材料分析 題庫 含答案

1、.材料分析試題庫選擇題：一、1. m層電子回遷到k層后，多余的能量放出的特征x射線稱（ b ）a. k；b. k；c. k；d. l。2. 當(dāng)x射線發(fā)生裝置是cu靶，濾波片應(yīng)選（ c ）a cu；b. fe；c. ni；d. mo。3. 當(dāng)電子把所有能量都轉(zhuǎn)換為x射線時(shí)，該x射線波長(zhǎng)稱（ a ）a. 短波限0；b. 激發(fā)限k；c. 吸收限；d. 特征x射線4.當(dāng)x射線將某物質(zhì)原子的k層電子打出去后，l層電子回遷k層，多余能量將另一個(gè)l層電子打出核外，這整個(gè)過程將產(chǎn)生（ d ） a. 光電子；b. 二次熒光；c. 俄歇電子；d. （a+c）二、1.最常用的x射線衍射方法是（ b ）。a. 勞厄法

2、；b. 粉末法；c. 周轉(zhuǎn)晶體法；d. 德拜法。2.射線衍射方法中，試樣為單晶體的是（d ）a、勞埃法 b、周轉(zhuǎn)晶體法 c、平面底片照相法 d、 a和b3.晶體屬于立方晶系，一晶面截x軸于a/2、y軸于b/3、z軸于c/4，則該晶面的指標(biāo)為（ b）a、(364) b、(234) c、(213) d、(468)4.立方晶系中，指數(shù)相同的晶面和晶向（b ）a、相互平行 b、相互垂直 c、成一定角度范圍 d、無必然聯(lián)系5.晶面指數(shù)（111）與晶向指數(shù)（111）的關(guān)系是（ c ）。 a. 垂直； b. 平行； c. 不一定。6.在正方晶系中，晶面指數(shù)100包括幾個(gè)晶面（ b ）。 a. 6； b. 4

3、； c. 2 d. 1；。7.用來進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)分析的x射線學(xué)分支是（b ）a.x射線透射學(xué)；b.x射線衍射學(xué)；c.x射線光譜學(xué)；d.其它三、1、對(duì)于簡(jiǎn)單點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)的晶體，系統(tǒng)消光的條件是（ a ）a、不存在系統(tǒng)消光 b、h+k為奇數(shù) c、h+k+l為奇數(shù) d、h、k、l為異性數(shù)2、立方晶系100晶面的多重性因子為（ d ）a、2 b、3 c、4 d、63、洛倫茲因子中，第一幾何因子反映的是（ a ）a、晶粒大小對(duì)衍射強(qiáng)度的影響 b、參加衍射晶粒數(shù)目對(duì)衍射強(qiáng)度的影響c、衍射線位置對(duì)衍射強(qiáng)度的影響 d、試樣形狀對(duì)衍射強(qiáng)度的影響4、洛倫茲因子中，第二幾何因子反映的是（ b ）a、晶粒大小對(duì)衍射強(qiáng)度的影

4、響 b、參加衍射晶粒數(shù)目對(duì)衍射強(qiáng)度的影響c、衍射線位置對(duì)衍射強(qiáng)度的影響 d、試樣形狀對(duì)衍射強(qiáng)度的影響5、洛倫茲因子中，第三幾何因子反映的是（ c ）a、晶粒大小對(duì)衍射強(qiáng)度的影響 b、參加衍射晶粒數(shù)目對(duì)衍射強(qiáng)度的影響c、衍射線位置對(duì)衍射強(qiáng)度的影響 d、試樣形狀對(duì)衍射強(qiáng)度的影響精品.6、對(duì)于底心斜方晶體，產(chǎn)生系統(tǒng)消光的晶面有（ c ）a、112 b、113 c、101 d、1117、對(duì)于面心立方晶體，產(chǎn)生系統(tǒng)消光的晶面有（ c ）a、200 b、220 c、112 d、1118、熱振動(dòng)對(duì)x-ray衍射的影響中不正確的是（e ）a、溫度升高引起晶胞膨脹 b、使衍射線強(qiáng)度減小 c、產(chǎn)生熱漫散射 d、改

5、變布拉格角 e、熱振動(dòng)在高衍射角所降低的衍射強(qiáng)度較低角下小9、將等同晶面?zhèn)€數(shù)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響因子稱為（ c ）a、結(jié)構(gòu)因子 b、角因子 c、多重性因子 d、吸收因子四、1、衍射儀的測(cè)角儀在工作時(shí)，如試樣表面轉(zhuǎn)到與入射線成30度角時(shí)，計(jì)數(shù)管與入射線成多少度角?（b） a. 30度； b. 60度； c. 90度。2、不利于提高德拜相機(jī)的分辨率的是（ d ）。 a. 采用大的相機(jī)半徑； b. 采用x射線較長(zhǎng)的波長(zhǎng)； c. 選用大的衍射角；d.選用面間距較大的衍射面。3、德拜法中有利于提高測(cè)量精度的底片安裝方法是（ c ）a、正裝法 b、反裝法 c、偏裝法 d、以上均可4、樣品臺(tái)和測(cè)角儀機(jī)械連動(dòng)時(shí)，

6、計(jì)數(shù)器與試樣的轉(zhuǎn)速關(guān)系是（ b ）a、11 b、21 c、12 d、沒有確定比例5、關(guān)于相機(jī)分辨率的影響因素?cái)⑹鲥e(cuò)誤的是（ c ）a、相機(jī)半徑越大，分辨率越高 b、角越大，分辨率越高 c、x射線波長(zhǎng)越小，分辨率越高 d、晶面間距越大，分辨率越低6、粉末照相法所用的試樣形狀為（ c ）a、塊狀 b、分散 c、圓柱形 d、任意形狀7、低角的弧線接近中心孔，高角線靠近端部的底片安裝方法為（ a ）a、正裝法 b、反裝法 c、偏裝法 d、任意安裝都可8、以氣體電離為基礎(chǔ)制造的計(jì)數(shù)器是（ d）a、正比計(jì)數(shù)器 b、蓋革計(jì)數(shù)器 c、閃爍計(jì)數(shù)器 d、a和b9、利用x射線激發(fā)某種物質(zhì)會(huì)產(chǎn)生可見的熒光，而且熒光的

7、多少與x射線強(qiáng)度成正比的特性而制造的計(jì)數(shù)器為（ c ）a、正比計(jì)數(shù)器 b、蓋革計(jì)數(shù)器 c、閃爍計(jì)數(shù)器 d、鋰漂移硅檢測(cè)器五、1、測(cè)定鋼中的奧氏體含量，若采用定量x射線物相分析，常用方法是（ c ）。a. 外標(biāo)法；b. 內(nèi)標(biāo)法；c. 直接比較法；d. k值法。2、x射線物相定性分析時(shí)，若已知材料的物相可以查（ c ）進(jìn)行核對(duì)。a. 哈氏無機(jī)數(shù)值索引；b. 芬克無機(jī)數(shù)值索引；c.戴維無機(jī)字母索引；d. a或b。3、pdf卡片中，數(shù)據(jù)最可靠的用（ b ）表示 a、i b、 c、 d、c4、pdf卡片中，數(shù)據(jù)可靠程度最低的用（ c ）表示 a、i b、 c、 d、c5、將所需物相的純物質(zhì)另外單獨(dú)標(biāo)定，

