超凈車間工藝工程師作業(yè)指導(dǎo)書

1、超凈車間工藝作業(yè)指導(dǎo)書一：簡介1 目的為了規(guī)范超凈車間工藝工程師的操作，提高工作效率，特制定本標準。2 范圍本規(guī)范規(guī)定了超凈車間操作過程中的注意事項，本規(guī)范適用于超凈車間全體工藝工程師。3 定義無4 職責(zé)超凈全體工藝工程師對此項工作負責(zé)。二： 基本作業(yè)流程2.1值班工程師職責(zé)2.1.1 工作內(nèi)容a) 巡視超凈車間各工藝情況及人員操作狀況，當(dāng)發(fā)現(xiàn)工藝參數(shù)發(fā)生變化時，調(diào)查其原因然后進行相應(yīng)處理,對車間內(nèi)違規(guī)操作進行指正并記錄；b) 保證超凈間各個工藝在規(guī)定的工藝參數(shù)下進行，定期對設(shè)備的各工藝參數(shù)進行復(fù)查 ，完成SPC相關(guān)工作；c) 對超凈車間工藝異常（方阻異常，燒焦，擴散前清洗不凈，絨面反片，滴源

2、等）進行記錄并查找原因進行處理，完成上班未完成的異常處理；d) 完成本車間內(nèi)實驗, 為生產(chǎn)人員設(shè)定好各種工藝參數(shù),并配合其他車間工藝工程師完成各項實驗和質(zhì)量控制；e) 對本車間內(nèi)擴散前清洗不凈及制絨片帶有粉沫等與制絨相關(guān)異常情況反饋給制絨工藝工程師；接受刻蝕工藝工程師反饋的工藝異常并幫助查找原因；f) 對車間內(nèi)異常進行數(shù)據(jù)追蹤；g) 詳細填寫值班交接表，爐管點檢表及工藝更改記錄單，并完成日報相關(guān)內(nèi)容，重大異常需及時反饋并寫出異常報告。2.1.2 異常報告機制A. 超凈電阻異常反饋流程a) 當(dāng)單組電阻出現(xiàn)異常超出SPEC范圍或方阻超出CL線時，由質(zhì)檢通知工藝工程師，及時查找原因。b) 當(dāng)班期間同

3、一原因?qū)е碌碾娮璁惓Ｆ笥诘扔?組時，需通知工藝主管工程師；同一原因?qū)е碌碾娮璁惓Ｆ笥诘扔?組時，由主管工程師上報部門經(jīng)理；出現(xiàn)電阻異常后，單管工藝調(diào)試時間大于等于4小時，仍效果不明顯，無法按時交付生產(chǎn)時，通知工藝主管工程師；單管工藝調(diào)試時間大于等于8小時，且影響到生產(chǎn)產(chǎn)量時，由主管工程師上報部門經(jīng)理。注：當(dāng)班期間同一原因?qū)е碌碾娮璁惓Ｆ笥诘扔?組時，需在當(dāng)班寫出異常報告；或者同一原因?qū)е碌碾娮璁惓Ｆ笥诘扔?組時，需由異常處理人寫出異常報告；B. 其他異常反饋流程a) 當(dāng)車間出現(xiàn)突發(fā)停電、停冷卻水、停排風(fēng)等異常時，工藝工程師需按相應(yīng)流程及時處理，聯(lián)系動力查找原因，并通知主管工程師。b)

4、清洗機純水加不進去或自動爐前清洗機無法自動加酸，由工藝工程師聯(lián)系設(shè)備或動力查找原因，異常持續(xù)時間大于或等于1小時，需通知主管工程師。c) 車間內(nèi)發(fā)生其他違反工藝作業(yè)規(guī)范或影響車間正常生產(chǎn)的情況，視情節(jié)嚴重程度，通知主管工程師，情節(jié)較為嚴重情況需由主管工程師上報部門經(jīng)理。2.1.3 交接內(nèi)容A. 務(wù)必詳細填寫交接記錄表、點檢表，按照5W1H(what,who,where,when,why;how)原則，未完成的工作，日報完成情況，請交接清楚。, B. 每班交接內(nèi)容必須包括的內(nèi)容有：a) 當(dāng)班產(chǎn)生的異常片的統(tǒng)計，及具體情況，原因及解決狀況等；b) 當(dāng)班機臺的異常狀況詳細記錄（即便未造成任何產(chǎn)品損失

