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25MW太陽能電池工藝流程清單序號(hào)工序流程所用設(shè)備設(shè)備性能所用設(shè)備數(shù)量總價(jià)(萬元)建議進(jìn)口設(shè)備特點(diǎn)參考價(jià)國(guó)產(chǎn)設(shè)備特點(diǎn)參考價(jià)1制絨制絨臺(tái)自動(dòng)化程度高,但對(duì)硅片外型尺寸要求高,也并不太適用300萬1 全自動(dòng):對(duì)硅片外型尺寸要求高 國(guó)內(nèi)部分廠家采用2 手動(dòng):對(duì)硅片外型尺寸要求不高,價(jià)格便宜,但人為因素對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量有影響130萬60萬1套130國(guó)產(chǎn)自動(dòng)2擴(kuò)散(摻雜)擴(kuò)散爐無需進(jìn)口600萬設(shè)備性能穩(wěn)定,已完全取代進(jìn)口。100萬三臺(tái)300國(guó)產(chǎn)3刻蝕(去周邊雜質(zhì))刻蝕機(jī)無需進(jìn)口80萬設(shè)備性能穩(wěn)定比國(guó)外設(shè)備好,已完全取代進(jìn)口。20萬四臺(tái)80國(guó)產(chǎn)4酸洗(去磷硅玻璃)酸洗臺(tái)自動(dòng)化程度高,但對(duì)硅片外型尺寸要求高,也并不太適用1 全自動(dòng):對(duì)硅片外型尺寸要求高 國(guó)內(nèi)部分廠家采用2手動(dòng):對(duì)硅片外型尺寸要求不高,價(jià)格便宜。60萬15萬一套60國(guó)產(chǎn)自動(dòng)5鍍膜手動(dòng)噴鍍臺(tái)或APCVD或PECVDAPCVD鍍膜, 500萬1400萬APCVD鍍膜國(guó)內(nèi)沒工業(yè)化生產(chǎn)設(shè)備。手動(dòng)噴膜:自動(dòng)化程低,有色差(人為因素干擾),但價(jià)格便宜15萬一臺(tái)500進(jìn)口APCVD或PECVD 6印背場(chǎng)網(wǎng)印機(jī)全自動(dòng):自動(dòng)化程度高,但對(duì)硅片外型尺寸要求高,印刷穩(wěn)定半自動(dòng):人工裝卸片,印刷穩(wěn)定120萬40萬全自動(dòng)國(guó)內(nèi)沒有半自動(dòng):人工裝卸片,能滿足要求18萬二套240進(jìn)口7烘干烘干爐設(shè)備簡(jiǎn)單無需進(jìn)口50萬設(shè)備性能穩(wěn)定比國(guó)外設(shè)備好,已完全取代進(jìn)口。12萬二臺(tái)24國(guó)產(chǎn)8印背電極網(wǎng)印機(jī)全自動(dòng):自動(dòng)化程度高,但對(duì)硅片外型尺寸要求高,印刷穩(wěn)定半自動(dòng):人工裝卸片,印刷穩(wěn)定120萬40萬全自動(dòng)國(guó)內(nèi)沒有半自動(dòng):人工裝卸片,能滿足要求18萬二套240進(jìn)口9烘干烘干爐設(shè)備簡(jiǎn)單無需進(jìn)口50萬設(shè)備性能穩(wěn)定比國(guó)外設(shè)備好,已完全取代進(jìn)口。12萬二臺(tái)24國(guó)產(chǎn)10印柵極網(wǎng)印機(jī)全自動(dòng):自動(dòng)化程度高,但對(duì)硅片外型尺寸要求高,印刷穩(wěn)定半自動(dòng):人工裝卸片,印刷穩(wěn)定120萬40萬全自動(dòng)國(guó)內(nèi)沒有半自動(dòng):人工裝卸片,能滿足要求18萬二套240進(jìn)口11燒結(jié)燒結(jié)爐自動(dòng)化程度高,性能穩(wěn)定200萬 設(shè)備性能接近國(guó)外設(shè)備,已有部分廠家使用,較果也好,價(jià)格便宜。45萬二套90國(guó)產(chǎn)一套,進(jìn)口一套12分檢測(cè)試臺(tái)全自動(dòng):全自動(dòng):自動(dòng)化程度高,性能穩(wěn)定,但對(duì)硅片外型尺寸要求高手動(dòng):性能穩(wěn)定200萬30全自動(dòng):國(guó)內(nèi)沒有手動(dòng):性能不太穩(wěn)定,但價(jià)格便宜。18萬一套350進(jìn)口 (此文檔部分

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