8、然后與多項(xiàng)混合物中待測(cè)相的相應(yīng)衍射線強(qiáng)度相比較而進(jìn)行的定量分析方法稱為（ a ）a、外標(biāo)法 b、內(nèi)標(biāo)法 c、直接比較法 d、k值法6、在待測(cè)試樣中摻入一定含量的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，把試樣中待測(cè)相的某根衍射線條強(qiáng)度與摻入試樣中含量已知的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的某根衍射線條相比較，從而獲得待測(cè)相含量的定量分析方法稱為（精品. b ）a、外標(biāo)法 b、內(nèi)標(biāo)法 c、直接比較法 d、k值法九、1、 透射電子顯微鏡中可以消除的像差是（ b ）。a球差 ；b. 像散 ；c. 色差。2、由于電磁透鏡中心區(qū)域和邊緣區(qū)域?qū)﹄娮诱凵淠芰Σ煌斐傻南癫罘Q為（ a ）a、球差 b、像散 c、色差 d、背散3、由于透鏡磁場(chǎng)非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱而引起的像差

9、稱為（ b ）a、球差 b、像散 c、色差 d、背散4、由于入射電子波長(zhǎng)的非單一性造成的像差稱為（ c ）a、球差 b、像散 c、色差 d、背散5、制造出世界上第一臺(tái)透射電子顯微鏡的是（ b ）a、德布羅意 b、魯斯卡 c、德拜 d、布拉格十、1、透射電鏡中電子槍的作用是（ a ） a、電子源 b、會(huì)聚電子束 c、形成第一副高分辨率電子顯微圖像 d、進(jìn)一步放大物鏡像2、透射電鏡中聚光鏡的作用是（ b ） a、電子源 b、會(huì)聚電子束 c、形成第一副高分辨率電子顯微圖像 d、進(jìn)一步放大物鏡像3、透射電鏡中物鏡的作用是（ c ） a、電子源 b、會(huì)聚電子束 c、形成第一副高分辨率電子顯微圖像 d、進(jìn)

10、一步放大物鏡像4、透射電鏡中電中間鏡的作用是（ d ） a、電子源 b、會(huì)聚電子束 c、形成第一副高分辨率電子顯微圖像 d、進(jìn)一步放大物鏡像5、能提高透射電鏡成像襯度的光闌是（b ） a、第二聚光鏡光闌 b、物鏡光闌 c、選區(qū)光闌 d、索拉光闌6、物鏡光闌安放在（ c ）a、物鏡的物平面 b、物鏡的像平面 c、物鏡的背焦面 d、物鏡的前焦面7、選區(qū)光闌在tem鏡筒中的位置是（ b ） a、物鏡的物平面 b、物鏡的像平面 c、物鏡的背焦面 d、物鏡的前焦面8、電子衍射成像時(shí)是將（ a ） a、中間鏡的物平面與與物鏡的背焦面重合 b、中間鏡的物平面與與物鏡的像平面重合 c、關(guān)閉中間鏡 d、關(guān)閉物鏡

11、9、透射電鏡成形貌像時(shí)是將（ b ） a、中間鏡的物平面與與物鏡的背焦面重合 b、中間鏡的物平面與與物鏡的像平面重合 c、關(guān)閉中間鏡 d、關(guān)閉物鏡10、為了減小物鏡的球差，往往在物鏡的背焦面上安放一個(gè)（ b ） a、第二聚光鏡光闌 b、物鏡光闌 c、選區(qū)光闌 d、索拉光闌11、若h-800電鏡的最高分辨率是0.5nm，那么這臺(tái)電鏡的有效放大倍數(shù)是（ c ）。a. 1000；b. 10000；c. 40000；d.600000。十二、1、單晶體電子衍射花樣是（ a ）。精品.a. 規(guī)則的平行四邊形斑點(diǎn)；b. 同心圓環(huán)；c. 暈環(huán)；d.不規(guī)則斑點(diǎn)。2、 薄片狀晶體的倒易點(diǎn)形狀是（ c ）。a. 尺

12、寸很小的倒易點(diǎn)；b. 尺寸很大的球；c. 有一定長(zhǎng)度的倒易桿；d. 倒易圓盤。3、 當(dāng)偏離矢量s0時(shí)，倒易點(diǎn)是在厄瓦爾德球的（ a ）。a. 球面外；b. 球面上；c. 球面內(nèi)；d. b+c。4、 能幫助消除180不唯一性的復(fù)雜衍射花樣是（ a ）。a. 高階勞厄斑；b. 超結(jié)構(gòu)斑點(diǎn)；c. 二次衍射斑；d. 孿晶斑點(diǎn)。5、 菊池線可以幫助（ d ）。a. 估計(jì)樣品的厚度；b. 確定180不唯一性；c. 鑒別有序固溶體；d. 精確測(cè)定晶體取向。6、 如果單晶體衍射花樣是正六邊形，那么晶體結(jié)構(gòu)是（ d ）。a. 六方結(jié)構(gòu)；b. 立方結(jié)構(gòu)；c. 四方結(jié)構(gòu)；d. a或b。7、有一倒易矢量為，與它對(duì)應(yīng)的

13、正空間晶面是（ c ）。a. （210）；b. （220）；c. （221）；d. （110）；。十三、1、將某一衍射斑點(diǎn)移到熒光屏中心并用物鏡光欄套住該衍射斑點(diǎn)成像，這是（ c ）。a. 明場(chǎng)像；b. 暗場(chǎng)像；c. 中心暗場(chǎng)像；d.弱束暗場(chǎng)像。2、 當(dāng)t=5s/2時(shí)，衍射強(qiáng)度為（ d ）。a.ig=0；b. ig0；d. ig=imax。3、 已知一位錯(cuò)線在選擇操作反射g1=（110）和g2=（111）時(shí)，位錯(cuò)不可見，那么它的布氏矢量是（ b ）。a. b=（0 -1 0）；b. b=（1 -1 0）；c. b=（0 -1 1）；d. b=（0 1 0）。4、 當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)

14、，此時(shí)的成像襯度是（ c ）。a. 質(zhì)厚襯度；b. 衍襯襯度；c. 應(yīng)變場(chǎng)襯度；d. 相位襯度。5、當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)，此時(shí)所看到的粒子大?。?b ）。a. 小于真實(shí)粒子大??；b. 是應(yīng)變場(chǎng)大??；c. 與真實(shí)粒子一樣大小；d. 遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于真實(shí)粒子。6、中心暗場(chǎng)像的成像操作方法是（ c ）。a以物鏡光欄套住透射斑；b以物鏡光欄套住衍射斑；c將衍射斑移至中心并以物鏡光欄套住透射斑。十四、1、僅僅反映固體樣品表面形貌信息的物理信號(hào)是（ b ）。a. 背散射電子；b. 二次電子；c. 吸收電子；d.透射電子。2、在掃描電子顯微鏡中，下列二次電子像襯度最亮的區(qū)域是（ b ）。a.和電子束垂直的

