材料現(xiàn)在分析技術(shù)復(fù)習(xí)

1、12.28晚第八章 電子光學(xué)基礎(chǔ)1.分辨率是什么？取決于？試樣上能分辨出來(lái)的兩個(gè)點(diǎn)間最小距離。取決于照明光源的波長(zhǎng)。2.像差分為：1.幾何像差 2.色差幾何像差（球差）：由電磁透鏡中心區(qū)與邊緣區(qū)對(duì)電子折射能力不符合預(yù)定規(guī)律造成的。不可消除幾何像差（像散）：由透鏡磁場(chǎng)的非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱引起的。消除：消像散器，引入一個(gè)強(qiáng)度和大小都可以調(diào)節(jié)的矯正磁場(chǎng)。色差：由入射電子波長(zhǎng)或能量的非單一性引起的。消除：穩(wěn)定加速電壓3.電磁透鏡分辨率由什么決定？衍射效應(yīng)和球差 P127 解釋4.景深、焦長(zhǎng)12.29 晚第九章 透射電子顯微鏡1.聚光鏡、物鏡、選區(qū)光闌作用聚光鏡光闌：限制照明孔徑角，常裝在聚光鏡的下方。物鏡光闌

2、：提高襯度，減小物鏡孔徑角，從而減小像差，得到高質(zhì)量顯微圖像；進(jìn)行暗場(chǎng)成像。常裝在物鏡的后焦面上。選區(qū)光闌：對(duì)樣品進(jìn)行微區(qū)衍射分析。常裝在物鏡的像平面位置。2.成像系統(tǒng)中，物鏡、中間鏡、投影鏡作用及特點(diǎn)1.2 上午第十章 電子衍射1.單晶體電子衍射花樣：排列十分整齊的斑點(diǎn)；形成：多晶體電子衍射花樣：一系列半徑不同的同心圓；形成：同一晶面族的許多晶面發(fā)生衍射形成許多斑點(diǎn)，構(gòu)成一個(gè)同心圓。非晶電子衍射花樣：一個(gè)漫散中心斑點(diǎn)。2.電子衍射（電子波）特點(diǎn)（5）電子衍射能在同一試樣微區(qū)進(jìn)行形貌分析和電子衍射（結(jié)構(gòu)）分析3.證明布拉格方程與愛瓦爾德球作圖法的一致性4.倒易點(diǎn)陣與正點(diǎn)陣的關(guān)系1.倒易矢量垂直

3、于正點(diǎn)陣中相應(yīng)的（hkl）晶面2.倒易點(diǎn)陣中的一個(gè)點(diǎn)代表正點(diǎn)陣中一組晶面3.倒易矢量長(zhǎng)度等于相應(yīng)正點(diǎn)陣中晶面間距的倒數(shù)5.電子衍射斑點(diǎn)與倒易點(diǎn)陣關(guān)系電子衍射斑點(diǎn)就是與晶體相對(duì)應(yīng)的倒易點(diǎn)陣中某一截面上陣點(diǎn)排列的放大像。電子衍射圖是二維倒易截面在平面上的投影放大像。6.零層倒易面：過(guò)倒易原點(diǎn)O,垂直入射方向uvw的倒易平面,記作,為uvw晶軸面的倒易陣點(diǎn)組成的平面.7.標(biāo)準(zhǔn)零層倒易面：以晶帶軸uvw的“零層倒易截面”上, 且的倒易陣點(diǎn)組成的平面。8.晶帶定理：零層倒易面上的各倒易矢量（hkl）都和晶帶軸uvw垂直。hu+kv+lw=0.9.為什么零層倒易面上未與愛瓦爾德球相切的地方也能產(chǎn)生衍射斑點(diǎn)