5、）；c) 主管分配的工作或上一班交接下來的工作的完成情況；三 異常處理（注：超凈車間的處理片只可按照給定流程處理一次）3.1測量要求與異常處理A 四探針復(fù)機流程a) 質(zhì)量部用標準模塊校準；用一級標片校準合格后，再用二級標片進行校準，二級標片的測量值與實際值的偏差值需在1ohm以內(nèi)。b) 同一測量標準下，兩臺四探針的測量偏差值在0.5ohm以內(nèi)。c) 測量機臺的GRR，達標后方可使用。B. 四探針異常處理流程a) 在有計劃的機臺維護時（更換探頭，測量模塊等），維護前需分別測量二級標片和兩組正常片，維護結(jié)束后，用標準模塊校準，再次測量二級標片和兩組正常片；維護前后測量偏差標片在1ohm以內(nèi)，正常片

6、均值在0.5ohm以內(nèi)時，可以正常使用。b) 在無計劃的機臺維護時（機臺突然異常），維護后需用標準模塊校準，并測量二級標片和正常片，并在同一測量標準下進行橫向?qū)Ρ?，兩臺四探針的測量偏差應(yīng)與之前測量對比結(jié)果一致，偏差值在0.5ohm以內(nèi)。c) 在四探針突然出現(xiàn)測量值整體偏高或偏低時，應(yīng)立即停用四探針，并通知質(zhì)量工程師進行校準，校準后測量二級標片和正常片，并在同一測量標準下進行橫向?qū)Ρ?，兩臺四探針的測量偏差應(yīng)與之前測量對比結(jié)果一致，偏差值在0.5ohm以內(nèi)。停機1小時以上時需上報主管。3.3 方阻控制與擴散后硅片方阻異常分析處理A.規(guī)格定義：多晶V02工藝50單點Rs7052單點Rs6855單片R

7、s6557單片Rs6357單組Rs6358.5單組Rs61.5多晶SE工藝35單組Rs5537單點Rs5340單片Rs5041單片Rs4942單組Rs4843.5單組Rs46.5B. 異常定義：a) OOS：一點或多于一點阻值超出SPEC范圍；b) OOC：單組、單片或單點超出CL范圍,但單點在SPEC范圍內(nèi)；C方阻調(diào)節(jié)措施a) 方阻為超凈車間最主要的Inline參數(shù)，需每位工程師進行有效調(diào)節(jié)，以控制方阻的收斂性、波動性與穩(wěn)定性；a) 片間均勻性調(diào)節(jié)措施類型規(guī)格目標質(zhì)檢SPEC工藝控制線控制措施調(diào)整措施多晶單組6060±360±1.51.單組均值高于或低于目標值1.5ohm

8、時，需做出相應(yīng)調(diào)節(jié)； 2.連續(xù)三組均值均高于或低于目標值1ohm時，需做出相應(yīng)調(diào)節(jié)； 3.連續(xù)三組STD2.5時，需做出相應(yīng)調(diào)整；1.調(diào)小氮流量； 2.調(diào)節(jié)溫度； 3.調(diào)整小氮進氣管位置；單片6060±560±31.連續(xù)三組相同且連續(xù)片間方阻差值大于3ohm時，需對溫度做出相應(yīng)調(diào)節(jié)； 2.連續(xù)三組同一片號U%6時，需測25點，對小氮進氣管做出相應(yīng)調(diào)節(jié)；單點6060±1060±8連續(xù)三組同一片號單點方阻最大值與最小值差值超過16時，需做出相應(yīng)調(diào)節(jié)b) 片內(nèi)均勻性調(diào)節(jié)措施D方阻異常調(diào)節(jié)步驟1. 硅片擴散完后，質(zhì)檢需在30min內(nèi)測試方阻；2. 質(zhì)檢通知工藝值

