rena設備維護中文版

1、 RENA設備一般操作及個別配件保養(yǎng) 操作1.1.1設備指示燈及所代表的狀態(tài)顏色狀態(tài)信號聲音 表示紅色持續(xù)亮關提示有報警信息閃爍開提示有不能刪除的報警（級別最高 ）黃色持續(xù)亮關手動操作閃爍開提示有報警信息綠色持續(xù)亮關自動操作，生產(chǎn)中閃爍關初始化階段藍色持續(xù)亮關待機，上料臺沒片閃爍1.1.2 PC中顯示狀態(tài)及燈塔顏色初判報警級別燈塔報警顏色表示報警級別1.1.3 設備內自設的權限這是設備內部的所有的用戶名及密碼，級別由低到高1.1.4 用戶登錄點擊 login登陸界面出現(xiàn)輸入用戶名和密碼，點擊OK維修1.1更換及清洗濾芯更換清洗濾芯用于 刻蝕槽，酸槽，堿槽。1.1.1 準備登入界面：輸入用戶名和

2、密碼將設備狀態(tài)打到manual模式1.1將界面切換到 manual functions點擊 drain先將TANK的藥液排空1.1同理 如果想更換哪個部分濾芯只要將該部分的補液灌也排空排空后用水槍多次沖洗，然后再點擊drain.排空沖洗槽子的水。1.1去設備后部 ，打開防濺門水槍準備好，有漏液要及時沖洗1.1帶好防護用具，按照圖示將濾芯拆下 ，切記注意酸的濺漏。拆下濾芯清洗，或者更換新的濾芯，然后再裝回去1.2 更換風刀的濾芯風刀的濾芯是過濾車間的空氣，使得利用進入風刀的空氣潔凈，不影響硅片質量，長時間使用后要及時的清理或者更換濾芯。紅色標注部分為空氣濾芯的位置將支撐桿拆下就可以將兩個濾芯拆下

3、清洗或者更換1.2同時，將藍色的海綿濾芯也要進行清洗和更換1.3維修更換傳動鏈有時候隨著設備的長時間使用，傳動鏈會有些松動，這個時候就需要維護的時候查看，是否需要將它調節(jié)。1先將設備運行狀態(tài)必須切換到service模式，只有在此模式下，才能單獨讓滾輪轉起來同事要將上下料臺的齒輪保護蓋板拆下，將前面門板的上下料臺部分打開，以便檢查上下料臺處2個電機的工作狀態(tài)。1.31。點擊transport2，點擊sequence show 點擊 start transport 讓滾輪轉3.當鏈條的卡扣轉至上面時，點擊stop transport 讓滾輪停 1.35.拔掉電源6.松掉圖上所示的所有螺絲，這樣子就

4、可以使鏈條放松，然后可以通過調節(jié)卡扣的位置來調節(jié)鏈條的松緊度1.3.1 移除鏈條1.用螺絲刀把卡扣松掉2. 剔除鏈接片3.拔出多余鏈條1.3.14. 將多余的鏈接條去掉5.按照圖示方法將調節(jié)好長度的鏈條裝回去6.再將電機用螺絲調節(jié)好高度，和水平位置。固定，OK1.4 滾輪水平調整滾輪水平一般情況下，在初次調試后就不需要再次調試，但是根據(jù)實際情況需要調整時，必須先將要調試的槽體內部用水沖洗干凈，然后才可調整。按如下位置調試，這樣可保證水平以相同的趨勢在變化，步驟如下：上料臺 工藝槽清洗1堿槽清洗2酸槽清洗3風刀下料臺1.4上料臺滾輪離地面的高度為95厘米，特殊情況下為了匹配上下料臺可以適當?shù)纳险{

5、2cm-4cm95cm1.4標注過的螺母是調節(jié)滾輪水平的關鍵，調節(jié)時首先要適當?shù)乃砷_1.4用水平尺首先從上料臺開始調起，首先單個滾輪開始調1.4區(qū)域調節(jié)滾輪水平，要參考橫向和縱向的兩個位置1.4兩個部分的交界處可以用2片硅片比較著調節(jié)滾輪的高度，只要在不通區(qū)域內的硅片能在同一水平面，就默認為這兩部分的水平在一條水平面上。有時，胳臂地方需要用橡膠錘敲實，才能使得調好的水平之后沒有多大變化。主主標標導導航航欄欄工作界面工作界面任任務鍵務鍵主標登入/登出最近報警信息/主菜單欄導航欄 子菜單的目錄進入顯示，點擊show“任務鍵最近10個任務顯示快速顯示切換工作界面操作按鈕工作界面大體的界面信息REVI

