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文檔簡(jiǎn)介
1、Abrupt junction 突變結(jié) Accelerated testing 加速實(shí)驗(yàn) Acceptor 受主
2、; Acceptor atom 受主原子 Accumulation 積累、堆積 Accumulating contact 積累接觸 Accumulation region 積累區(qū) &
3、#160; Accumulation layer 積累層 Active region 有源區(qū) Active component 有源元 Active device
4、60; 有源器件 Activation 激活 Activation energy 激活能 Active region
5、160; 有源(放大)區(qū) Admittance 導(dǎo)納 Allowed band 允帶 Alloy-junction device合金結(jié)器件
6、60; Aluminum(Aluminium) 鋁 Aluminum oxide 鋁氧化物 Aluminum passivation 鋁鈍化 Ambipolar 雙極的
7、 Ambient temperature 環(huán)境溫度 Amorphous 無(wú)定形的,非晶體的 Amplifier 功放 擴(kuò)音器 放大器 Analogue(Analog) comparator 模擬比較器 Angstrom
8、; 埃 Anneal 退火 Anisotropic 各向異性的 Anod
9、e 陽(yáng)極 Arsenic (AS) 砷 Auger
10、; 俄歇 Auger process 俄歇過(guò)程 Avalanche 雪崩
11、 Avalanche breakdown 雪崩擊穿 Avalanche excitation雪崩激發(fā) Background carrier 本底載流子 Background doping 本底摻雜 Backward &
12、#160; 反向 Backward bias 反向偏置 Ballasting resistor 整流電阻 Ball bond
13、0; 球形鍵合 Band 能帶 Band gap 能帶間隙
14、Barrier 勢(shì)壘 Barrier layer 勢(shì)壘層 Barrier width 勢(shì)壘寬度 &
15、#160; Base 基極 Base contact 基區(qū)接觸 Base stretching &
16、#160; 基區(qū)擴(kuò)展效應(yīng) Base transit time 基區(qū)渡越時(shí)間 Base transport efficiency基區(qū)輸運(yùn)系數(shù) Base
17、-width modulation基區(qū)寬度調(diào)制 Basis vector 基矢 Bias 偏置 &
18、#160; Bilateral switch 雙向開(kāi)關(guān) Binary code 二進(jìn)制代碼Binary compound semiconductor 二元化合物半導(dǎo)體 Bipolar 雙極性的
19、 Bipolar Junction Transistor (BJT)雙極晶體管 Bloch 布洛赫 Blocking band 阻擋能帶
20、0; Blocking contact 阻擋接觸 Body - centered 體心立方 Body-centred cubic structure 體立心結(jié)構(gòu) Boltzmann 波爾茲曼 &
21、#160; Bond 鍵、鍵合 Bonding electron 價(jià)電子 Bonding pad 鍵合點(diǎn)
22、160; Bootstrap circuit 自舉電路 Bootstrapped emitter follower 自舉射極跟隨器Boron 硼 Borosilicate glass 硼硅玻璃
23、 Boundary condition 邊界條件 Bound electron 束縛電子 Breadboard 模擬板、實(shí)驗(yàn)板 Break down
24、0; 擊穿 Break over 轉(zhuǎn)折 Brillouin 布里淵
25、60; Brillouin zone 布里淵區(qū) Built-in 內(nèi)建的 Build-in electric field 內(nèi)建電場(chǎng) &
26、#160; Bulk 體/體內(nèi) Bulk absorption 體吸收 Bulk generation 體產(chǎn)生
27、; Bulk recombination 體復(fù)合 Burn - in 老化 Burn out
28、160; 燒毀 Buried channel 埋溝 Buried diffusion region 隱埋擴(kuò)散區(qū)
29、160; Can 外殼 Capacitance &
30、#160; 電容 Capture cross section 俘獲截面 Capture carrier 俘獲載流子 Carrie
31、r 載流子、載波 Carry bit 進(jìn)位位 Carry-in bit 進(jìn)位輸入
32、160; Carry-out bit 進(jìn)位輸出 Cascade 級(jí)聯(lián) Case
33、60; 管殼 Cathode 陰極 Center 中心
34、60; Ceramic 陶瓷(的) Channel 溝道 Channel breakdown 溝道擊穿
35、60; Channel current 溝道電流 Channel doping 溝道摻雜 Channel shortening 溝道縮短 Channel width 溝道寬度
36、60; Characteristic impedance 特征阻抗 Charge 電荷、充電 Charge-compensation effects 電荷補(bǔ)償效應(yīng) Charge conservation 電荷守恒
