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1、第五講晶核的形成第四節(jié)晶核的形成一、主要內(nèi)容:均勻形核非均勻形核二、要點:形核的能量變化,臨界晶核半徑,臨界晶核半徑與過冷度的關(guān)系,形核功,臨界形核功,臨界形核功與過冷度的關(guān)系,能量起伏的概念,形核率,形核率的影響因素,晶體金屬與非晶體金屬的形成條件,非均勻形核, 非均勻形核的臨界晶核半徑和臨界形核功,非均勻形核的形核率,影響形核率的因素三、方法說明:通過形核能量變化的討論, 說明形核的難易程度, 使學(xué)生清楚的認識影響形核率的各種因素,因為,晶粒的大小對金屬的性能有直接的影響。授課內(nèi)容:過冷液體形成固體晶核有兩種形核方式:均勻形核(均質(zhì)形核或自發(fā)形核)非均勻形核(異質(zhì)形核或非自發(fā)形核)一、均勻
2、形核1. 均勻形核: 液態(tài)金屬絕對純凈, 無任何雜質(zhì), 不和型壁接觸, 只靠液態(tài)金屬的能量變化,由晶胚直接生成晶核的過程。2. 均勻形核時的能量變化和臨界晶核半徑:在過冷液體中出現(xiàn)晶胚時,一方面原子從液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楣虘B(tài)將使系統(tǒng)自由能降低,它是驅(qū)動力。另一方面,由于晶胚構(gòu)成新的表面,形成表面能,使系統(tǒng)能量升高,它是結(jié)晶的阻力。GVGVS假設(shè)過冷液體中出現(xiàn)一個半徑為r 的球狀晶胚,它引起的自由能變化為:G4r 3 GV 4 r 23體積自由能的變化與晶胚半徑的立方成正比,而表面能的變化與半徑的平方成正比??偟淖杂赡苁求w積自由能和表面能的代數(shù)和。自由能隨晶胚半徑的變化如圖:當(dāng) rrK 時,隨著晶胚尺寸的
3、增大,系統(tǒng)自由能增加當(dāng) rrK 時,隨著晶胚尺寸的增大,系統(tǒng)自由能降低把半徑為 rK 的晶胚叫做臨界晶核,rK 稱為臨界晶核半徑2r KGV臨界晶核半徑與晶核的單位表面能成正比,而與單位體積自由能成反比。r K2 TmLm T晶核的臨界半徑與過冷度成反比,過冷度越大,臨界半徑越小。在過冷液體中所存在的最大相起伏與過冷度的關(guān)系如圖:TK 就是臨界過冷度3、解釋說明:晶核形成時的能量變化和臨界晶核晶體熔化后的液態(tài)結(jié)構(gòu)從長程來說是無序的,而在短程范圍內(nèi)卻存在著不穩(wěn)定的,接近于有序的原子集團(尤其是溫度接近熔點時)。由于液體中原子熱運動較為強烈,在其平衡位置停留時間甚短,故這種局部有序排列的原子集團此
4、消彼長, 即前述稱相起伏。當(dāng)溫度降到熔點以下,在液相中時聚時散的短程有序原子集團, 就可能成為均勻形核的 胚芽 或稱晶胚, 其中的原子呈現(xiàn)晶態(tài)的規(guī)則排列,而其外層原子與液體中不規(guī)則排列的原子相接觸而構(gòu)成界面。因此,當(dāng)過冷液體中出現(xiàn)晶胚時,一方面由于在這個區(qū)域中原子由液態(tài)的聚集狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)榫B(tài)的排列狀態(tài),使體系內(nèi)的自由能降低(GV 0 ),這是相變的驅(qū)動力;另一方面,由于晶胚構(gòu)成新的表面,又會引起表面自由能的增加, 這構(gòu)成相變的阻力。 在液固相變中, 晶胚形成時的體積應(yīng)變能可在液相中完全釋放掉,故在凝固中不考慮這項阻力。 但在固固相變中, 體積應(yīng)變能這一項是不可忽略的。假定晶胚為球形,半徑為r ,
5、當(dāng)過冷液體中出現(xiàn)一個晶胚時,總的自由能變化面式中,為比表面能,可用表面張力表示。G G應(yīng)為在一定溫度下,GV和是確定值,所以G 是 r的函數(shù)。G 在半徑為r *時達到最大值。當(dāng)晶胚的r r * 時,則其長大將導(dǎo)致體系自由能的增加,故這種尺寸晶胚不穩(wěn)定,難以長大,最終熔化而消失。當(dāng)r r *時,晶胚的長大使體系自由能降低,這些晶胚就成為穩(wěn)定的晶核。因此,半徑為r * 的晶核稱為臨界晶核,而r *為臨界半徑。臨界半徑由過冷度上 T 決定,過冷度越大,臨界半徑數(shù)目增多。 液相必須處于一定的過冷條件時方能結(jié)晶,起伏是促成均勻形核的必要因素。4、形核率r * 越小,則形核的幾率增大,晶核的而液體中客觀存
6、在的結(jié)構(gòu)起伏和能量當(dāng)溫度低于 Tm 時,單位體積液體內(nèi)在單位時間所形成的晶核數(shù)(形核率)受兩個因素的控制,即形核功因子二、非均勻形核1、非均勻形核:依附于固態(tài)雜質(zhì)上的形核叫非均勻形核解釋說明: 均勻形核需要很大的過冷度, 而實際金屬的形核往往是非均勻形核, 過冷度很小,一般不超過 202、臨界形核半徑和形核功如圖:設(shè)晶核為球冠形。當(dāng)晶核穩(wěn)定存在時,三種表面張力在交點處達到平衡。LB B Lcos晶核與液體的接觸面積S1 ,晶核與基底的接觸面積S2 ,晶核的體積V,則:S12 .r 2 (1cos )S2.r 2 sin 2V1.r 3 ( 2 3coscos3 )3在基底上形核時總的自由能變化
7、為:GVGVGS推導(dǎo)整理,得出:G( 4/3 r 2 4 r 2L)( 2 3cos cos3) /4G (-4.r 34 .r 2L ) (2 - 3coscos3 )34按照均勻形核求臨界半徑和形核功的方法,即可求出非均勻形核的臨界半徑和形核功:rK 2 L2 LTmGVLmTG K 1.rK2L (23coscos3)3可以看出:非均勻形核的臨界球冠半徑與均勻形核的臨界半徑是相等的。當(dāng)0 時,非均勻形核的球冠體積等于零,0,表示完全濕潤,不需要形核功。當(dāng)180 時,非均勻晶核為一球體,與均勻形核所需的能量起伏相同。當(dāng) 在 0180之間時,非均勻形核的球冠體積小于均勻形核的晶核體積,GK 恒小于GK。越小,GK越小,非均勻形核越容易,需要的過冷度越小。3、形核率非均勻形核的形核率,除了受過冷度和溫度影響外,還受固態(tài)雜質(zhì)的結(jié)構(gòu), 數(shù)量,形貌
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