地震資料解釋2

1、地震資料解釋地震資料解釋 六、地震反射層位的地質(zhì)屬性的標(biāo)定六、地震反射層位的地質(zhì)屬性的標(biāo)定 確定地震標(biāo)準(zhǔn)反射層及其地質(zhì)屬性，這是剖面解釋的一項(xiàng)重要工作，給地震層位賦以地質(zhì)意義，從而把地震與地質(zhì)聯(lián)系起來。這項(xiàng)工作，通常在選擇對(duì)比層位時(shí)就開始了，但那時(shí)還沒有完成全區(qū)性的細(xì)致對(duì)比工作，對(duì)反射的特征、連續(xù)性和變化規(guī)律還不能確切了解，不便于與地質(zhì)、物探資料對(duì)比，因此只能是初步的。 （一）、地震標(biāo)準(zhǔn)層的確定（一）、地震標(biāo)準(zhǔn)層的確定 所謂地震標(biāo)準(zhǔn)層，確切地說，是指產(chǎn)生反射的界面，在時(shí)間剖面上，是用反射波來代表的。 標(biāo)準(zhǔn)層的反射具備以下條件： 1.反射波特征明顯、穩(wěn)定。 2.在工區(qū)大部分測(cè)線上能連續(xù)追蹤。 3

2、.能反映地質(zhì)構(gòu)造（包括淺、中、深各層位）的主要特征；最好在含油層系之內(nèi)。 對(duì)地震標(biāo)準(zhǔn)層的解釋是完成地質(zhì)任務(wù)的關(guān)鍵。開始選擇的對(duì)比層位，不一定都能成為標(biāo)準(zhǔn)層。有時(shí)反射質(zhì)量較差，無法確定標(biāo)準(zhǔn)層，可在含油層系在時(shí)間剖面上所相當(dāng)?shù)膖o范圍內(nèi)，利用若干短反射段，作出一條與它們平行的層面，這稱為“假想層”（如下圖），對(duì)比時(shí)也要做到剖面間的閉合。 （二）、標(biāo)準(zhǔn)層地質(zhì)屬性的確定（二）、標(biāo)準(zhǔn)層地質(zhì)屬性的確定1.利用連井地震剖面利用連井地震剖面 工區(qū)內(nèi)如有鉆井，可做連井測(cè)線，然后根據(jù)鉆井提供的地質(zhì)分層資料，由已知速度參數(shù)，把深度轉(zhuǎn)換成時(shí)間，與井旁的時(shí)間剖面對(duì)比，確定反射層位所對(duì)應(yīng)的地質(zhì)層位。層位對(duì)比時(shí)要注意以下幾

3、點(diǎn)： （1）當(dāng)界面傾斜時(shí)，由鉆井剖面換算的時(shí)間不等于反射t0時(shí)間，最好將時(shí)間剖面轉(zhuǎn)換為深度剖面，再與鉆井深度剖面對(duì)比。 （2）一般時(shí)間剖面上的波動(dòng)是非零相位的，最大波峰并不代表波至?xí)r間，往往滯后一個(gè)相位左右（約30ms，相當(dāng)50m左右）； （3）地震記錄是地震子波與反射系數(shù)序列的褶積，當(dāng)相鄰的反射時(shí)間間隔小于子波的延續(xù)時(shí)間時(shí)，各層記錄子波將疊合成一個(gè)復(fù)合波組，這時(shí)，記錄上的反射波就不能與地質(zhì)分層吻合。 （4）反射界面是波阻抗分界面，不一定都與巖性界面對(duì)應(yīng)，如巖石的顏色或顆粒大小的變化不會(huì)造成波阻抗的改變。 （5）通常，總是把反射層定為某地質(zhì)界面的頂面。有時(shí)反射界面以上地層沉積穩(wěn)定，其下地層不穩(wěn)

