晶體光學(xué)必備知識(shí)點(diǎn).doc

晶體光學(xué)-必備知識(shí)點(diǎn)以上是吉林大學(xué)鴿子樓老師多年課件總結(jié)經(jīng)典內(nèi)容。第一章晶體光學(xué)基礎(chǔ)晶體光學(xué)涉及某些重要的物理光學(xué)原理和結(jié)晶礦物學(xué)基礎(chǔ)知識(shí)，本章要求學(xué)生重點(diǎn)掌握光的偏振現(xiàn)象、折射及折射率、光在晶體中的傳播特性、晶體中的雙折射現(xiàn)象、光率體和光性方位。其中重點(diǎn)是晶體中的雙折射現(xiàn)象和光率體的構(gòu)成；難點(diǎn)是光性方位。一、光的基本性質(zhì)及有關(guān)術(shù)語(yǔ)光具有“波?！眱上嘈?。晶體光學(xué)主要利用的是光的波動(dòng)理論。光波是一種橫波。光的傳播方向與振動(dòng)方向互相垂直。晶體中許多光學(xué)現(xiàn)象與此有關(guān)?？梢?jiàn)光：電磁波譜中波長(zhǎng)范圍390770nm的一個(gè)區(qū)段，由波長(zhǎng)不同的七色光組成。自然光：在垂直光波傳播方向的斷面內(nèi)，光波作任意方向的振動(dòng)，且振幅相等。偏振光：在垂直光波傳播方向的斷面內(nèi)，光波只在某一固定方向上振動(dòng)。自然光轉(zhuǎn)化為偏振光的過(guò)程稱偏振化。折射定律：Sin i（入射角）/ Sin a（折射角）= Vi（入射速度）/ Va（折射速度）= N i-aN i-a為介質(zhì)a對(duì)介質(zhì)i的相對(duì)折射律。當(dāng)介質(zhì)i為真空時(shí)，N i-a稱介質(zhì)的(絕對(duì))折射律，以N表示。N是介質(zhì)微觀特征的宏觀反映，是物質(zhì)的固有屬性之一，因此它是鑒定礦物的重要光學(xué)常數(shù)之一。全反射臨界角和全反射：當(dāng)光波從光密介質(zhì)入射到光疏介質(zhì)時(shí)，入射角i 總是小于折射角a ，當(dāng)a = 90 時(shí)，i = f，此時(shí)入射角 f 稱為全反射臨界角。當(dāng)入射角 i f 時(shí)，折射光波不再進(jìn)入折射介質(zhì)而全部返回到入射介質(zhì)，這種能量的突變稱為全反射。二、光在晶體中的傳播根據(jù)光在物質(zhì)中的傳播特點(diǎn)，可以把自然界的物質(zhì)分為光性均質(zhì)體和光性非均質(zhì)體。光性均質(zhì)體：指光學(xué)性質(zhì)各方向相同的晶體。包括等軸晶系的礦物和非晶質(zhì)物質(zhì)。光波在均質(zhì)體中的傳播特點(diǎn)：光的傳播速度不因光的振動(dòng)方向不同而發(fā)生改變（各向同性），聯(lián)系折射定律可知，均質(zhì)體的折射率只有一個(gè)。光性非均質(zhì)體：光性非均質(zhì)體的光學(xué)性質(zhì)因方向不同而改變（各向異性）。 包括中級(jí)晶族(一軸晶)和低級(jí)晶族(二軸晶)的礦物。光波在非均質(zhì)體中的傳播特點(diǎn)：光的傳播速度因光波在晶體中的振動(dòng)方向不同而發(fā)生改變。因而非均質(zhì)體的折射率也因光波在晶體中的振動(dòng)方向不同而改變。