實(shí)驗(yàn)10,電鍍鋅工藝設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)報(bào)告

1、本文格式為Word版，下載可任意編輯實(shí)驗(yàn)10,電鍍鋅工藝設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)報(bào)告 試驗(yàn) 10 ：電鍍鋅的工藝設(shè)計(jì) 一、試驗(yàn)?zāi)康?1. 了解赫爾槽的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)并把握赫爾槽的使用； 2. 把握鋅酸鹽鍍鋅的工藝流程 二、試驗(yàn)原理 赫爾槽是 ROHull 于 1935 年設(shè)計(jì)的形似梯形的一種電鍍工藝試驗(yàn)儀，它具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔，使用便利，速度快，效果好，消耗鍍液少等特點(diǎn)，是電鍍工藝者必需把握的試驗(yàn)手段，隨著電鍍技術(shù)的進(jìn)展，赫爾槽的用途和結(jié)構(gòu)都有了新的進(jìn)展，不僅用于討論鍍液組分的影響，添加劑的選擇，查明故障，確定電流密度范圍等，而且用于測(cè)定分散力量，深鍍力量。鍍層的其他性能（整平性、脆性、內(nèi)應(yīng)力、耐蝕性等），能測(cè)定鍍液和鍍

2、層的很多主要性能。 在電鍍中，陰極和陽(yáng)極總是平行放置的，如圖 14（a）所示，為的是陰極上各部位電流密度趨向分布。但假如把陰極斜放，使陰極各部位與陽(yáng)極的距離不同，如圖 14（b）所示，則陰極上的電流密度就隨各部位而異，赫爾槽就是應(yīng)用這個(gè)原理設(shè)計(jì)的。 在赫爾槽中，陰極兩端與陽(yáng)極距離不同，離陽(yáng)極近的一端叫近端，電流密度大，隨著遠(yuǎn)離陽(yáng)極電流密度漸漸變小，距陽(yáng)極最遠(yuǎn)的一端稱為遠(yuǎn)端，電流密度最小，如 267 毫升的赫爾槽試片上近端與遠(yuǎn)端電流密度相差 50 倍，因此通過(guò)一次赫爾槽試驗(yàn)就可以直接從陰極試片上觀看到不同電流密度下鍍層的狀況，轉(zhuǎn)變電鍍液的組分和工藝參數(shù)并分別做赫爾槽試驗(yàn)，對(duì)陰極試片進(jìn)行比較和分析

3、從而可確定合理的配方和工作規(guī)范。 圖 1.赫爾槽的結(jié)構(gòu)圖 鍍鋅過(guò)程: 陰極過(guò)程: Zn(OH)42- - 2OH- Zn(OH)2 Zn(OH)2 + 2e Zn + 2OH- 另外； 2H+ + 2e H2 陽(yáng)極過(guò)程； Zn - 2e + 4OH- Zn(OH)42- Zn + 2NaOH + 2H2O Na2Zn(OH)4 + H2 也存在； 4OH- - 4e 2H2O + O2 三、 試驗(yàn)器材 赫爾槽、直流穩(wěn)壓電源、鋅陽(yáng)極、銅試片、NaOH、ZnO、一些添加劑 四、試驗(yàn)步驟 1 . 鋅版用砂紙打磨后用去離子水清洗處理；銅片用去離子水清洗。 2.在赫爾槽加入體積為 1/2 的電鍍液，將銅

4、片與鋅片依次放入赫爾槽。 3.計(jì)算出銅片被電鍍液浸沒(méi)部分的面積為 0.65dm 2 ，分別以 0.5A/dm 2 、1A/dm 2 、2A/dm 2計(jì)算出電解時(shí)的電流，得出電流分別為 0.325A, 0.65A, 1.3A 4.以上述電流恒流電鍍五分鐘 五、結(jié)果與爭(zhēng)論 1. 將不同條件下制備的電鍍?cè)嚻恼眨?biāo)明試驗(yàn)條件； 圖 2.電流密度為 0.5A/dm2 電鍍 5min 后的銅板 圖 3.電流密度為 1A/dm2 電鍍 5min 后的銅板 圖 4.電流密度為 2A/dm2 電鍍 5min 后的銅板 2. 依據(jù)試片前后的質(zhì)量變化，計(jì)算不同條件下鍍鋅的電流效率。 由 m=ItM Cu /2F 計(jì)算出各電流密度下的理論電鍍質(zhì)量，又有試驗(yàn)時(shí)測(cè)得的實(shí)際電鍍質(zhì)量，可算出個(gè)電流密度下的電鍍效率。結(jié)果如表一。 銅片編號(hào) 1 1 2 2 3 3 電流 /A 0.325 0.65 1.3 鍍前質(zhì)量 /g 10.398 10.4025 10.506 鍍后質(zhì)量 /g 10.4288 10.4579 10.587 實(shí)際電鍍質(zhì)量 /g 0.0308 0.0554 0.081 理論電鍍質(zhì)量 /g 0.03