4、1.電子衍射衍射角很小，小于1度，故愛瓦爾德圓弧面可以看成一個(gè)平面。在倒易原點(diǎn)0附近的低指數(shù)倒易陣點(diǎn)附近范圍，反射球面十分接近一個(gè)平面，且衍射角度非常小<1，這樣反射球與倒易陣點(diǎn)相截是一個(gè)二維倒易平面。2.實(shí)際晶體的倒易點(diǎn)不是一個(gè)幾何意義上的點(diǎn)，而是會(huì)發(fā)生擴(kuò)展，薄片晶體的倒易點(diǎn)陣?yán)L(zhǎng)為倒易桿，在偏離衍射角范圍內(nèi)，倒易桿都能與球面相交而產(chǎn)生衍射。10.選區(qū)衍射步驟1.調(diào)節(jié)中間鏡和物鏡電流，使中間鏡物平面和物鏡像平面均與選區(qū)光闌面重合，在熒光屏上得到清晰的放大像。2.抽出物鏡光欄，減弱中間鏡電流，使中間鏡物平面移到物鏡背焦面，熒光屏上可觀察到放大的電子衍射花樣。3. 調(diào)節(jié)中間鏡電流，使中心斑

5、最小最圓，其余斑點(diǎn)明銳，此時(shí)中間鏡物面與物鏡背焦面相重合。4.減弱第二聚光鏡電流，使投影到樣品上 的入射束散焦（近似平行束），攝照（30s左右）1.2下午第十一章 晶體薄膜衍襯成像分析1.明暗場(chǎng)成像明場(chǎng)成像（DF）：讓投射束通過(guò)物鏡光闌而把衍射束擋掉得到圖像襯度的方法。暗場(chǎng)成像（BF）：讓衍射束通過(guò)物鏡光闌而把投射束擋掉得到圖像襯度的方法。中心暗場(chǎng)成像（CDF）：把入射束方向傾斜2角，使衍射斑移到透鏡中心位置，衍射束通過(guò)物鏡光闌而擋掉投射束得到圖像襯度的方法。2.質(zhì)厚襯度、衍射襯度質(zhì)厚襯度：由樣品各處原子序數(shù)或厚度差異形成的襯度。衍射襯度：由樣品各處產(chǎn)生的衍射線強(qiáng)度不同所形成的襯度，在熒光屏上

6、形成光強(qiáng)度差圖像。3.雙光束近似：電子束透過(guò)薄晶體試樣成像時(shí),除透射束外只存在一束較強(qiáng)的衍射束,其偏離矢量為S.此時(shí)衍射束、透射束強(qiáng)度關(guān)系: I0=IT+Ig=14.柱體近似：把成像單元縮小到和一個(gè)晶胞相當(dāng)?shù)某叨却笮?，雙光束在柱體內(nèi)通過(guò)，柱體下表面某點(diǎn)的衍射束強(qiáng)度近似認(rèn)為是以該點(diǎn)為中心的柱體衍射束強(qiáng)度，相鄰柱體互不干擾。5.等厚條紋：由于衍射束強(qiáng)度隨樣品厚度t周期性振蕩，在晶體樣品楔形邊緣出現(xiàn)厚度消光條紋，在同一條紋上晶體的厚度是相同的，所以這種條紋叫等厚條紋。6.等傾條紋把沒(méi)有缺陷的薄膜晶體稍加彎曲，在衍襯圖像上出現(xiàn)彎曲消光條紋，同一條紋相對(duì)應(yīng)樣品位置的衍射晶面的取向相同。12.28 晚第十三章 掃描電鏡1.表面形貌襯度是什么？表面形貌襯度成像原理：2.原子序數(shù)襯度是什么？原子序數(shù)襯度成像原理：背散射電子對(duì)微區(qū)元素原子序數(shù)Z敏感，原子序數(shù)越大，背散射電子產(chǎn)額越大，檢測(cè)器收集到的背散射電子越大，熒光屏上圖像越亮。3.電子束與固體樣品作用時(shí)產(chǎn)生的信號(hào)及特征 4.滴狀作用體積12.28晚第十四章 電子探針1.電子探針功能？ 進(jìn)行微區(qū)成分分析2.波譜、能譜優(yōu)缺點(diǎn)比較3.點(diǎn)、線、面分析過(guò)程點(diǎn)分析：電子束固定在需分析的微區(qū),波譜儀分析時(shí),改變分光晶體和探測(cè)器位置，得帶分析點(diǎn)X射線譜線；用能譜儀分析時(shí),幾分鐘內(nèi)得帶微區(qū)所有元素的譜線。線分析：將譜儀固定在要測(cè)元素的特征X射線特征波長(zhǎng)值