37、160; Charge neutrality condition 電中性條件 Charge drive/exchange/sharing/transfer/storage 電荷驅(qū)動(dòng)/交換/共享/轉(zhuǎn)移/存儲(chǔ) Chemmical etching 化學(xué)腐蝕法 Chemically-Polish 化學(xué)拋光
38、 Chemmically-Mechanically Polish (CMP) 化學(xué)機(jī)械拋光 Chip 芯片 Chip yield 芯片成品率 Clamped 箝位 Cl
39、amping diode 箝位二極管 Cleavage plane 解理面 Clock rate 時(shí)鐘頻率 Clock genera
40、tor 時(shí)鐘發(fā)生器 Clock flip-flop 時(shí)鐘觸發(fā)器 Close-packed structure 密堆積結(jié)構(gòu) Close-loop gain 閉環(huán)增益
41、60; Collector 集電極 Collision 碰撞 Compensated OP-AMP 補(bǔ)償運(yùn)放 Commo
42、n-base/collector/emitter connection 共基極/集電極/發(fā)射極連接 Common-gate/drain/source connection 共柵/漏/源連接 Common-mode gain 共模增益 Common-mode input 共模輸入
43、; Common-mode rejection ratio (CMRR) 共模抑制比 Compatibility 兼容性 Compensation 補(bǔ)償 Compensated i
44、mpurities 補(bǔ)償雜質(zhì) Compensated semiconductor 補(bǔ)償半導(dǎo)體 Complementary Darlington circuit 互補(bǔ)達(dá)林頓電路 Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor(CMOS) 互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管 Complementary err
45、or function 余誤差函數(shù) Computer-aided design (CAD)/test(CAT)/manufacture(CAM) 計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)/ 測(cè)試 /制 造 Compound Semiconductor 化合物半導(dǎo)體 Conductance 電導(dǎo) Conduction band (edge)
46、0; 導(dǎo)帶(底) Conduction level/state 導(dǎo)帶態(tài) Conductor 導(dǎo)體 Conductivity
47、; 電導(dǎo)率 Configuration 組態(tài) Conlomb 庫(kù)侖 Conpled Configuratio
48、n Devices 結(jié)構(gòu)組態(tài) Constants 物理常數(shù) Constant energy surface 等能面 Constant-source diffusion恒定源擴(kuò)散 Contact
49、 接觸 Contamination 治污 Continuity equation 連續(xù)性方程
50、160; Contact hole 接觸孔 Contact potential 接觸電勢(shì) Continuity condition 連續(xù)性條件 Contra doping
51、; 反摻雜 Controlled 受控的 Converter 轉(zhuǎn)換器
52、160; Conveyer 傳輸器 Copper interconnection system 銅互連系統(tǒng)Couping 耦合 Covalent
53、 共階的 Crossover 跨交 Critical 臨界的
54、 Crossunder 穿交 Crucible坩堝 Crystal defect/face/orientation/lattice 晶體缺陷/晶面/晶向/晶 格
55、60; Current density 電流密度 Curvature 曲率 Cut off
56、60; 截止 Current drift/dirve/sharing 電流漂移/驅(qū)動(dòng)/共享 Current Sense 電流取樣 Curvature 彎曲 Custom
57、 integrated circuit 定制集成電路 Cylindrical 柱面的 Czochralshicrystal 直立單晶 Czochralski technique 切克勞斯基技術(shù)(Cz法直拉晶體J) Dangling bonds
58、; 懸掛鍵 Dark current 暗電流 Dead time 空載時(shí)間 Debye leng
59、th 德拜長(zhǎng)度 De.broglie 德布洛意 Decderate 減速 Decibel (dB)
60、; 分貝 Decode 譯碼 Deep acceptor level 深受主能級(jí)
61、160; Deep donor level 深施主能級(jí) Deep impurity level 深度雜質(zhì)能級(jí) Deep trap 深陷阱 Defeat
62、60; 缺陷 Degenerate semiconductor 簡(jiǎn)并半導(dǎo)體 Degeneracy 簡(jiǎn)并度 Degradation 退化
63、; Degree Celsius(centigrade) /Kelvin 攝氏/開(kāi)氏溫度 Delay 延遲 Density
64、; 密度 Density of states 態(tài)密度 Depletion 耗盡
65、60; Depletion approximation 耗盡近似 Depletion contact 耗盡接觸 Depletion de