6、S Training客客戶戶端端登登陸陸如果沒有用戶登陸點擊login按鍵輸入用戶名和密碼 登出登出點擊login，就會自動登出所有的界面顯示將會關閉REVIS 軟軟件培件培訓訓Headline Login / Logout進進入常入常規(guī)顯規(guī)顯示示 報報警分警分類類當前報警顯示歷史報警顯示文件文件種類種類歷史數(shù)據(jù)顯示登錄文件顯示報報告告種類種類報警報告顯示REVIS 系系統(tǒng)種類統(tǒng)種類用戶管理顯示REVIS TrainingHeadline Menu.“ buttonREVIS Training導導航航欄欄被被選選菜菜單單被被選選菜菜單單的子菜的子菜單單點點擊擊Show 鍵鍵打打開屏顯開屏顯示示

7、子菜子菜單內單內容容REVIS Training顯顯示示 舉舉例。例。設備顯示界面全貌:包括所有獨立的設備模塊顯示所有模塊的狀態(tài)和重要的參數(shù)顯示主要模塊的設置參數(shù)生產(chǎn)功能鍵(例如. 開始生產(chǎn)，手動模式，服務模式，開門 關門等.)REVIS Training顯顯示示舉舉例例模模塊狀態(tài)塊狀態(tài): 顯示設備狀態(tài)顯示模塊狀態(tài) 每個單獨的模塊:生產(chǎn)模式(生產(chǎn),待機 ，服務，手動等）錯誤狀態(tài)(已準備, 未準備好, .)生產(chǎn)狀態(tài)(空, 正在添加, 滿, .)很重要的生產(chǎn)實際值目前所用配方名稱REVIS Training顯顯示示舉舉例例手動功能模塊:顯示動態(tài)的流量圖顯示有效的手動功能REVIS Training

8、顯顯示示舉舉例例模塊數(shù)字輸出:顯示通過遠見設定的輸出值雙擊可設定輸出值REVIS Training任任務務管理菜管理菜單單工作框架按工作框架按鈕鈕任任務務按按鈕鈕REVIS Training任任務務管理菜管理菜單單關閉關閉所有任所有任務欄務欄全全屏屏狀態(tài)欄狀態(tài)欄置平置平狀態(tài)欄狀態(tài)欄垂直垂直REVIS Training歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)據(jù)歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)描述據(jù)描述:歷史數(shù)據(jù)顯示(按時間)曲線圖(器件的實時數(shù)據(jù)監(jiān)測曲線)報告 (此刻的有效報警信息)分析 (實時記錄 計劃)歷史報警顯示操作操作:一些過濾后的選項(時間范圍, 值得設定, .)1. 以文件格式導出數(shù)據(jù)REVIS Training歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)

9、據(jù)顯顯示示怎樣怎樣操作操作:選擇你所感興趣的事件選擇有效的數(shù)據(jù)設定時間范圍點擊Refresh鍵刷新數(shù)據(jù)點擊Export“ 導出數(shù)據(jù)REVIS Training歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)據(jù)-曲曲線圖顯線圖顯示示怎樣怎樣操作操作:打開相關元件的曲線標簽設定時間范圍點擊Refresh“ 刷新能或者不能獲得曲線用坐標尺查看實際數(shù)值點擊Export“ 導出數(shù)據(jù)點擊Screenshot“ 將數(shù)據(jù)存儲成為bmp文件 。REVIS Training歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)據(jù) 報警報告怎樣怎樣操作操作:從彈出菜單Menu.選擇顯示報警信息.設定時間范圍點擊Refresh“ 刷新數(shù)據(jù)，然后顯示選擇Alarm counts total“