15、表面；b. 和電子束成30的表面；c. 和電子束成45的表面；d. 和電子束成60的表面。3、可以探測(cè)表面1nm層厚的樣品成分信息的物理信號(hào)是（ d ）。a. 背散射電子；b. 吸收電子；c. 特征x射線；d. 俄歇電子。十五、1、掃描電子顯微鏡配備的成分分析附件中最常見的儀器是（ b ）。a. 波譜儀；b. 能譜儀；c. 俄歇電子譜儀；d. 特征電子能量損失譜。2、波譜儀與能譜儀相比，能譜儀最大的優(yōu)點(diǎn)是（ a ）。a. 快速高效；b. 精度高；c. 沒有機(jī)械傳動(dòng)部件；d. 價(jià)格便宜。3、要分析基體中碳含量，一般應(yīng)選用（a）電子探針儀，a. 波譜儀型 b、能譜儀型精品.填空：一、1. 當(dāng)x射線

16、管電壓超過臨界電壓就可以產(chǎn)生 連續(xù) x射線和 標(biāo)識(shí) x射線。2. 當(dāng)x射線管電壓低于臨界電壓僅產(chǎn)生連續(xù)x射線；當(dāng)x射線管電壓超過臨界電壓就可以產(chǎn)生連續(xù)x射線和特征x射線。 3. 特征x射線的產(chǎn)生過程中，若k層產(chǎn)生空位，由l層和m層電子向k層躍遷產(chǎn)生的k系特征輻射按順序稱k射線和k射線。 4. x射線的本質(zhì)既具有 波動(dòng)性 也具有 粒子性 ，具有 波粒二象 性。 5. 短波長(zhǎng)的x射線稱 硬x射線 ，常用于 金屬部件的無損探傷 ；長(zhǎng)波長(zhǎng)的x射線稱 軟x射線 ，常用于 醫(yī)學(xué)透視上 。 6.連續(xù)譜短波限只與管電壓有關(guān)。7.特征x射線譜的頻率或波長(zhǎng)只取決于陽極靶物質(zhì)的原子能級(jí)結(jié)構(gòu)。二、1.本質(zhì)上說，x射線

17、的衍射是由大量原子參與的一種散射現(xiàn)象。2.布拉格方程在實(shí)驗(yàn)上的兩種用途是結(jié)構(gòu)分析和x射線光譜學(xué)。3.粉末法中晶體為多晶體，不變化，變化。4.平面底片照相法可以分為透射和背射兩種方法。5.平面底片照相方法適用于研究晶粒大小、擇優(yōu)取向以及點(diǎn)陣常數(shù)精確測(cè)定方面。三、1、原子序數(shù)z越小，非相干散射越強(qiáng)。2、結(jié)構(gòu)因子與晶胞的形狀和大小無關(guān)。3、熱振動(dòng)給x射線的 衍射帶來許多影響有：溫度升高引起晶胞膨脹、衍射線強(qiáng)度減小、產(chǎn)生向各個(gè)方向散射的非相干散射。4、衍射強(qiáng)度公式不適用于存在織構(gòu) 組織。5、結(jié)構(gòu)因子=0時(shí)，沒有衍射我們稱 系統(tǒng)消光 或 結(jié)構(gòu)消光 。對(duì)于有序固溶體，原本消光的地方會(huì)出現(xiàn) 弱衍射 。6、影

18、響衍射強(qiáng)度的因素除結(jié)構(gòu)因子外還有 角因子， 多重性因子 ， 吸收因子 ， 溫度因子 。四、1. 在一定的情況下， 90度 ，sin 0 ；所以精確測(cè)定點(diǎn)陣常數(shù)應(yīng)選擇 高角度衍射線 。2. 德拜照相法中的底片安裝方法有: 正裝法 , 反裝法 和 偏裝法 三種。3. 在粉末多晶衍射的照相法中包括 德拜-謝樂法 、 聚焦照相法 和 針孔法 。4. 德拜相機(jī)有兩種，直徑分別是 57.3mm 和 114.6mm。測(cè)量角時(shí)，底片上每毫米對(duì)應(yīng) 2和 1。5. 衍射儀的核心是測(cè)角儀圓，它由 輻射源 、 試樣臺(tái) 和 探測(cè)器 共同組成。6. 可以用作x射線探測(cè)器的有 正比計(jì)數(shù)器 、 蓋革計(jì)數(shù)器 和 閃爍計(jì)數(shù)器 等

19、。7. 影響衍射儀實(shí)驗(yàn)結(jié)果的參數(shù)有 狹縫光闌、時(shí)間常數(shù) 和 掃面速度 等。五、1、x射線物相分析包括 定性分析 和 定量分析 ，而 定性分析 更常用更廣泛。2、x射線物相定量分析方法有 外標(biāo)法 、 內(nèi)標(biāo)法 、 直接比較法 等。3、定量分析的基本任務(wù)是確定混合物中各相的相對(duì)含量。4、內(nèi)標(biāo)法僅限于粉末試樣。精品.九、1、電磁透鏡的像差包括 球差 、 像散 和 色差 。2、透射電子顯微鏡的分辨率主要受 衍射效應(yīng) 和 球面像差 兩因素影響。3、透射電子顯微鏡中用磁場(chǎng)來使電子聚焦成像的裝置是電磁透鏡。4、像差分為兩類，即幾何像差和色差。十、1、tem中的透鏡有兩種，分別是靜電透鏡和電磁透鏡。2、tem中

20、的三個(gè)可動(dòng)光欄分別是聚光鏡光欄位于第二聚光鏡焦點(diǎn)上，物鏡光欄位于物鏡的背焦面上，選區(qū)光欄位于物鏡的像平面上。3、tem成像系統(tǒng)由物鏡、中間鏡和投影鏡組成。4、透射電鏡主要由 電子光學(xué)系統(tǒng) , 電源與控制系統(tǒng) 和 真空系統(tǒng) 三部分組成。5、透射電鏡的電子光學(xué)系統(tǒng)分為三部分，即照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和觀察記錄系統(tǒng) 。十一、1、限制復(fù)型樣品的分辨率的主要因素是復(fù)型材料的粒子尺寸大小 。2、今天復(fù)型技術(shù)主要應(yīng)用于 萃取復(fù)型 來揭取第二相微小顆粒進(jìn)行分析。3、質(zhì)厚襯度是建立在 非晶體樣品 中原子對(duì)入射電子的散射和透射電子顯微鏡 小孔徑角成像 基礎(chǔ)上的成像原理，是解釋非晶態(tài)樣品電子顯微圖像襯度的理論依據(jù)。4、

21、粉末樣品制備方法有膠粉混合法 和 支持膜分散粉末法 。5、透射電鏡的復(fù)型技術(shù)主要有 一級(jí)復(fù)型 、 二級(jí)復(fù)型 和 萃取復(fù)型三種方法。十二、1、電子衍射和x射線衍射的不同之處在于入射波長(zhǎng)不同、試樣尺寸形狀不同，以及樣品對(duì)電子和x射線的散射能力不同。2、電子衍射產(chǎn)生的復(fù)雜衍射花樣是高階勞厄斑、超結(jié)構(gòu)斑點(diǎn)、二次衍射、孿晶斑點(diǎn)和菊池花樣。3、偏離矢量s的最大值對(duì)應(yīng)倒易桿的長(zhǎng)度，它反映的是角偏離布拉格方程的程度。4、單晶體衍射花樣標(biāo)定中最重要的一步是確定晶體結(jié)構(gòu)。5、二次衍射可以使密排六方、金剛石結(jié)構(gòu)的花樣中在本該消光的位置產(chǎn)生衍射花樣，但體心立方和面心立方結(jié)構(gòu)的花樣中不會(huì)產(chǎn)生多余衍射。6、倒易矢量的方向