66、pth 耗盡深度 Depletion effect 耗盡效應(yīng) Depletion layer 耗盡層 Depletion
67、 MOS 耗盡MOS Depletion region 耗盡區(qū) Deposited film 淀積薄膜 Deposition process 淀積工藝
68、60; Design rules 設(shè)計(jì)規(guī)則 Die 芯片(復(fù)數(shù)dice) Diode
69、 二極管 Dielectric 介電的 Dielectric isolation 介質(zhì)隔離 Difference-mode input 差模輸入
70、 Differential amplifier 差分放大器 Differential capacitance 微分電容 Diffused junction 擴(kuò)散結(jié) Diffusion
71、; 擴(kuò)散 Diffusion coefficient 擴(kuò)散系數(shù) Diffusion constant 擴(kuò)散常數(shù) Diffusivity
72、; 擴(kuò)散率 Diffusion capacitance/barrier/current/furnace 擴(kuò)散電容/勢(shì)壘/電流/爐 Digital circuit 數(shù)字電路 Dipole domain 偶極
73、疇 Dipole layer 偶極層 Direct-coupling 直接耦合 Direct-gap semiconductor 直接帶隙半導(dǎo)體
74、 Direct transition 直接躍遷 Discharge 放電
75、0; Discrete component 分立元件 Dissipation 耗散 Distribution
76、; 分布 Distributed capacitance 分布電容 Distributed model 分布模型 Displacement 位移
77、 Dislocation 位錯(cuò) Domain 疇
78、 Donor 施主 Donor exhaustion 施主耗盡 Dopant
79、0; 摻雜劑 Doped semiconductor 摻雜半導(dǎo)體 Doping concentration 摻雜濃度 Double-diffusive MOS(DMOS)雙擴(kuò)散MOS. Drift
80、0; 漂移 Drift field 漂移電場(chǎng) Drift mobility
81、; 遷移率 Dry etching 干法腐蝕 Dry/wet oxidation 干/濕法氧化 Dose
82、160; 劑量 Duty cycle 工作周期 Dual-in-line package (DIP) 雙列直插式封裝 Dynamics 動(dòng)態(tài)
83、160; Dynamic characteristics 動(dòng)態(tài)屬性 Dynamic impedance 動(dòng)態(tài)阻抗 Early effect
84、160; 厄利效應(yīng) Early failure 早期失效 Effective mass 有效質(zhì)量 Einstein relation(ship) 愛(ài)因斯坦關(guān)系 Electric Erase Programmable
85、Read Only Memory(E2PROM) 一次性電可擦除只讀存儲(chǔ)器 Electrode 電極 Electrominggratim 電遷移 Electron affinity 電子親和勢(shì)
86、 Electronic -grade 電子能 Electron-beam photo-resist exposure 光致抗蝕劑的電子束曝光 Electron gas 電子氣 Electron-grade water 電子級(jí)純水
87、 Electron trapping center 電子俘獲中心 Electron Volt (eV) 電子伏 Electrostatic 靜電的 Element
88、60; 元素/元件/配件 Elemental semiconductor 元素半導(dǎo)體 Ellipse 橢圓 Ellipsoid 橢球
89、 Emitter 發(fā)射極 Emitter-coupled logic 發(fā)射極耦合邏輯Emitter-coupled pair 發(fā)射極耦合對(duì) Emitter follower 射隨器
90、 Empty band 空帶 Emitter crowding effect 發(fā)射極集邊(擁擠)效應(yīng) Endurance test =life test 壽命測(cè)試 Energy state
91、160; 能態(tài) Energy momentum diagram 能量-動(dòng)量(E-K)圖 Enhancement mode 增強(qiáng)型模式 Enhancement MOS 增強(qiáng)性MOS Entefic (低)共溶的 Environmental test
92、60; 環(huán)境測(cè)試 Epitaxial 外延的 Epitaxial layer 外延層 Epitaxial slice
93、160; 外延片 Expitaxy 外延 Equivalent curcuit 等效電路 Equilibrium majority /minority carriers 平衡多數(shù)/少數(shù)載流子 &
94、#160; Erasable Programmable ROM (EPROM)可搽取(編程)存儲(chǔ)器 Error function complement 余誤差函數(shù) Etch 刻蝕 &
95、#160; Etchant 刻蝕劑 Etching mask 抗蝕劑掩模 Excess carrier 過(guò)剩
96、載流子 Excitation energy 激發(fā)能 Excited state 激發(fā)態(tài) Exciton 激子
97、 Extrapolation 外推法 Extrinsic 非本征的 Extrinsic semi
98、conductor 雜質(zhì)半導(dǎo)體 Face - centered 面心立方 Fall time 下降時(shí)間 Fan-in