10、 或者 Alarm counts per module“ 標簽REVIS Training手手動動功能功能手手動動功能功能:只在手動模式下有效在相關模塊的模塊下選擇manual functions子菜單。3. 所有功能鍵顯示在右方4. 如果一個功能正在操作，他的背景顏色為綠色流程圖查看功能的工作狀態(tài)5. 功能需要有效的PLC文件，而用戶則需要有效的權限REVIS Training手動功能手動功能工藝槽“Drain”Drain acid工藝槽正在排藥液REVIS Trainingservice 功能功能ATTENTION: low level functions with limited sec

11、urity validation machine can be damaged Service 功能功能: 只在service模式下有效 設定輸出值(從流程圖, 從IO顯示) 培訓操作(具體的培訓對話框) 校準 (各個元件的校準按鈕)REVIS TrainingService 模式 設定輸出值IO 顯顯示示:點擊show 進入模塊顯示從標簽欄中選中IO output 進入從菜單中雙擊輸出值在彈出對話框中設定新值1. 點擊OK“ 將新的值寫入PLC中REVIS TrainingService 模塊 校準校準校準:打開元件菜單再點擊show1. 在右上角將會顯示有效的校準功能鍵REVIS Trai

12、ning參數(shù)參數(shù)參數(shù)類參數(shù)類型型:設定參數(shù)(指定的 硬件參數(shù)設置)配方參數(shù)(指定的工藝參數(shù)設置)Knowhow 中被保護的參數(shù)(指定 RENA knowhow 設置)參數(shù)顯參數(shù)顯示示:每個模塊的每個類型顯示在一起參數(shù)是和配置文件profile 儲存在一起Profile 儲存REVIS Training參數(shù)參數(shù)屬屬性操作性操作:新建 刪除從數(shù)據(jù)庫加載Save to database寫入PLC從PLC加載Profilestore參數(shù)顯示加載保存PLC寫入加載.工藝階段1.1工藝校準及裝機注意事項 A.Niak上酸前注意事項；B.Niak第一次配液后注意事項；C.Niak培訓；A.Niak上酸前注意

13、事項檢查滾輪安裝狀況（水平，位置，數(shù)量等）；檢查前后擋板的高度（主要影響刻蝕槽循環(huán)流量及刻蝕線的好壞）；檢查DI的噴淋狀況（Rinse1，Rinse2,及Rinse3）；排風的調整，尤其是刻蝕的刻蝕槽排風（對穩(wěn)定性要求較高）；水測即在機臺加水的前提下跑片看硅片在個槽體運行狀況；配方設定；7. 檢查各槽的濾芯是否安裝；8. 初次配液校準以及補液量的校準（DI，HF，HNO3，HCL，KOH）；檢查滾輪水平（刻蝕的刻蝕槽水平尤其重要）刻蝕槽擋板的高度，保證藥液溢流；檢查滾輪安裝是否到位（下圖兩紅圈所示為調整水平螺絲，順時針調高）Niak刻蝕的刻蝕槽的相關參數(shù)設定（初次配液體積的設定）第一次給機臺加

14、液時確保各管路中的化學品正確；Niak 校準方法：校準方法：52Step1-排空上槽及下槽藥液2021-10-1553Step2-將機臺切換至安全模式即service模式2021-10-1554Step3-選擇一化學槽的某種化學品點擊Prepare get ref. volume 按鈕55Step4-拆開補液閥的管路并連接另一根管路，用其他容器接住56Step5-點擊Get ref. volume button and measure the ref. volume57Step6-稱量容器中所接水的重量反復做3次，將最后所得平均值寫入配方58Step7-校正玩將機臺切換至手動模式59Step8

15、-繼續(xù)做化學品校準，點擊 Start calibration 按鈕60B.Niak第一次配液后注意事項；檢查補液量；試跑假片，檢查wafer在各槽體運行狀況；生產(chǎn)經(jīng)擴散后的片子，看刻蝕邊狀況；Niak 刻蝕槽各化學品補液量2.試跑假片，檢查wafer在各槽體運行狀況3.生產(chǎn)經(jīng)擴散后的片子，看刻蝕邊狀況1.各槽體作用basin制制絨絨 commentsremarks制絨槽&水洗1損傷層去除;使其呈金字塔結構，增大Isc;HFHNO3堿槽&水洗 2去除多孔硅；酸堿中和;KOH酸槽&水洗 3去除表面SIO2; 斥水性;去除金屬離子;酸堿中和;HFHCl風刀烘干NIAK產(chǎn)量計算a.Niak機臺簡介；