4、定，這表明反射主要由上部地層控制，若把反射層位定為上部地層的底界，則較為合理。2.利用層速度資料利用層速度資料 用層速度推斷反射層位的地質(zhì)年代也是很有效的，例如華北地區(qū)確定上覆地層與灰?guī)r潛山的分界，就往往用層速度資料推斷。因?yàn)樯细驳牡谌蹬c中生界地層，層速度一般小于4-4.5km/s，而較古老的灰?guī)r地層其層速度可達(dá)5.5-6km/s，差別較大，因此推斷效果顯著。通過解釋速度譜或沿剖面進(jìn)行連續(xù)速度分析，可獲得層速度資料。3.利用合成地震記錄利用合成地震記錄 合成地震記錄是根據(jù)聲波測(cè)井資料做成的，可直接與時(shí)間剖面進(jìn)行對(duì)比，鑒別反射波地質(zhì)屬性，分辨多次波。通過聲波測(cè)井和密度測(cè)井，得到聲速測(cè)井曲線和密

5、度測(cè)井曲線，將它們?cè)谕簧疃壬系乃俣戎蹬c密度值相乘，得到聲阻抗測(cè)井曲線，就可以求出反射系數(shù)： 式中： 、 分別為界面兩側(cè)地層的聲阻抗；進(jìn)一步可求出合成地震記錄： 式中， 是已知的零相位子波。11221122vvvvR11v22v)()()(tRtbtx)(tb 下圖就是用合成記錄與實(shí)際時(shí)間剖面對(duì)比、確定反射層地質(zhì)屬性的例子。為了便于對(duì)比，將單道合成（一維合成）記錄連續(xù)顯示6道，排列在一起，看起來很象時(shí)間剖面。合成記錄是按時(shí)間比例尺顯示的（也可按深度比例尺），在一旁可按相應(yīng)的深度比例尺，將鉆井地質(zhì)剖面附上去。對(duì)比可見，時(shí)間剖面上的強(qiáng)反射波是來自侏羅系（J）地層中砂巖和頁巖的分界面。 當(dāng)沒有速度測(cè)

6、井資料時(shí)，也可利用電測(cè)井資料，由福斯特（Faust）公式求速度： 式中： 為速度； 為地層電阻率； 為深度。此式是福斯特對(duì)大量地震測(cè)井和電測(cè)井資料進(jìn)行估算后提出的。適用于深度大于200m的砂頁巖沉積地層，要求地層水的礦化度變化小，自然電位曲線上沒有特殊峰值。 用一維合成記錄對(duì)比定層，要求對(duì)比處反射層是水平的；記錄子波應(yīng)與合成記錄子波相同。未經(jīng)子波處理的時(shí)間剖面，反射波峰值較合成記錄滯后一個(gè)相位左右。613)(102cRZVVcRZ4.利用鄰區(qū)鉆井資料或已知地震層位對(duì)比利用鄰區(qū)鉆井資料或已知地震層位對(duì)比 如果工區(qū)內(nèi)沒有鉆井，可利用鄰區(qū)的鉆井，做連井測(cè)線，進(jìn)行對(duì)比定層；或者鄰區(qū)已做了地震工作，地震

7、層位性質(zhì)已知，則可將工區(qū)的測(cè)線延向鄰區(qū)，做一段重復(fù)測(cè)線，進(jìn)行對(duì)比，要注意使采集因素與鄰區(qū)保持一致。5.利用區(qū)域地質(zhì)資料和其它物探資料推斷利用區(qū)域地質(zhì)資料和其它物探資料推斷 如果上述資料都沒有，可根據(jù)區(qū)域地質(zhì)資料中關(guān)于地層厚度的估算和沉積規(guī)律的結(jié)論，結(jié)合其它物探資料，推斷各反射層所相當(dāng)?shù)牡刭|(zhì)層位。這樣做，往往會(huì)產(chǎn)生較大誤差。七、地震構(gòu)造圖及構(gòu)造圖的繪制方法七、地震構(gòu)造圖及構(gòu)造圖的繪制方法 前面所述的解釋工作都是對(duì)二維地震時(shí)間剖面所作的對(duì)比解釋。如果要想描繪出整個(gè)區(qū)域的構(gòu)造全貌，則需將剖面和平面結(jié)合起來進(jìn)行空間解釋，也就是繪制出某一層的地震反射構(gòu)造圖。（一）、地震構(gòu)造圖及其種類（一）、地震構(gòu)造圖及