有關(guān)術(shù)語(yǔ)介紹：雙折射、雙折射率、光軸、一軸晶礦物、二軸晶礦物。（1）雙折射：光波射入非均質(zhì)體，除特殊方向外，將分解成振動(dòng)方向互相垂直，傳播速度不同，折射率不等的兩種偏光，這種現(xiàn)象稱為雙折射。（2）雙折射率：兩種偏光的折射率值之差稱為雙折射率。許多晶體光學(xué)現(xiàn)象與此有關(guān)。（3）光軸：光波沿非均質(zhì)體的特殊方向入射時(shí)，不發(fā)生雙折射，這種特殊的方向稱為光軸。中級(jí)晶族具有一個(gè)這樣的特殊方向，稱為一軸晶礦物；低級(jí)晶族具有兩個(gè)這樣的特殊方向，稱為二軸晶礦物。三、光率體光率體是表示光波在晶體中傳播時(shí)，折射率值隨光波振動(dòng)方向變化的一種立體幾何圖形或一種光性指示體。其作法是設(shè)想自晶體中心起，沿光波振動(dòng)方向按比例截取相應(yīng)的折射率值，再把各個(gè)線段的端點(diǎn)連接起來(lái)便構(gòu)成了光率體。均質(zhì)體光率體：其傳播速度不因振動(dòng)方向不同而發(fā)生改變，即折射率值各方向相等。因此均質(zhì)體光率體是一個(gè)球體，球體的半徑代表該晶體的折射率。一軸晶光率體：一軸晶光率體是一個(gè)以C軸為旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)橢球體。（1）有關(guān)術(shù)語(yǔ)解釋?zhuān)汗鈱W(xué)主軸（Ne軸、No軸）；主折射率（Ne、No）；折射率（Ne）；正光性（NeNo）；負(fù)光性（Ne No(正吸收)或 Ng Nm Np(反吸收)等.影響因素：礦物本身性質(zhì),切片方向,薄片厚度。四、與礦物折射率有關(guān)的光學(xué)性質(zhì)（邊緣、貝克線、糙面、突起、閃突起）（1）突起：在薄片中觀察，不同礦物的表面有高低不平的感覺(jué)，這種現(xiàn)象稱突起。原因：不同礦物折射率與樹(shù)膠折射率的差值不同，像點(diǎn)的位置就會(huì)高低不一樣。分類(lèi)：礦物的折射率大于樹(shù)膠的折射率時(shí)，稱正突起，礦物的折射率小于樹(shù)膠的折射率時(shí)，稱負(fù)突起。具體劃分為六個(gè)等級(jí)(表3-1)表3-1 突起等級(jí)分類(lèi)及各級(jí)突起主要特征突起等級(jí)折射率糙面及邊緣特征實(shí)例負(fù)高突起 1.78糙面極其顯著，邊緣很寬。石榴石（2）閃突起：在單偏光鏡下，旋轉(zhuǎn)物臺(tái)，雙折射率很大的礦片，突起高低會(huì)發(fā)生明顯的變化。這種現(xiàn)象稱閃突起。方解石、白云母等礦物的閃突起是其重要的鑒定特征。（3）貝克線和邊緣：折射率不同的礦物接觸時(shí)，由于光的折射和反射作用，使其接觸處的光線聚散不一。光線集中的一側(cè)產(chǎn)生一條亮線，稱貝克線(光帶)；光線缺少的一側(cè)產(chǎn)生一條黑暗的輪廓，稱邊緣。它們可以用來(lái)判斷相鄰兩礦物折射率相對(duì)大小(突起高低)。（4）糙面：礦物表面的光滑程度不同，有些礦物的表面顯得較為粗糙，這種現(xiàn)象稱糙面。第四章正交偏光系統(tǒng)下晶體的光學(xué)性質(zhì)正交偏光系統(tǒng)指在同時(shí)使用上、下兩個(gè)偏光鏡的情況下，觀察和測(cè)定礦物光學(xué)性質(zhì)的系統(tǒng)。