16、以下為制絨工藝流程及各槽主要參數(shù)范圍：制絨工藝介紹制絨工藝介紹b.Niak 各槽介紹及制絨原理； Process Bath（浸泡式）： 制絨槽主要有HF,HNO3及DI按一定比例混合而成，根據(jù)客戶需求，可雙面制絨（HF：HNO3=1:3/4）或單面制絨(HF:HNO3=1:7/9)； 制絨主要是去除硅片在切割過程中產(chǎn)生的損傷層以及其他雜質（比如油污），在硅片表面形成高低不平的面即絨面，增加電池片的受光面積，減少反射，提高Isc，提高電池片的轉換效率，以下為制絨的反應原理： HNO3 + SI = SIO2 + NOx + H2O；（NOx + H2O = HNO2）該反應為中間反應較快 HF

17、+ HF = SIF4 + H2O ； SIF4 + HF = H2SIF6；制絨工藝介紹制絨工藝介紹制絨槽主要工藝參數(shù): 配比 HF:HNO3 1:9 (55g/l:505g/l); 溫度 8-10 C； 腐蝕深度 3.6-4.8um (3.8-4.0um/side較好，各客戶根據(jù)自己需求有不同的腐蝕深度)； 流量 120-150l/min; 滾輪速度 1.8-2.2m/min;制絨工藝介紹制絨工藝介紹Rinse1（浸泡式）： 主要為DI water，Rinse3溢流，清洗出制絨槽硅片表面的殘酸及殘留雜質； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min;Alkline Bath(噴淋式): KOH

18、與水按一定比例混合而成，中和制絨后表面殘留的殘酸； 工藝參數(shù)： KOH濃度 3%-8%； 溫度 10-25C； 流量 15-25l/min;Rinse2(噴淋式): 主要為DI water，清洗硅片表面殘堿或一些酸堿反應產(chǎn)物； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min; 制絨工藝介紹制絨工藝介紹Acid Bath(浸泡式): 主要為HF，HCL及DI，HF和HCL按各自質量百分比配液，其各自作用如下： HCL：中和殘留硅片表面殘留的堿液； 去除硅片在切割過程中引入的金屬雜質；（HCL具有酸和絡合劑的雙重作 用，氯離子與金屬離子能生成溶于水的絡合物） HF：去除在清洗過程中形成的SIO2層，以便于

19、脫水，因SI的疏水性比SIO2強； 工藝參數(shù)： HF濃度 6%-10%； HCL濃度 8%-12%； 溫度 10-30 C； 流量 80-120l/min;Rinse3 （浸泡+噴淋）: DI water，清洗殘酸； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min;Dryer: 熱風， 對硅片烘干，保證上風刀的風量比下風道高10以上，防止硅片翹起導致破片； 工藝參數(shù)：溫度控制在45-60 C ，保證硅片能吹干； 制絨工藝介紹制絨工藝介紹 制絨工藝介紹制絨工藝介紹 c.常見異常問題及處理：1.制絨后黑絲偏多或反射率偏低； 針對制絨后的黑絲或反射率問題主要通過調整溶液的配比，根據(jù)HF和HNO3與硅的反應特

20、性（HF縱向腐蝕，HNO3橫向腐蝕）調整；另外根據(jù)客戶對制絨后外觀的要求，在初始配液時需使用不同的配方如下： 2.制絨后斑點； 制絨后斑點主要有兩類黃色斑點或藍斑（化學液或水污染）和黑點（機臺本身的臟物所導致或水中雜質）如下圖：黃斑或藍斑黃斑黑點黃斑或藍斑：a.確認腐蝕量，確保wafer表面的臟污清洗干凈； b.調整堿槽與酸槽的濃度； c.更換Rinse的水； d.槽體清洗；（注：該類斑點在PE后易形成白點）黑點：a.確認客戶DI是否干凈； b.槽體清洗；（注：該類斑點刻蝕能清洗掉，對外觀無影響） 制絨工藝介紹制絨工藝介紹d.注意事項： 1.機臺停機時間過久或剛換液后會出現(xiàn)減重偏低，需先跑假片