22、是對(duì)應(yīng)正空間晶面的 法線 ；倒易矢量的長(zhǎng)度等于對(duì)應(yīng) 晶面間距的倒數(shù) 。7、只要倒易陣點(diǎn)落在厄瓦爾德球面上，就表示該 晶面 滿足 布拉格 條件，能產(chǎn)生 衍射 。十三、1、運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的兩個(gè)基本假設(shè)是 雙光束近似 和 柱體近似 。2、對(duì)于理想晶體，當(dāng) 樣品厚度 或 偏離矢量 連續(xù)改變時(shí)襯度像中會(huì)出現(xiàn) 等厚消光條紋 或 等傾消光條紋 。3、對(duì)于缺陷晶體，缺陷襯度是由缺陷引起的 位移矢量 導(dǎo)致衍射波振幅增加了一個(gè) 附加位相角 ，但是若 附加的位相角 =2的整數(shù)倍時(shí)，缺陷也不產(chǎn)生襯度。4、一般情況下，孿晶與層錯(cuò)的襯度像都是平行 直線 ，但孿晶的平行線 間距不等 ，而層錯(cuò)的平行線是 等間距 的。5、實(shí)際的位

23、錯(cuò)線在位錯(cuò)線像的 一側(cè) ，其寬度也大大小于位錯(cuò)線像的寬度，這是因?yàn)槲诲e(cuò)線像的寬度是 應(yīng)變場(chǎng) 寬度。十四、1、電子束與固體樣品相互作用可以產(chǎn)生精品. 背散射電子 、 二次電子、 透射電子 、 特征x射線 、 俄歇電子 、 吸收電子 等物理信號(hào)。2、掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)是陰極射線電子束在熒光屏上的掃描寬度與電子槍電子束在樣品表面的掃描寬度的比值。在襯度像上顆粒、凸起的棱角是 亮 襯度，而裂紋、凹坑則是 暗 襯度。3、分辨率最高的物理信號(hào)是 俄歇電子或二次電子 為 5 nm，分辨率最低的物理信號(hào)是 特征x射線 為 100 nm以上。4、掃描電鏡的分辨率是指 二次電子 信號(hào)成像時(shí)的分辨率5、掃描電

24、子顯微鏡可以替代 金相顯微鏡 進(jìn)行材料 金相觀察，也可以對(duì) 斷口 進(jìn)行分析觀察。6、掃描電子顯微鏡常用的信號(hào)是 二次電子 和 背散射電子 。7、掃描電子顯微鏡是電子光學(xué)系統(tǒng)，信號(hào)收集處理、圖像顯示和記錄系統(tǒng)，真空系統(tǒng)三個(gè)基本部分組成。8、 電子光學(xué)系統(tǒng)包括電子槍、電磁透鏡、掃描線圈和樣品室。十五、1、電子探針的功能主要是進(jìn)行微區(qū)成分分析。2、電子探針的信號(hào)檢測(cè)系統(tǒng)是x射線譜儀，用來測(cè)定特征波長(zhǎng)的譜儀叫做波譜儀。用來測(cè)定x射線特征能量的譜儀叫做能量分散譜儀。3、電子探針儀的分析方法有定性分析和定量分析。其中定性分析包括定點(diǎn)分析、線分析、面分析。4、電子探針包括 能譜儀 和 波譜儀 兩種儀器。判斷

25、題：一、1. 激發(fā)限與吸收限是一回事，只是從不同角度看問題。（ ）2. 經(jīng)濾波后的x射線是相對(duì)的單色光。（ ）3. 產(chǎn)生特征x射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外，原子處于激發(fā)狀態(tài)。（ ）4. 選擇濾波片只要根據(jù)吸收曲線選擇材料，而不需要考慮厚度。（ ）二、1.x射線衍射與光的反射一樣，只要滿足入射角等于反射角就行。（ ）2.干涉晶面與實(shí)際晶面的區(qū)別在于：干涉晶面是虛擬的，指數(shù)間存在公約數(shù)n。（）3.布拉格方程只涉及x射線衍射方向，不能反映衍射強(qiáng)度。（ ）三、1、衍射方向在x射線波長(zhǎng)一定的情況下取決與晶面間距（ ）2、在一個(gè)晶面族中，等同晶面越多，參加衍射的概率就越大（ ）3、x射線衍射線的峰寬

26、可以反映出許多晶體信息，峰越寬說明晶粒越大（ ）4、原子的熱振動(dòng)可使x射線衍射強(qiáng)度增大（ ）5、溫度一定時(shí)，衍射角越大，溫度因子越小，衍射強(qiáng)度隨之減?。?）6、布拉格方程只涉及x射線衍射方向，不能反映衍射強(qiáng)度（ ）7、衍射角一定時(shí)，溫度越高，溫度因子越小，衍射強(qiáng)度隨之減?。?）8、原子的熱振動(dòng)會(huì)產(chǎn)生各個(gè)方向散射的相干散射（ ）四、1、大直徑德拜相機(jī)可以提高衍射線接受分辨率，縮短嚗光時(shí)間。（ ）2、在衍射儀法中，衍射幾何包括二個(gè)圓。一個(gè)是測(cè)角儀圓，另一個(gè)是輻射源、探測(cè)器與試樣三者還必須位于同一聚焦圓。（ ）精品.3、德拜法比衍射儀法測(cè)量衍射強(qiáng)度更精確。（ ）4、 衍射儀法和德拜法一樣，對(duì)試樣粉末

27、的要求是粒度均勻、大小適中，沒有應(yīng)力。（ ）5、 要精確測(cè)量點(diǎn)陣常數(shù)。必須首先盡量減少系統(tǒng)誤差，其次選高角度角，最后還要用直線外推法或柯亨法進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。（ ）6、粉末照相法所用的粉末試樣顆粒越細(xì)越好（ ）7、德拜相機(jī)的底片安裝方式中，正裝法多用于點(diǎn)陣常數(shù)的確定（ ）8、根據(jù)不消光晶面的n值比值可以確定晶體結(jié)構(gòu)（ ）9、為了提高德拜相機(jī)的分辨率，在條件允許的情況下，應(yīng)盡量采用波長(zhǎng)較長(zhǎng)的x-ray源（ ）10、在分析大晶胞的試樣時(shí)，應(yīng)盡可能選用波長(zhǎng)較長(zhǎng)的x-ray源，以便抵償由于晶胞過大對(duì)分辨率的不良影響（ ）11、選擇小的接受光闌狹縫寬度，可以提高接受分辨率，但會(huì)降低接受強(qiáng)度（ ）五、1、x射

28、線衍射之所以可以進(jìn)行物相定性分析，是因?yàn)闆]有兩種物相的衍射花樣是完全相同的。（ ）2、理論上x射線物相定性分析可以告訴我們被測(cè)材料中有哪些物相，而定量分析可以告訴我們這些物相的含量有多少。（ ）3、各相的衍射線條的強(qiáng)度隨著該相在混合物中的相對(duì)含量的增加而增強(qiáng)（ ）4、內(nèi)標(biāo)法僅限于粉末試樣（ ）5、哈氏索引和芬克索引均屬于數(shù)值索引（ ）6、pdf索引中晶面間距數(shù)值下腳標(biāo)的x表示該線條的衍射強(qiáng)度待定（ ）7、pdf卡片的右上角標(biāo)有說明數(shù)據(jù)可靠性高（ ）8、多相物質(zhì)的衍射花樣相互獨(dú)立，互不干擾（ ）9、物相定性分析時(shí)的試樣制備，必須將擇優(yōu)取向減至最?。?）九、1、tem的分辨率既受衍射效應(yīng)影響，也受