8、其種類1.什么是構(gòu)造圖 所謂構(gòu)造圖，就是用等深線（或等時(shí)線）及其它地質(zhì)符號(hào)表示地下某一層面起伏形態(tài)的一種平面圖件。它反映了某一地質(zhì)時(shí)代的地質(zhì)構(gòu)造特征，是地震勘探最終成果圖件，是鉆探提供井位的主要依據(jù)，因此，繪制構(gòu)造圖是一項(xiàng)十分重要的工作。 假設(shè)地下有一個(gè)穹窿構(gòu)造，若將構(gòu)造頂面的等深線向上投影到地平面上，得到的是平面圖，就是該穹窿構(gòu)造頂面的等深度圖或構(gòu)造圖。 一條深度剖面只能表示沿該剖面的地下構(gòu)造形式，要想知道地質(zhì)構(gòu)造的空間形態(tài)，必須把測(cè)網(wǎng)中的各條測(cè)線的深度剖面都利用起來，下圖是把4條剖面上的同一反射層（T）的深度，按一定間距展布在測(cè)線平面圖上，然后根據(jù)所標(biāo)注的深度值繪出等深線，就得到了構(gòu)造圖。

9、 2.地震構(gòu)造圖的種類 地震構(gòu)造圖按作圖等值線的性質(zhì)可分為兩大類：一是用深度等值線表示的等深度構(gòu)造圖；另一類是以時(shí)間等值線表示的等t0構(gòu)造圖。前者是在深度剖面基礎(chǔ)上繪制的，也可以由等t0圖經(jīng)過空間校正后得到，其表示的構(gòu)造形態(tài)和位置直觀、準(zhǔn)確，是最終成果圖件；后者是在時(shí)間剖面基礎(chǔ)上繪制的，是等t0構(gòu)造圖，只能反映構(gòu)造的基本形態(tài)，在位置上也存在偏移，屬于過渡性圖件。這類圖件制作快捷。 等深度圖按深度性質(zhì)又可分為真深度圖、法線深度圖和視鉛垂深度圖。制成等法線圖或視鉛垂深度圖；經(jīng)過偏移校正就得到真深度構(gòu)造圖；也可以由水平疊加時(shí)間剖面，直接作等t0圖，再經(jīng)過空間校正得到真深度構(gòu)造圖。這種方法較簡(jiǎn)便，當(dāng)前

10、在我國(guó)已普遍采用。另外，還可以利用疊偏剖面直接作構(gòu)造圖。無論哪種方法，它們的基本作圖程序是相似的。 （二）、構(gòu)造圖的繪制步驟及方法（二）、構(gòu)造圖的繪制步驟及方法 1.資料的檢查資料的檢查 因?yàn)槔L制構(gòu)造圖的全部數(shù)據(jù)都是從剖面圖（時(shí)間剖面或深度剖面）上取得的，剖面解釋的可靠程度直接關(guān)系到構(gòu)造圖的質(zhì)量，所以在繪制構(gòu)造圖之前，應(yīng)對(duì)所有剖面進(jìn)行檢查。主要檢查標(biāo)準(zhǔn)層的地質(zhì)屬性是否準(zhǔn)確，數(shù)量上是否滿足地質(zhì)任務(wù)的要求；斷層、超復(fù)、尖滅等地質(zhì)現(xiàn)象的確定是否合理，上下反射層之間和相鄰剖面間的解釋有無矛盾之處；各剖面交點(diǎn)閉合誤差是否在允許范圍（小于等值線距之半）以內(nèi)等。 2.選擇作圖層位和比例尺選擇作圖層位和比例尺