21、或降低速度生產(chǎn)，待藥液激活后可正常生產(chǎn)； 2.注意對堿槽的清洗，因其容易結晶； 3.若機臺出現(xiàn)疊片，需對下貨端滾輪擦拭，防止有化學液殘留導致硅片被污染； 4.若機臺需停機超2小時，請將藥液Drain到下槽； 制制絨絨工工藝藝介介紹紹刻蝕工藝介紹刻蝕工藝介紹a.機臺簡介： 以下為刻蝕機臺工藝流程及主要工藝參數(shù)控制范圍；b.Niak各槽介紹及刻蝕原理：Process Bath（水上漂）； 刻蝕槽主要有HF，HNO3，H2SO4及DI組成，刻蝕主要去除在擴散過程中，硅片四周生成的一層PN結，若不去除邊緣PN結，電池片會因邊緣漏電而導致低效或報廢，以下為刻蝕槽的反應原理（化學反應較為復雜）： 刻蝕工藝

22、介紹刻蝕工藝介紹Si+2HNO3+6HF = H2SiF6+2HNO2+2H2O；3Si+4HNO3+18HF = 3H2SiF6+4NO+8H2O；3Si+2HNO3+18HF = 3H2SiF6+2NO+4H2O+3H2；5Si+6HNO3+30HF = 5H2SiF6+2NO2+4NO+10H2O+3H2；該反應主要分以下兩步：1.硝酸/亞硝酸（HNO2）將硅氧化成二氧化硅（主要是亞硝酸將硅氧化）；2.二氧化硅和氫氟酸反應（快反應），生成四氟化硅和水（快反應），四氟化硅又和水化合成氟硅酸進入溶液；3.硫酸不參與反應，僅僅是增加氫離子濃度，加快反應，增加溶液黏度（增大溶液與PSG薄層間的界

23、面張力）和溶液密度；工藝參數(shù)： 配比 HF：HNO3 1:12 （30g/l:350g/l）; H2SO4 55L-70L; 溫度 6-10 C; 腐蝕深度 0.8-1.6um;（1.2um較佳，不同客戶腐蝕深度不同） 流量 20-35l/min; 滾輪速度 1.7-2.3m/min; 刻蝕槽補液量 HF與HNO3的補液量一般為1:3到1:5； 刻蝕工藝介紹刻蝕工藝介紹Rinse1(浸泡式): DI water，為Rinse3溢流，清洗硅片上殘留的酸； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min;Alkline Bath(噴淋式): KOH按一定配比配液，一般在3%-8%，中和硅片殘留的酸及去除多

24、孔硅； 工藝參數(shù)： KOH 濃度 3%-8%； 溫度 15-30 C； 流量 15-25l/min;Rinse2（浸泡式）： DI water，清洗硅片表面殘堿及其他雜質（鹽）； 工藝參數(shù) ： 流量 40-60l/min；刻蝕工藝介紹刻蝕工藝介紹Acid Bath（浸泡式）： 主要為HF按一定配比（8%-10%）配液，去除擴散形成的PSG，增加硅片表面斥水性，便于脫水； 工藝參數(shù)： HF濃度 8%-10%； 溫度 15-35 C； 流量 80-120l/min;Rinse3 （浸泡+噴淋）: DI water，清洗殘酸； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min;Dryer: 熱風， 對硅片烘干，保證上風刀的風量比下風道高10以上，防止硅片翹起導致破片； 工藝參數(shù)：溫度控制在45-60 C ，保證硅片能吹干； 刻蝕工藝介紹刻蝕工藝介紹c.刻蝕常見異常及處理：1.刻蝕線過寬；類一：各道之間如圖-檢查排擋板或滾輪水平是否有差異另：若H2SO4偏多，刻蝕線會很黑刻刻蝕蝕工工藝藝介介紹紹類二：類三：在wafer尾部出現(xiàn)四個點，該四個位置與蝕刻槽滾輪的o-ring吻合檢查滾輪水平和O-ring有無損壞在wafer尾部出現(xiàn)月牙狀如圖將出刻蝕槽口滾輪調高（浙江尚源）或調低后擋板刻刻蝕蝕工工藝藝介介紹紹類四：Wafer尾部發(fā)黑，但刻蝕線正?；瘜W液濃度偏高，可加水或減小排風（