29、透鏡的像差影響。（ ）2、孔徑半角是影響分辨率的重要因素，tem中的角越小越好。（ ）3、tem中主要是電磁透鏡，由于電磁透鏡不存在凹透鏡，所以不能象光學(xué)顯微鏡那樣通過凹凸鏡的組合設(shè)計(jì)來減小或消除像差，故tem中的像差都是不可消除的。（ ）4、tem的景深和焦長(zhǎng)隨分辨率r0的數(shù)值減小而減?。浑S孔徑半角的減小而增加；隨放大倍數(shù)的提高而減小。（ ）5、電磁透鏡的景深和焦長(zhǎng)隨分辨率r0的數(shù)值減小而減??；隨孔徑半角的減小而增加（ ）6、光學(xué)顯微鏡的分辨率取決與照明光源的波長(zhǎng)，波長(zhǎng)越短，分辨率越高（ ）7、 波長(zhǎng)越短，顯微鏡的分辨率越高，因此可以采用波長(zhǎng)較短的射線作為照明光源。（ ）8、用小孔徑角成像時(shí)

30、可使球差明顯減小。（ ）9、限制電磁透鏡分辨率的最主要因素是色差。（ ）10、電磁透鏡的景深越大，對(duì)聚焦操作越有利。（ ）十、1、有效放大倍數(shù)與儀器可以達(dá)到的放大倍數(shù)不同，前者取決于儀器分辨率和人眼分辨率，后者僅僅是儀器的制造水平。（ ）2、物鏡的分辨率主要決定于極靴的形狀和加工精度（ ）3、物鏡光闌可以減小像差但不能提高圖像的襯度（ ）精品.4、物鏡光闌孔越小，被擋去的電子越多，圖像的襯度越大（ ）5、物鏡光闌能使物鏡孔徑角減小，能減小像差，得到質(zhì)量較高的圖像（ ）6、物鏡光闌是沒有磁性的（ ）7、利用電子顯微鏡進(jìn)行圖像分析時(shí)，物鏡和樣品之間的距離是固定不變的（ ）十二 、1、多晶衍射環(huán)和粉

31、末德拜衍射花樣一樣，隨著環(huán)直徑增大，衍射晶面指數(shù)也由低到高。（）2、單晶衍射花樣中的所有斑點(diǎn)同屬于一個(gè)晶帶。（）3、偏離矢量s=0時(shí)，衍射斑點(diǎn)最亮。這是因?yàn)閟=0時(shí)是精確滿足布拉格方程，所以衍射強(qiáng)度最大。（ ）4、對(duì)于未知晶體結(jié)構(gòu)，僅憑一張衍射花樣是不能確定其晶體結(jié)構(gòu)的。還要從不同位向拍攝多幅衍射花樣，并根據(jù)材料成分、加工歷史等或結(jié)合其它方法綜合判斷晶體結(jié)構(gòu)。（）5、電子衍射和x射線衍射一樣必須嚴(yán)格符合布拉格方程。（）6、倒易矢量能唯一地代表對(duì)應(yīng)的正空間晶面。（ ）十三、1、實(shí)際電鏡樣品的厚度很小時(shí),能近似滿足衍襯運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的條件,這時(shí)運(yùn)動(dòng)學(xué)理論能很好地解釋襯度像。（ ）2、厚樣品中存在消光距

32、離g，薄樣品中則不存在消光距離g。（ ）3、明場(chǎng)像是質(zhì)厚襯度，暗場(chǎng)像是衍襯襯度。（ ）4、晶體中只要有缺陷，用透射電鏡就可以觀察到這個(gè)缺陷。（ ）5、等厚消光條紋和等傾消光條紋通常是形貌觀察中的干擾，應(yīng)該通過更好的制樣來避免它們的出現(xiàn)。（ ）十四、1、掃描電子顯微鏡中的物鏡與透射電子顯微鏡的物鏡一樣。（ ）2、掃描電子顯微鏡的分辨率主要取決于物理信號(hào)而不是衍射效應(yīng)和球差。（ ）3、掃描電子顯微鏡的襯度和透射電鏡一樣取決于質(zhì)厚襯度和衍射襯度。（ ）4、掃描電子顯微鏡具有大的景深，所以它可以用來進(jìn)行斷口形貌的分析觀察。（ ）十五、射線進(jìn)行成分分析的。（ ）1、波譜儀是逐一接收元素的特征波長(zhǎng)進(jìn)行成分

33、分析；能譜儀是同時(shí)接收所有元素的特征x名詞解釋：0、系統(tǒng)消光：因原子在晶體中位置不同或原子種類不同而引起的某些方向上衍射線消失的現(xiàn)象。1、結(jié)構(gòu)因子：定量表征原子排布以及原子種類對(duì)衍射強(qiáng)度影響規(guī)律的參數(shù)。2.hanawalt索引：數(shù)字索引的一種，每種物質(zhì)的所有衍射峰之中，必然有三個(gè)峰的強(qiáng)度最大(而非面網(wǎng)間距最大)。 把這三個(gè)強(qiáng)度最大的峰，按一定的規(guī)律排序，就構(gòu)成了hanawalt排序和索引方法。排序時(shí)，考慮到影響強(qiáng)度的因素比較復(fù)雜，為了減少因強(qiáng)度測(cè)量的差異而帶來的查找困難，索引中將每種物質(zhì)列出三次。數(shù)據(jù)檢索時(shí)，按實(shí)際衍射圖譜中的3強(qiáng)峰進(jìn)行數(shù)據(jù)檢索，即可找到對(duì)應(yīng)的衍射卡片。3.直接比較法：將試樣中

34、待測(cè)相某跟衍射線的強(qiáng)度與另一相的某根衍射線強(qiáng)度相比較的定量金相分析方法。4.球差：即球面像差，是由于電磁透鏡的中心區(qū)域和邊緣區(qū)域?qū)﹄娮拥恼凵淠芰Σ煌斐傻?。軸上物點(diǎn)發(fā)出的光束，經(jīng)電子光學(xué)系統(tǒng)以后，與光軸成不同角度的光線交光軸于不同位置，因此，在像面上形成一個(gè)圓形彌散斑，這就是球差。精品.像散：由透鏡磁場(chǎng)的非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱引起的像差。色差：由于電子的波長(zhǎng)或能量非單一性所引起的像差，它與多色光相似，所以叫做色差。5.景深：透鏡物平面允許的軸向偏差。 焦長(zhǎng)：透鏡像平面允許的軸向偏差。 在成一幅清晰像的前提下，像平面不變，景物沿光軸前后移動(dòng)的距離稱“景深”；景物不動(dòng)，像平面沿光軸前后移動(dòng)的距離稱“焦長(zhǎng)”。6

35、.ariy斑：物體上的物點(diǎn)通過透鏡成像時(shí)，由于衍射效應(yīng)，在像平面上得到的并不是一個(gè)點(diǎn)，而是一個(gè)中心最亮、周圍帶有明暗相間同心圓環(huán)的圓斑，即所謂airy斑。7.孔徑半角：孔徑半角是物鏡孔徑角的一半，而物鏡孔徑角是物鏡光軸上的物體點(diǎn)與物鏡前透鏡的有效直徑所形成的角度。因此，孔徑半角是物鏡光軸上的物體點(diǎn)與物鏡前透鏡的有效直徑所形成的角度的一半。8.點(diǎn)分辨率與晶格分辨率：點(diǎn)分辨率是電鏡能夠分辨的兩個(gè)物點(diǎn)間的最小間距；晶格分辨率是能夠分辨的具有最小面間距的晶格像的晶面間距。9.選區(qū)衍射：為了分析樣品上的一個(gè)微小區(qū)域，在樣品上放一個(gè)選區(qū)光闌，使電子束只能通過光闌孔限定的微區(qū)，對(duì)這個(gè)微區(qū)進(jìn)行衍射分析。10.