9、班人員方阻超出控制線或者SPEC線時，工藝值班人員需及時對超標爐管進行異常原因查找并調(diào)節(jié)；3. 若方阻超出控制線，但在SPEC范圍內(nèi)時，需在下組進爐硅片擴散步（第四步）前對該爐管工藝進行調(diào)節(jié)；若下組進爐硅片未到擴散步（第四步前），可直接進行小氮流量或者溫度的調(diào)節(jié)；若下組進爐硅片已到擴散步，可進行以下措施控制：a) 方阻偏高時，在總界面暫停工藝，暫停時間1min方阻對應(yīng)減小1ohm；方阻偏低時，第四步快結(jié)束時在總界面跳步工藝，跳步時間1min方阻對應(yīng)增加1ohm；b) 在手動界面（除小氮流量外）完全按照工藝第四步設(shè)置（包括各氣體流量，閥門開關(guān)，溫度，壓差等），小氮流量按上組方阻及上組流量進行調(diào)節(jié)

10、后設(shè)置；c) 以上兩措施進行時，必須找對對應(yīng)爐管，進行相應(yīng)措施后，必須打到總界面進行檢查，查看更改是否正確；若下組進爐硅片已過擴散步，需等下組硅片出爐后再進行相關(guān)調(diào)節(jié)；4. 若方阻超出SPEC線，且前幾組方阻均正常：a) 下組硅片還未進爐擴散時，需停用該爐管，進行異常原因查找并工藝調(diào)試；b) 若下組硅片已進爐，但還未到擴散步（第四步），需通知設(shè)備值班人員手動取出該組硅片，取出的硅片附試驗單并通知生產(chǎn)重新清洗后再擴散，同時停用該爐管，進行異常原因查找并工藝調(diào)試；c) 若下組進爐硅片已過擴散步，需等該組硅片出爐后再進行相關(guān)調(diào)節(jié)；E.方阻異常片處理流程：F原因分析思路E.原因分析：3.4 燒焦片分析

11、A.燒焦片處理流程：B.異常表現(xiàn)：C.原因分析燒焦片類型序號異?，F(xiàn)象異常分析可直接下傳1正面無異常，背面有一點燒焦（不發(fā)藍，中心不發(fā)白），或邊緣有輕微發(fā)黃燒焦（ 5mm×10mm ）原料表面有雜質(zhì)（金屬離子等），高溫下引起的燒焦；臟片污染，舟齒污染，鑷子污染；2背面無異常，正面邊緣有輕微發(fā)黃燒焦（ 5mm×10mm ）若在舟齒處，為舟被輕微污染；或者裝舟鑷子被污染輕微燒焦片3正面無異常，背面邊緣2mm內(nèi)有發(fā)藍燒焦硅片未烘干或者清洗不凈；硅片在進爐前沒有完全烘干，由于硅片兩片中間的部分不容易蒸發(fā)，所以在硅片中間就形成了水珠或水蒸汽，當(dāng)遇到五氧化二磷時就生成了偏磷酸，附著在硅片

12、上，偏磷酸經(jīng)過高溫加熱分解，生成五氧化二磷氣體，熏黑硅片；4正面無異常，背面有發(fā)黃燒焦；正面或者背面有多點燒焦（不發(fā)藍、中心不發(fā)白）；清洗不凈；未及時裝舟；原料較臟；5同一組硅片擴散完，在硅片上部同一位置，即倒片時或者裝舟時鑷子位置有燒焦若正反面均有，則為倒片時鑷子被污染所致；若只有擴散面有，則為裝舟時鑷子被污染，導(dǎo)致硅片被污染而引起的燒焦；裝舟鑷子上有雜質(zhì)，裝舟時會在鑷子接觸硅片的部位受污染，導(dǎo)致硅片上裝舟鑷子接觸位置有較明顯的熏黑甚至發(fā)藍現(xiàn)象6手印燒焦制絨分片人員手套較臟或者分片不及時或者超凈裝舟時有人用手拿片，導(dǎo)致硅片表面有手套印引起的燒焦嚴重?zé)蛊?舟齒燒焦舟較臟造成8正面或者背面，有