11、 （1）作圖層位的選擇 在所對(duì)比的若干反射層中，選擇能控制地質(zhì)構(gòu)造特征的標(biāo)準(zhǔn)層作為繪制構(gòu)造圖的層位，對(duì)于目的層是必須選擇的作圖層位。如果目的層不是較好的反射標(biāo)準(zhǔn)層，甚至難以對(duì)比追蹤波，也必須作假想層，來繪制構(gòu)造圖。至于要選多少個(gè)層位制作構(gòu)造圖，則可根據(jù)勘探任務(wù)和地質(zhì)要求而定。在角度不整合面上下，最好各選一層分別作構(gòu)造圖。（2）作圖比例尺 比例尺和等值線距反映了構(gòu)造圖的精確度，而構(gòu)造圖的精確度又取決于測(cè)網(wǎng)的密度、地質(zhì)情況、勘探任務(wù)和資料質(zhì)量等因素。在資料質(zhì)量好，構(gòu)造復(fù)雜的情況下，應(yīng)選擇較大的比例尺和較小的等值線距，反之亦然。在不同的勘探階段，其構(gòu)造圖的作圖比例尺和等值線距，都是有一定要求的，詳見

12、下表。 3.描繪測(cè)線平面分布圖描繪測(cè)線平面分布圖 根據(jù)測(cè)量資料，用透明紙把所有測(cè)線的平面位置描下作為底圖，注明測(cè)線號(hào)、測(cè)線起止樁號(hào)、交點(diǎn)樁號(hào)、已鉆井位、主要地物及經(jīng)緯度等。4.取數(shù)據(jù)取數(shù)據(jù) 在經(jīng)過解釋的時(shí)間剖面或深度剖面上，對(duì)所選的作圖層位，按一定距離（通常在測(cè)線平面圖上為1cm）及測(cè)線交點(diǎn)處讀取t0值或深度值，同時(shí)將斷點(diǎn)位置、落差、超復(fù)點(diǎn)、尖滅點(diǎn)等數(shù)據(jù)標(biāo)注在測(cè)線位置圖上。對(duì)構(gòu)造的主要部位及特征點(diǎn)附近應(yīng)加密取值。 5.制作斷裂系統(tǒng)圖制作斷裂系統(tǒng)圖 在各條剖面上劃分出斷層之后，需要把屬于同一斷層的斷點(diǎn)在平面上組合起來，繪制斷層系統(tǒng)圖。斷層系統(tǒng)圖的正確與否，直接關(guān)系到構(gòu)造圖的精度。斷層系統(tǒng)圖1.斷

13、點(diǎn)在平面圖上的標(biāo)記方法 將同一層位的所有斷點(diǎn)投影于測(cè)線上，如下圖所示。把投影點(diǎn)的位置展在測(cè)線平面位置圖上(如前圖所示)，并用一定符號(hào)表示斷層性質(zhì),如：正斷層，逆斷層，下降盤，傾向。這樣標(biāo)記的斷層位置，只有對(duì)水平界面或垂直斷層走向的偏移剖面才是正確的，否則相對(duì)實(shí)際位置要出現(xiàn)偏移。但這里所確定的斷裂系統(tǒng)，即作為等t0圖上的斷裂系統(tǒng)，由等t0圖制作等深度圖（構(gòu)造圖）是要做偏移校正的。2.在不同的剖面上識(shí)別同一斷層的依據(jù)(1)在平行的剖面上，斷層性質(zhì)相同，斷面、斷盤產(chǎn)狀相似。(2)斷開的地層層位基本一致或有規(guī)律變化。(3)斷點(diǎn)位置靠近、斷距相近或沿走向呈規(guī)律變化。(4)同一斷塊、地層產(chǎn)狀變化一致或有一