36、有效放大倍數(shù)：把顯微鏡最大分辨率放大到人眼的分辨本領(lǐng)（0.2mm），讓人眼能分辨的放大倍數(shù)，即眼睛分辨率/顯微鏡分辨率。11.質(zhì)厚襯度：由于試樣的質(zhì)量和厚度不同，各部分對(duì)入射電子發(fā)生相互作用，產(chǎn)生的吸收與散射程度不同，而使得透射電子束的強(qiáng)度分布不同，形成反差，稱為質(zhì)-厚襯度。12.偏離矢量s：倒易桿中心至與愛瓦爾德球面交截點(diǎn)的距離可用矢量s表示，s就是偏離矢量。13.晶帶定律：凡是屬于uvw晶帶的晶面，它的晶面指數(shù)(hkl)都必須符合hu+kv+lw=0，通常把這種關(guān)系式稱為晶帶定律。14.相機(jī)常數(shù)：定義 k=l，稱相機(jī)常數(shù)，其中l(wèi)為鏡筒長(zhǎng)度，為電子波長(zhǎng)。15.明場(chǎng)像：讓透射束通過物鏡光闌而把

37、衍射束擋掉得到圖像襯度的方法，叫明場(chǎng)成像，所得到的像叫明場(chǎng)像。16.暗場(chǎng)像：用物鏡光闌擋住透射束及其余衍射束，而只讓一束強(qiáng)衍射束通過光闌參與成像的方法，稱為暗場(chǎng)成像，所得圖象為暗場(chǎng)像。17.中心暗場(chǎng)像：用物鏡光闌擋住透射束及其余衍射束，而只讓一束強(qiáng)衍射束通過光闌參與成像的方法，稱為暗場(chǎng)成像，所得圖象為暗場(chǎng)像。如果物鏡光闌處于光軸位置，所得圖象為中心暗場(chǎng)像。18.消光距離g：晶體內(nèi)透射波與衍射波動(dòng)力學(xué)相互作用，使其強(qiáng)度在晶體深度方向上發(fā)生周期性振蕩，振蕩的深度周期叫消光距離。精品.19.衍射襯度：入射電子束和薄晶體樣品之間相互作用后，樣品內(nèi)不同部位組織的成像電子束在像平面上存在強(qiáng)度差別的反映。衍

38、射襯度主要是由于晶體試樣滿足布拉格反射條件程度差異以及結(jié)構(gòu)振幅不同而形成電子圖象反差。20.背散射電子：入射電子被樣品原子散射回來的部分；它包括彈性散射和非彈性散射部分；背散射電子的作用深度大，產(chǎn)額大小取決于樣品原子種類和樣品形狀。21.吸收電子：入射電子進(jìn)入樣品后，經(jīng)多次非彈性散射，能量損失殆盡（假定樣品有足夠厚度，沒有透射電子產(chǎn)生），最后被樣品吸收。吸收電流像可以反映原子序數(shù)襯度，同樣也可以用來進(jìn)行定性的微區(qū)成分分析。22.特征x射線：原子的內(nèi)層電子受到激發(fā)以后，在能級(jí)躍遷過程中直接釋放的具有特征能量和波長(zhǎng)的一種電磁波輻射。利用特征x射線可以進(jìn)行成分分析。23.二次電子：二次電子是指被入射

39、電子轟擊出來的核外電子。二次電子來自表面50-100 的區(qū)域，能量為0-50 ev。它對(duì)試樣表面狀態(tài)非常敏感，能有效地顯示試樣表面的微觀形貌。24.俄歇電子：如果原子內(nèi)層電子能級(jí)躍遷過程中釋放出來的能量不以x射線的形式釋放，而是用該能量將核外另一電子打出，脫離原子變?yōu)槎坞娮?，這種二次電子叫做俄歇電子。俄歇電子信號(hào)適用于表層化學(xué)成分分析。25.波譜儀：電子探針的信號(hào)檢測(cè)系統(tǒng)是x射線譜儀，用來測(cè)定x射線特征波長(zhǎng)的譜儀叫做波長(zhǎng)分散譜儀。26.能譜儀：電子探針的信號(hào)檢測(cè)系統(tǒng)是x射線譜儀，用來測(cè)定x射線特征能量的譜儀叫做能量分散譜儀。問答題：1.什么叫“相干散射”、“短波限”、吸收限？答：相干散射，物

40、質(zhì)中的電子在x射線電場(chǎng)的作用下，產(chǎn)生強(qiáng)迫振動(dòng)。這樣每個(gè)電子在各方向產(chǎn)生與入射x射線同頻率的電磁波。新的散射波之間發(fā)生的干涉現(xiàn)象稱為相干散射。短波限，連續(xù)x射線譜在短波方向有一個(gè)波長(zhǎng)極限，稱為短波限0.它是由光子一次碰撞就耗盡能量所產(chǎn)生的x射線。精品.吸收限：主要由于光電效應(yīng)引起的吸收突然增加所對(duì)應(yīng)的x射線的波長(zhǎng)。2.分析下列熒光輻射產(chǎn)生的可能性，為什么？（1）用cuk x射線激發(fā)cuk熒光輻射；（2）用cuk x射線激發(fā)cuk熒光輻射；（3）用cuk x射線激發(fā)cul熒光輻射。解：假設(shè)ek為k殼層的能量，el為l殼層的能量，em為m殼層的能量，cukx射線的能量為ek-el，cukx射線的能量

41、為ek-em，cuk熒光輻射的能量為ek-el，cul熒光輻射的能量為el-em，（1）不可能，用cukx射線激發(fā)cuk熒光輻射，需要ek的能量；（2）不可能，用cukx射線激發(fā)cuk熒光輻射，需要ek的能量；（3）有可能，用cukx射線激發(fā)cul熒光輻射，需要el的能量，具體能不能還要比較ek-el和el的大小。3.特征x射線譜的產(chǎn)生機(jī)理。答：高速運(yùn)動(dòng)的粒子（電子或光子）將靶材原子核外電子擊出去，或擊到原子系統(tǒng)外，或填到未滿的高能級(jí)上，原子的系統(tǒng)能量升高，處于激發(fā)態(tài)。為趨于穩(wěn)定，原子系統(tǒng)自發(fā)向低能態(tài)轉(zhuǎn)化：較高能級(jí)上的電子向低能級(jí)上的空位躍遷，這一降低的能量以一個(gè)光子的形式輻射出來變成光子能量