99、160; 扇入 Fan-out 扇出 Fast recovery 快恢復(fù)
100、 Fast surface states 快界面態(tài) Feedback 反饋 Fermi level 費(fèi)米能級(jí)
101、 Fermi-Dirac Distribution 費(fèi)米-狄拉克分布 Femi potential 費(fèi)米勢(shì) Fick equation 菲克方程(擴(kuò)散) Field effect transistor 場(chǎng)效應(yīng)晶體管 Field oxide &
102、#160; 場(chǎng)氧化層 Filled band 滿(mǎn)帶 Film 薄膜
103、60; Flash memory 閃爍存儲(chǔ)器 Flat band 平帶 Flat pack
104、60; 扁平封裝 Flicker noise 閃爍(變)噪聲 Flip-flop toggle 觸發(fā)器翻轉(zhuǎn) Floating gate 浮柵
105、160; Fluoride etch 氟化氫刻蝕 Forbidden band 禁帶 Forward bias 正向偏置
106、 Forward blocking /conducting正向阻斷/導(dǎo)通 Frequency deviation noise頻率漂移噪聲 Frequency response 頻率響應(yīng) Function 函數(shù) Gai
107、n 增益 Gallium-Arsenide(GaAs) 砷化鉀 Gamy ray r 射線
108、60; Gate 門(mén)、柵、控制極 Gate oxide 柵氧化層 Gauss(ian
109、) 高斯 Gaussian distribution profile 高斯摻雜分布Generation-recombination 產(chǎn)生-復(fù)合 Geometries 幾何尺寸 &
110、#160; Germanium(Ge) 鍺 Graded 緩變的 Graded (gradual) channel 緩變溝道 Graded junction
111、 緩變結(jié) Grain 晶粒 Gradient 梯度
112、; Grown junction 生長(zhǎng)結(jié) Guard ring 保護(hù)環(huán) Gummel-Poom model 葛謀-潘 模型
113、; Gunn - effect 狄氏效應(yīng) Hardened device 輻射加固器件 Heat of formation 形成熱&
114、#160; Heat sink 散熱器、熱沉 Heavy/light hole band 重/輕 空穴帶 Heavy saturation 重?fù)诫s Hell
115、 - effect 霍爾效應(yīng) Heterojunction 異質(zhì)結(jié) Heterojunction structure 異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu) Heterojunction Bipolar Transistor(HBT
116、)異質(zhì)結(jié)雙極型晶體 High field property 高場(chǎng)特性 High-performance MOS.( H-MOS)高性能MOS. Hormalized 歸一化 Horizontal epitaxial reactor 臥式外延反應(yīng)器 Hot carrior
117、60; 熱載流子 Hybrid integration 混合集成 Image - force 鏡象力 Impact ionization 碰撞電離 Impedance&
118、#160; 阻抗 Imperfect structure 不完整結(jié)構(gòu) Implantation dose 注入劑量 Implanted ion&
119、#160; 注入離子 Impurity 雜質(zhì) Impurity scattering 雜志散射
120、Incremental resistance 電阻增量(微分電阻)In-contact mask 接觸式掩模 Indium tin oxide (ITO) 銦錫氧化物 Induced channel 感應(yīng)溝道 Infrared &
121、#160; 紅外的 Injection 注入 Input offset voltage 輸入失調(diào)電壓 Insulator
122、 絕緣體 Insulated Gate FET(IGFET)絕緣柵FET Integrated injection logic集成注入邏輯 Integration 集成、積分 Interconnection
123、0; 互連 Interconnection time delay 互連延時(shí) Interdigitated structure 交互式結(jié)構(gòu) Interface
124、0; 界面 Interference 干涉 International system of unions國(guó)際單位制 Internally scattering 谷間散射 Interpolation
125、0; 內(nèi)插法 Intrinsic 本征的 Intrinsic semiconductor 本征半導(dǎo)體 Inverse operation
126、0; 反向工作 Inversion 反型 Inverter 倒相器 Ion
127、; 離子 Ion beam 離子束 Ion etching &
128、#160; 離子刻蝕 Ion implantation 離子注入 Ionization 電離
129、160; Ionization energy 電離能 Irradiation 輻照 Isolation land 隔離島
130、 Isotropic 各向同性 Junction FET(JFET) 結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管 Junction isolation 結(jié)隔離 Junction spacing