14、定規(guī)律。(5)區(qū)域性大斷裂一般平行區(qū)域構(gòu)造走向，斷層兩側(cè)波組有明顯差異。3.斷點(diǎn)平面組合時(shí)應(yīng)注意的問題 (1)兩條斷層相交時(shí)，應(yīng)該用構(gòu)造地質(zhì)學(xué)理論加以分析，按斷層發(fā)生的先后分為主干斷層和派生斷層。晚期的新斷層應(yīng)切割早期的老斷層，而老斷層在新斷層兩側(cè)發(fā)生錯(cuò)動(dòng)。 當(dāng)兩條斷層相接觸時(shí)，一般應(yīng)是小斷層的一端觸到大斷層上，其中長(zhǎng)支是老斷層或者是同時(shí)伴生的深斷層而淺層不斷的一般是老斷層；深淺層都斷，落差基本一致時(shí)一般為新斷層，落差上小下大屬于邊沉積邊發(fā)育的斷層。 (2)一些斷點(diǎn)很清晰的斷層，在平面連接時(shí)不能穿過無斷點(diǎn)顯示的剖面。(3)經(jīng)平面組合后剩余的孤立斷點(diǎn)，應(yīng)是斷距小，延伸較短的小斷層。(4)當(dāng)?shù)貙觾A

15、角較大(20以上)時(shí)，確定斷層和組合斷點(diǎn)時(shí)應(yīng)結(jié)合偏移剖面，但剖面平行走向時(shí)，斷層仍不能實(shí)現(xiàn)偏移歸位，有時(shí)會(huì)存在假斷點(diǎn)。在后圖中，剖面E5在F兩邊，分別收到來自斷層F上、下盤的反射，因而出現(xiàn)了假斷點(diǎn)F。(5) 在斷點(diǎn)組合時(shí)，應(yīng)將剖面與平面相結(jié)合，反復(fù)對(duì)比，使組合方案達(dá)到最為合理。 假斷點(diǎn)的形成假斷點(diǎn)的形成 6.勾繪等值線勾繪等值線 按規(guī)定的等值線距(如前面表中所示)，根據(jù)展在平面透明底圖上的t0值或深度值，勾繪圓滑的曲線。先勾出大致的輪廓，如構(gòu)造的高點(diǎn)和低點(diǎn)，構(gòu)造軸線等，然后再考慮構(gòu)造的細(xì)節(jié)。在復(fù)雜斷塊區(qū)，應(yīng)以斷塊為單位勾繪。勾繪等值線應(yīng)注意下述規(guī)律： (1)勾繪的平面圖與剖面圖，在構(gòu)造形態(tài)、范

16、圍、高點(diǎn)位置和幅度等方面的特征上，基本一致。(2)勾繪構(gòu)造等值線應(yīng)符合構(gòu)造規(guī)律： 在單斜層上，等值線間隔應(yīng)均勻變化，不允許出現(xiàn)多線或缺線現(xiàn)象。兩個(gè)正向(或負(fù)向)構(gòu)造之間不能存在單線，如下圖中虛線是錯(cuò)誤的。正負(fù)向構(gòu)造，在無斷層影響時(shí)，都應(yīng)相間出現(xiàn)，構(gòu)造軸向大體一致。勾繪斷層線兩側(cè)的等值線，應(yīng)考慮斷開前構(gòu)造形態(tài)上的聯(lián)系，如下圖a的勾法是錯(cuò)誤的。 斷層上升盤某點(diǎn)等值線的數(shù)值加上斷層的落差，等于下降盤等值線的數(shù)值。如下圖所示。 同一斷層，在上下層構(gòu)造圖上的位置不能相交，當(dāng)斷面直立時(shí)，深淺層構(gòu)造圖的斷層位置應(yīng)當(dāng)重合；當(dāng)斷層傾斜時(shí)，同一斷層在各層構(gòu)造圖上應(yīng)彼此平行，且深層的較淺層的往斷層下傾方向偏移。背斜