13、3mm×3mm以上發(fā)藍燒焦現(xiàn)象；由于爐壁上以及石英門上會有一些偏磷酸殘留，所以當(dāng)偏磷酸經(jīng)過高溫加熱分解，生成五氧化二磷氣體，熏黑硅片，同時未分解的偏磷酸會使硅片上出現(xiàn)白色固體物質(zhì)。9同一組硅片擴散完后，在某一位置，出現(xiàn)連續(xù)的20片左右的燒焦，中間最嚴重，兩邊慢慢變輕微至正常燒焦最嚴重的一片原料片較臟，表面有大量污物，在高溫下?lián)]發(fā)，導(dǎo)致其他臨近硅片均燒焦，但舟齒處因由舟杠保護，未燒焦10大塊發(fā)藍燒焦臟片造成；當(dāng)制絨時，兩片片子疊在一起或一片片子上疊著碎片，造成制絨機清洗的效果不好，疊在一起的位置殘留有水和其它化學(xué)物質(zhì)，烘干之后仍殘留，導(dǎo)致擴散時燒焦。11兩片粘在一起燒焦疑為臟片或者制絨

14、后清洗不凈造成3.5 擴散反片處理流程：定義：擴散后擴散面在未制絨面的硅片，為裝舟時裝反所致；A卸舟時發(fā)現(xiàn)擴散反片時，操作人員應(yīng)將擴散反片挑出，轉(zhuǎn)處理片后集中處理。B擴散反片處理流程：4 機臺停復(fù)機流程4.1 擴散爐停機機制：A 停機條件B 停機流程C 計劃性斷電停機流程1) 擴散爐提前3h停止進片。2) 將保護氮V8閥門打開，并關(guān)掉加熱開關(guān)。3) 關(guān)閉上、下位機。D 非計劃性斷電停機處理方法1) 斷電后立即通知動力，并詢問恢復(fù)時間2) 針對動力電源恢復(fù)時間，做一下處理方法4.3 擴散爐復(fù)機流程超凈車間復(fù)機時，應(yīng)第一時間確認潔凈度是否已達標。A. 擴散爐復(fù)機流程：a) 確認設(shè)備狀態(tài)：確認設(shè)備重

15、要參數(shù)列表，需標明目標設(shè)定值、容許偏差范圍，實際測量值，爐管氣密性，升溫完畢及設(shè)備交予工藝時間。b) 確認工藝參數(shù)：1. 確認恒溫區(qū)、舟托架及擋板的位置；2. 確認源瓶是否已經(jīng)安裝好，檢查閥門是否有問題；3. 確認工藝各參數(shù)設(shè)定值；c) 升好溫后，待溫區(qū)穩(wěn)定30min，拉恒溫區(qū)，記錄相應(yīng)的開始與完成時間及拉恒溫區(qū)前后各爐管的溫度補償值。d) 拉好恒溫區(qū)后，開始做飽和，飽和時間由停機時間的長短來定：各爐管工藝文件夾均有“恒溫+飽和”工藝，停機時間大于24h時，可以直接運行該工藝進行飽和及拉恒溫區(qū)；e) 工藝假片調(diào)試，調(diào)試正常后交付生產(chǎn)，并記錄交付時間。f) 復(fù)機后第一組硅片附實驗單，控制方阻及跟

16、蹤效率。5.值班注意事項：5.1 返工片處理注意事項：a) 明確標注硅片的正反面，不能混淆。b) 裝舟崗位要保證硅片烘干后再進爐。c) 確保進入爐管的硅片全部是清潔，干凈的。d) 若返工組數(shù)較多，需規(guī)定爐管，以便控制方阻；5.2 磷源注意事項a) 恒溫槽溫度設(shè)定值為20±0.5，超出此范圍會影響小N2對磷源的控制；b) 源瓶進出氣管一定不要弄錯，換源時按照“細進粗出“的原則對接源瓶，源瓶閥門充分打開（完全打開后回旋半圈），單向閥定期檢查更換避免氣體逆流發(fā)生爆瓶事故；c) 源瓶液面低于3cm時，若生產(chǎn)不換源，需要求生產(chǎn)換源，否則停用該爐管；d) 生產(chǎn)換源后，工藝值班人員需做：減源（ 多晶經(jīng)驗值為4060cc）-通源（手動界面完全參照工藝第四步設(shè)置通源1520min）-查看恒溫槽電源開關(guān)是否開啟；5.3 擋片注意事項a) 每班下班前需監(jiān)督生產(chǎn)清洗擋片，擋片嚴重發(fā)藍需清洗后再使用；b) 缺角超過十分之一的擋片不能再用；5.4 Ocap填寫注意事項a) 出現(xiàn)方阻異常，查找到原因時，需三方一起確認，三方為：工藝，