42、，且這降低能量為固定值（因原子序數(shù)固定），因而固定，所以輻射出特征x射線譜。4.布拉格方程 2dsin=中的d、分別表示什么？布拉格方程式有何用途？答：dhkl表示hkl晶面的面網(wǎng)間距，角表示掠過角或布拉格角，即入射x射線或衍射線與面網(wǎng)間的夾角，表示入射x射線的波長(zhǎng)。該公式有二個(gè)方面用途：（1）已知晶體的d值。通過測(cè)量，求特征x射線的精品.，并通過判斷產(chǎn)生特征x射線的元素。這主要應(yīng)用于x射線熒光光譜儀和電子探針中。（2）已知入射x射線的波長(zhǎng)， 通過測(cè)量，求晶面間距。并通過晶面間距，測(cè)定晶體結(jié)構(gòu)或進(jìn)行物相分析。5.給出簡(jiǎn)單立方、面心立方、體心立方、密排六方以及體心四方晶體結(jié)構(gòu)x衍射發(fā)生消光的晶面

43、指數(shù)規(guī)律。答：常見晶體的結(jié)構(gòu)消光規(guī)律簡(jiǎn)單立方 對(duì)指數(shù)沒有限制（不會(huì)產(chǎn)生結(jié)構(gòu)消光）；面心立方 h，k，l 奇偶混合；體心立方 h+k+l=奇數(shù)；密排六方 h+2k=3n, 同時(shí)l=奇數(shù)；體心四方 h+k+l=奇數(shù)。6.決定x射線強(qiáng)度的關(guān)系式是，試說明式中各參數(shù)的物理意義?答：x射線衍射強(qiáng)度的公式，試中各參數(shù)的含義是：i0為入射x射線的強(qiáng)度； 為入射x射線的波長(zhǎng)；r 為試樣到觀測(cè)點(diǎn)之間的距離；v 為被照射晶體的體積； vc 為單位晶胞體積； p 為多重性因子，表示等晶面?zhèn)€數(shù)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響因子；精品. f 為結(jié)構(gòu)因子，反映晶體結(jié)構(gòu)中原子位置、種類和個(gè)數(shù)對(duì)晶面的影響因子；a() 為吸收因子，圓筒狀試

44、樣的吸收因子與布拉格角、試樣的線吸收系數(shù)l和試樣圓柱體的半徑有關(guān)；平板狀試樣吸收因子與有關(guān)，而與角無關(guān)； () 為角因子，反映樣品中參與衍射的晶粒大小，晶粒數(shù)目和衍射線位置對(duì)衍射強(qiáng)度的影響； e-2m 為溫度因子= 有熱振動(dòng)影響時(shí)的衍射強(qiáng)度 無熱振動(dòng)理想情況下的衍射強(qiáng)度7.羅倫茲因數(shù)是表示什么對(duì)衍射強(qiáng)度的影響？其表達(dá)式是綜合了哪幾方面考慮而得出的？答：羅侖茲因數(shù)是三種幾何因子對(duì)衍射強(qiáng)度的影響，第一種幾何因子表示衍射的晶粒大小對(duì)衍射強(qiáng)度的影響，羅侖茲第二種幾何因子表示晶粒數(shù)目對(duì)衍射強(qiáng)度的影響，羅侖茲第三種幾何因子表示衍射線位置對(duì)衍射強(qiáng)度的影響。8.試比較衍射儀法與德拜法的優(yōu)缺點(diǎn)？（1）簡(jiǎn)便快速（

45、2）分辨能力強(qiáng)（3）直接獲得強(qiáng)度數(shù)據(jù)（4）低角度區(qū)的2測(cè)量范圍大（5）樣品用量大（6）設(shè)備較復(fù)雜，成本高。9.試總結(jié)德拜法衍射花樣的背底來源，并提出一些防止和減少背底的措施。答：德拜法衍射花樣的背底來源是入射波的非單色光、進(jìn)入試樣后出生的非相干散射、空氣對(duì)x 射線的散射、溫度波動(dòng)引起的熱散射等。采取的措施有盡量使用單色光、縮短曝光時(shí)間、恒溫試驗(yàn)等。10.粉末樣品顆粒過大或過小對(duì)德拜花樣影響如何？為什么？板狀多晶體樣品晶粒過大或過小對(duì)衍射峰形影響又如何？精品.答. 粉末樣品顆粒過大會(huì)使德拜花樣不連續(xù)，或過小，德拜寬度增大，不利于分析工作的進(jìn)行。因?yàn)楫?dāng)粉末顆粒過大（大于10-3cm）時(shí)，參加衍射的

46、晶粒數(shù)減少，會(huì)使衍射線條不連續(xù)；不過粉末顆粒過細(xì)（小于10-5cm）時(shí)，會(huì)使衍射線條變寬，這些都不利于分析工作。多晶體的塊狀試樣，如果晶粒足夠細(xì)將得到與粉末試樣相似的結(jié)果，即衍射峰寬化。但晶粒粗大時(shí)參與反射的晶面數(shù)量有限，所以發(fā)生反射的概率變小，這樣會(huì)使得某些衍射峰強(qiáng)度變小或不出現(xiàn)。11.實(shí)驗(yàn)中選擇x射線管以及濾波片的原則是什么？已知一個(gè)以fe為主要成 分的樣品，試選擇合適的x射線管和合適的濾波片？答：實(shí)驗(yàn)中選擇x射線管的原則是為避免或減少產(chǎn)生熒光輻射，應(yīng)當(dāng)避免使用比樣品中主元素的原子序數(shù)大26（尤其是2）的材料作靶材的x射線管。選擇濾波片的原則是x射線分析中，在x射線管與樣品之間一個(gè)濾波片，

47、以濾掉k線。濾波片的材料依靶的材料而定，一般采用比靶材的原子序數(shù)小1或2的材料。分析以鐵為主的樣品，應(yīng)該選用co或fe靶的x射線管，它們的分別相應(yīng)選擇fe和mn為濾波片。12.電子波有何特征？與可見光有何異同？答：電子波的波長(zhǎng)較短，軸對(duì)稱非均勻磁場(chǎng)能使電子波聚焦。其波長(zhǎng)取決于電子運(yùn)動(dòng)的速度和質(zhì)量，電子波的波長(zhǎng)要比可見光小5個(gè)數(shù)量級(jí)。兩者都是波，具有波粒二象性，波的大小、產(chǎn)生方式、聚焦方式等不同。13.電磁透鏡的像差是怎樣產(chǎn)生的，如何來消除或減小像差？答：電磁透鏡的像差可以分為兩類：幾何像差和色差。幾何像差是因?yàn)橥渡浯艌?chǎng)幾何形狀上的缺陷造成的，色差是由于電子波的波長(zhǎng)或能量發(fā)生一定幅度的改變而造成

48、的。幾何像差主要指球差和像散。球差是由于電磁透鏡的中心區(qū)域和邊緣區(qū)域?qū)﹄娮拥恼凵淠芰Σ环项A(yù)定的規(guī)律造成的，像散是由透鏡磁場(chǎng)的非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱引起的。精品.消除或減小的方法：球差：減小孔徑半角或縮小焦距均可減小球差，尤其小孔徑半角可使球差明顯減小。像散：引入一個(gè)強(qiáng)度和方向都可以調(diào)節(jié)的矯正磁場(chǎng)即消像散器予以補(bǔ)償。色差：采用穩(wěn)定加速電壓的方法有效地較小色差。14.說明影響光學(xué)顯微鏡和電磁透鏡分辨率的關(guān)鍵因素是什么？如何提高電磁透鏡的分辨率？答：光學(xué)顯微鏡的分辨本領(lǐng)取決于照明光源的波長(zhǎng)。電磁透鏡的分辨率由衍射效應(yīng)和球面像差來決定，球差是限制電磁透鏡分辨本領(lǐng)的主要因素。若只考慮衍射效應(yīng)，在照明光源和介質(zhì)一定