131、60; 結(jié)間距 Junction side-wall 結(jié)側(cè)壁 Latch up 閉鎖 Lateral
132、0; 橫向的 Lattice 晶格 Layout
133、 版圖 Lattice binding/cell/constant/defect/distortion 晶格結(jié)合力/晶胞/晶格/晶格常熟 /晶格缺陷/晶格畸變 Leakage current (泄)漏電流 Level shifting 電平移動(dòng)
134、60; Life time 壽命 linearity 線性度 Linked bond
135、 共價(jià)鍵 Liquid Nitrogen 液氮 Liquidphase epitaxial growth technique 液相外延生長(zhǎng)技術(shù) Lithography &
136、#160; 光刻 Light Emitting Diode(LED) 發(fā)光二極管 Load line or Variable 負(fù)載線 Locating and Wiring 布局布線 Longitudinal
137、0; 縱向的 Logic swing 邏輯擺幅 Lorentz 洛淪茲 &
138、#160; Lumped model 集總模型 Majority carrier 多數(shù)載流子 Mask 掩膜板,光刻板 Mask level
139、160; 掩模序號(hào) Mask set 掩模組 Mass - action law質(zhì)量守恒定律 Master-slave D flip-flop主從D觸發(fā)器 Matching
140、0; 匹配 Maxwell 麥克斯韋 Mean free path 平均自由程 Meandered emit
141、ter junction梳狀發(fā)射極結(jié) Mean time before failure (MTBF) 平均工作時(shí)間 Megeto - resistance 磁阻 Mesa 臺(tái)面 MESFET-
142、Metal Semiconductor金屬半導(dǎo)體FET Metallization 金屬化 Microelectronic technique 微電子技術(shù) Microelectronics 微電子學(xué)
143、60; Millen indices 密勒指數(shù) Minority carrier 少數(shù)載流子 Misfit 失配 Mismatching 失配 &
144、#160; Mobile ions 可動(dòng)離子 Mobility 遷移率 Module
145、 模塊 Modulate 調(diào)制 Molecular crystal分子晶體 Monolithic IC 單片
146、IC MOSFET金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管 Mos. Transistor(MOST )MOS. 晶體管 Multiplication 倍增 Modulator 調(diào)制
147、; Multi-chip IC 多芯片IC Multi-chip module(MCM) 多芯片模塊 Multiplication coefficient倍增因子 Naked chip 未封裝的芯片(裸片) Negative feedback 負(fù)反饋 &
148、#160; Negative resistance 負(fù)阻 Nesting 套刻 Negative-temperature-coefficient 負(fù)溫度系數(shù) Noise margin
149、; 噪聲容限 Nonequilibrium 非平衡 Nonrolatile 非揮發(fā)(易失)性 Normally off/on 常閉/開(kāi)
150、; Numerical analysis 數(shù)值分析 Occupied band 滿(mǎn)帶 Officienay 功率 Offset
151、60; 偏移、失調(diào) On standby 待命狀態(tài) Ohmic contact 歐姆接觸 Open circuit 開(kāi)路
152、 Operating point 工作點(diǎn) Operating bias 工作偏置 Operational amplifier (OPAMP)運(yùn)算放大器 Optical photon =photon 光子 &
153、#160; Optical quenching光猝滅 Optical transition 光躍遷 Optical-coupled isolator光耦合隔離器 Organic semiconductor有機(jī)半導(dǎo)體 Orientation &
154、#160; 晶向、定向 Outline 外形 Out-of-contact mask非接觸式掩模 Output characteristic 輸出特性
155、60; Output voltage swing 輸出電壓擺幅 Overcompensation 過(guò)補(bǔ)償 Over-current protection 過(guò)流保護(hù) Over shoot 過(guò)沖 &
156、#160; Over-voltage protection 過(guò)壓保護(hù) Overlap 交迭 Overload
157、 過(guò)載 Oscillator 振蕩器 Oxide 氧化物
158、160; Oxidation 氧化 Oxide passivation 氧化層鈍化 Package 封裝
159、160; Pad 壓焊點(diǎn) Parameter 參數(shù)
160、; Parasitic effect 寄生效應(yīng) Parasitic oscillation 寄生振蕩 Passination 鈍化 Passive component
161、無(wú)源元件 Passive device 無(wú)源器件 Passive surface 鈍化界面 Parasitic transistor 寄生晶體管 P
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