑色物沉淀。10.3氯離子，最高允許含量為0.30.5克/升。超過(guò)此值，溶液的電流效率和深鍍能力下降，輕微時(shí)鍍層發(fā)花斑，嚴(yán)重時(shí)發(fā)暗發(fā)灰出現(xiàn)針孔，抗蝕力降低。氯離子來(lái)自含鹽份的水或鍍前處理用鹽酸侵蝕后未洗凈帶入槽中，故配槽和補(bǔ)充時(shí)用純凈水最好，鍍前用稀硫酸浸蝕后水洗入槽。氯離子的除去方法是加入碳酸銀，但費(fèi)用大，可采用在70度用大陽(yáng)極電流密度

22、電解數(shù)小時(shí)除去氯氣。10.4硝酸根，最高允許含量為0.05克/升，溶液中含極少量硝酸，鍍層發(fā)暗，小電區(qū)無(wú)鉻層，除去辦法是先用碳酸鋇將硫酸全部沉淀，然后在6080度通電處理，陽(yáng)極電流密度3040安/平方分米，時(shí)間為23晝夜，將硝酸根還原為氨氣除去。10.5HEEC高效鍍鉻工藝，HEEC工藝允許各項(xiàng)雜質(zhì)總含量較傳統(tǒng)工藝要高。 十一、常見故障和除去辦法11.1鍍硬鉻11.1.1鍍層剝離 可能原因硫酸過(guò)高，溫度低，預(yù)熱時(shí)間短，掛具接觸不良，中間斷電，前處理不良。11.1.2鍍層粗糙、顆粒、燒焦 可能原因硫酸過(guò)低，溫度低，電流密度小，掛裝不正確，無(wú)保護(hù)陰極，陰陽(yáng)極距離小。11.1.3凹面無(wú)鍍層 可能原因硫酸過(guò)高，溫度高，沖擊電流下，掛具接觸不良，掛裝不正確，添加劑不足。11.1.4局部無(wú)鍍層 可能原因沖擊電流下，掛具接觸不良，前處理不良，陽(yáng)極處理時(shí)間長(zhǎng)，掛裝不正確，添加劑不足。11.1.5鍍層結(jié)合力差 可能原因溫度低，電流密度小，預(yù)熱時(shí)間短，前處理不良，陽(yáng)極處理時(shí)間長(zhǎng)。11.1.6整體無(wú)鍍層 可能原因掛具接觸不良，陽(yáng)極處理時(shí)間長(zhǎng)11.1.7局部有針孔 可能原因前處理不良，掛裝不正確，添加劑質(zhì)量不好。11