49、的條件下，孔徑角越大，透鏡的分辨本領(lǐng)越高。若同時(shí)考慮衍射和球差對(duì)分辨率的影響，關(guān)鍵在確定電磁透鏡的最佳孔徑半角，使衍射效應(yīng)斑和球差散焦斑的尺寸大小相等。15.電磁透鏡景深和焦長(zhǎng)主要受哪些因素影響？說明電磁透鏡的景深大、焦長(zhǎng)長(zhǎng)，是什么因素影響的結(jié)果？假設(shè)電磁透鏡沒有像差，也沒有衍射airy斑，即分辨率極高，此時(shí)景深和焦長(zhǎng)如何？ 答：電磁透鏡景深與分辨本領(lǐng)、孔徑半角之間關(guān)系：表明孔徑半角越小、景深越大。透鏡集長(zhǎng)與分辨本領(lǐng)，像點(diǎn)所張孔徑半角精品.的關(guān)系：， ，m為透鏡放大倍數(shù)。當(dāng)電磁透鏡放大倍數(shù)和分辨本領(lǐng)一定時(shí)，透鏡焦長(zhǎng)隨孔徑半角減小而增大。電磁透鏡的景深長(zhǎng)、焦長(zhǎng)長(zhǎng)，是由于小孔徑半角影響的結(jié)果。如果

50、電磁透鏡沒有像差，也沒有衍射airy斑，即分辨率極高，此時(shí)沒有景深和焦長(zhǎng)。16、消像散器的作用和原理是什么？答：消像散器的作用就是用來消除像散的。其原理就利用外加的磁場(chǎng)把固有的橢圓形磁場(chǎng)校正成接近旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的磁場(chǎng)。機(jī)械式的消像散器式在電磁透鏡的磁場(chǎng)周圍放置幾塊位置可以調(diào)節(jié)的導(dǎo)磁體來吸引一部分磁場(chǎng)從而校正固有的橢圓形磁場(chǎng)。而電磁式的是通過電磁板間的吸引和排斥來校正橢圓形磁場(chǎng)的。17.分別說明成像操作與衍射操作時(shí)各級(jí)透鏡（像平面與物平面）之間的相對(duì)位置關(guān)系，并畫出光路圖。答：如果把中間鏡的物平面和物鏡的像平面重合，則在熒光屏上得到一幅放大像，這就是電子顯微鏡中的成像操作，如圖（a）所示。如果把中間鏡

51、的物平面和物鏡的后焦面重合，則在熒光屏上得到一幅電子衍射花樣，這就是電子顯微鏡中的電子衍射操作，如圖（b）所示。精品.18.什么是衍射襯度?它與質(zhì)厚襯度有什么區(qū)別?答：由于樣品中不同位相的衍射條件不同而造成的襯度差別叫衍射襯度。它與質(zhì)厚襯度的區(qū)別：質(zhì)厚襯度是建立在原子對(duì)電子散射的理論基礎(chǔ)上的，而衍射襯度則是建立在晶體對(duì)電子衍射基礎(chǔ)之上。質(zhì)厚襯度利用樣品薄膜厚度的差別和平均原子序數(shù)的差別來獲得襯度，而衍射襯度則是利用不同晶粒的晶體學(xué)位相不同來獲得襯度。質(zhì)厚襯度應(yīng)用于非晶體復(fù)型樣品成像中，而衍射襯度則應(yīng)用于晶體薄膜樣品成像中。19.制備復(fù)型的材料應(yīng)具備什么條件？（1）復(fù)型材料本身必須是非晶態(tài)材料。

52、（2）復(fù)型材料的粒子尺寸必須很小。（3）復(fù)型材料應(yīng)具備耐電子轟擊的性能，即在電子束照射下能保持穩(wěn)定，不發(fā)生分解和破壞。20.分析電子衍射與x衍射有何異同？答：相同點(diǎn)：都是以滿足布拉格方程作為產(chǎn)生衍射的必要條件。兩種衍射技術(shù)所得到的衍射花樣在幾何特征上大致相似。精品.不同點(diǎn)：電子波的波長(zhǎng)比x射線短的多，在同樣滿足布拉格條件時(shí)，它的衍射角很小，約為10-2rad。而x射線產(chǎn)生衍射時(shí)，其衍射角最大可接近。在進(jìn)行電子衍射操作時(shí)采用薄晶樣品，增加了倒易陣點(diǎn)和愛瓦爾德球相交截的機(jī)會(huì)，使衍射條件變寬。因?yàn)殡娮硬ǖ牟ㄩL(zhǎng)短，采用愛瓦爾德球圖解時(shí)，反射球的半徑很大，在衍射角較小的范圍內(nèi)反射球的球面可以近似地看成是

53、一個(gè)平面，從而也可以認(rèn)為電子衍射產(chǎn)生的衍射斑點(diǎn)大致分布在一個(gè)二維倒易截面內(nèi)。原子對(duì)電子的散射能力遠(yuǎn)高于它對(duì)x射線的散射能力，故電子衍射束的強(qiáng)度較大，攝取衍射花樣時(shí)曝光時(shí)間僅需數(shù)秒鐘。21、倒易點(diǎn)陣與正點(diǎn)陣之間關(guān)系如何？倒易點(diǎn)陣與晶體的電子衍射斑點(diǎn)之間有何對(duì)應(yīng)關(guān)系？答：倒易點(diǎn)陣是與正點(diǎn)陣相對(duì)應(yīng)的量綱為長(zhǎng)度倒數(shù)的一個(gè)三維空間點(diǎn)陣，通過倒易點(diǎn)陣可以把晶體的電子衍射斑點(diǎn)直接解釋成晶體相對(duì)應(yīng)晶面的衍射結(jié)果，可以認(rèn)為電子衍射斑點(diǎn)就是與晶體相對(duì)應(yīng)的倒易點(diǎn)陣某一截面上陣點(diǎn)排列的像。關(guān)系：倒易矢量ghkl垂直于正點(diǎn)陣中對(duì)應(yīng)的（hkl）晶面，或平行于它的法向nhkl倒易點(diǎn)陣中的一個(gè)點(diǎn)代表正點(diǎn)陣中的一組晶面倒易矢量的長(zhǎng)度等于點(diǎn)陣中的相應(yīng)晶面間距的倒數(shù)，即ghkl=1/dhkl對(duì)正交點(diǎn)陣有a*/a，b*/b，c*/c，a*=1/a，b*=1/b，c*=1/c。只有在立方點(diǎn)陣中，晶面法向和同指數(shù)的晶向是重合的，即倒易矢量ghkl是與相應(yīng)指數(shù)的晶向hkl平行精品.某一倒易基矢量垂直于正交點(diǎn)陣中和自己異名的二基矢所成平面。22、什么是消光距離？影響消光距