17、構(gòu)造斷開后，下降盤等值線范圍比同深度上升盤的小。對(duì)于正斷層，上下盤斷點(diǎn)投影到地面上的水平位置錯(cuò)開，如圖b所示；對(duì)于逆斷層，上下盤斷點(diǎn)投影到地平面上，水平位置出現(xiàn)疊掩，如圖a所示。(3)構(gòu)造圖的規(guī)格要求及常用地質(zhì)符號(hào)。 在構(gòu)造圖上應(yīng)標(biāo)注圖名、比例尺、經(jīng)緯度、井位、主要地物、圖例和責(zé)任人等。常用的地質(zhì)符號(hào)見下圖。 八、由等八、由等t0圖經(jīng)過空間校正作圖經(jīng)過空間校正作真深度構(gòu)造圖真深度構(gòu)造圖（一）、方法原理（一）、方法原理1.由等t0圖求真傾角 設(shè) 、 為等 圖上兩條等值線與法線（ ）的交點(diǎn)（如圖a）， 方向 時(shí)間梯度（ ）比其它方向都大，因此也是界面最大傾斜方向（即傾向），其傾角為真傾角（ ）。在

18、圖b中：n1o2o0t0tdndt0n在O1點(diǎn)有：O1C1Z01，C1A1R01；在O2點(diǎn)有：O2C2Z02，C2A2R02；作C2gO1C1、C2dC1A1，則gc2d=ec1d=（對(duì)應(yīng)邊互相垂直）。在直角C2ge中可看出xRRZZgCecgcgCgetgcos)(020102012112設(shè)：Z0Z01Z02，R0R01R02，則有：上式兩邊乘以 再平方得：整理后得： 因 90，所以 不為負(fù)值，解得： cos00RZtgxcos200220222cos2cos)cos1 (sin02RRZZxx0)(cos2cos)(220002202xRRZZxcos2200022020cosxZRZxR

19、Zx2.求偏移距離和真深度在圖5-27中，O點(diǎn)到A點(diǎn)的回聲時(shí)間為t0，A點(diǎn)在地面的投影點(diǎn)為O，則O點(diǎn)的偏移校正距離應(yīng)為 ，真深度為 ，它們的計(jì)算公式： _OO AOHsin0_ROOcos00RZH3.空間校正數(shù)據(jù)表或量板的制作 給出某t0值，可計(jì)算其Z0和R0，由相距為x的O1和O2點(diǎn)的t0值可求出Z0和R0，然后求出 ，再求出 和H。將 的對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù)列成表，即為空校數(shù)據(jù)表，或作成空校圖板，計(jì)算時(shí)，t0間隔可由t0等值線的間隔而定，一般為t0=0.05s，x間隔取10m。但由于地層傾角的變化，t0等值線的疏密變化會(huì)很大，為了保證精度，制作時(shí)可取較小的t0值，如t0=0.025s。_OO HOOxt0（二）、空校步驟及繪制真深度構(gòu)造圖（二）、空校步驟及繪制真深度構(gòu)造圖1.由水平疊加時(shí)間剖面作等t0圖，等值線勾繪如第一節(jié)所述，等值線間隔可取25ms或50ms。2.在t0等值線上取足夠多的點(diǎn)(包括斷點(diǎn))，量出等值線間法線方向的水平距離x 。3.根據(jù)某點(diǎn)上的t0、x 值查表或空校圖版，求出偏移距 和真深度H。 _OO 4.在等t0圖上，用箭頭標(biāo)出該點(diǎn)的偏移方向(上傾方向)，箭桿長(zhǎng)度表示偏移距離 ，箭尾表示偏移前某點(diǎn)的位置O，箭頭表示偏移后的位置O，并在O點(diǎn)處寫上真深度。對(duì)斷層空間校正的處理，要求在等t0圖上斷點(diǎn)位置準(zhǔn)確，才能使得空校更可靠。5.將所有偏移后的點(diǎn)的位置和真