在正交偏光系統(tǒng)下，通過(guò)下偏光鏡的偏光，進(jìn)入薄片，通過(guò)上偏光鏡后到達(dá)目鏡，將產(chǎn)生一系列光學(xué)現(xiàn)象。本章講授和實(shí)驗(yàn)觀察的主要內(nèi)容包括消光現(xiàn)象及消光位、干涉現(xiàn)象及干涉色、補(bǔ)色法則和補(bǔ)色器及正交偏光間主要光學(xué)性質(zhì)的觀測(cè)和測(cè)定。注意，在不放任何礦片時(shí)，通過(guò)下偏光鏡的光波其振動(dòng)方向與上偏光鏡的振動(dòng)方向互相垂直，光波不能通過(guò)，視域黑暗，以此可以檢查上、下兩個(gè)偏光鏡的振動(dòng)方向是否互相垂直。一、正交偏光鏡間礦片的消光現(xiàn)象及消光位消光現(xiàn)象：礦片在正交偏光鏡間呈現(xiàn)黑暗的現(xiàn)象。按其特點(diǎn)分為全消光和四次消光。全消光：旋轉(zhuǎn)物臺(tái)一周，均質(zhì)體或非均質(zhì)體垂直光軸切片的消光現(xiàn)象（黑暗）不改變。四次消光：旋轉(zhuǎn)物臺(tái)一周，非均質(zhì)體晶體非垂直光軸切片的光率體橢圓半徑有四次與下偏光鏡平行的機(jī)會(huì)，故出現(xiàn)四次黑暗（消光）現(xiàn)象。消光位：非均質(zhì)體非垂直光軸切片在正交偏光鏡間處于消光現(xiàn)象時(shí)的位置。注意，礦片處于消光位時(shí)礦片光率體橢圓半徑分別與上、下偏光鏡的振動(dòng)方向平行。二、正交偏光鏡間礦片的干涉現(xiàn)象（1）干涉作用：非均質(zhì)體晶體非垂直光軸的礦片，其光率體橢圓半徑與上、下偏光鏡振動(dòng)方向斜交（即礦片不在消光）時(shí)，透過(guò)晶體分解的兩束光波，頻率相等，具有固定的光程差且在同一平面內(nèi)振動(dòng)（上偏光鏡振動(dòng)面），因此必然發(fā)生干涉作用。（2）控制因素：光程差（R）。如果光源為單色光，當(dāng)光程差等于該單色光半波長(zhǎng)的偶數(shù)倍時(shí)干涉的結(jié)果是互相抵消而變黑暗；當(dāng)光程差等于單色光半波長(zhǎng)的奇數(shù)倍時(shí)，干涉的結(jié)果是互相迭加使亮度增強(qiáng)；如果光程差介于二者之間，干涉的結(jié)果介于黑暗與最亮之間。光程差 R = d。其中，d為礦片厚度；為礦物的雙折射率。45位置：礦片的光率體橢圓半徑與上、下偏光鏡成450角（礦片最明亮）時(shí)的位置。（3）干涉色及其成因如果光源為單色光，隨著光程差的逐漸增大，將依次出現(xiàn)明亮相間的干涉條帶。改變光程差的方法是利用石英楔。如果光源為白光,干涉結(jié)果就是一系列復(fù)雜彩色條帶的組合。即干涉色。（4）干涉色級(jí)序及各級(jí)序特征用白光做光源，在正交偏光鏡間緩慢推入石英楔，隨著石英楔的慢慢推入，光程差連續(xù)地增大，視域內(nèi)出現(xiàn)的干涉色由低到高有規(guī)律的變化，這種規(guī)律性變化叫做干涉色色序。通常可以劃分為四-五個(gè)級(jí)序（干涉色色譜表）。當(dāng)光程差非常大時(shí)，將出現(xiàn)一種與珍珠表面類(lèi)似的亮白色，稱高級(jí)白干涉色。三、補(bǔ)色法則和補(bǔ)色器：（1）補(bǔ)色法則：在正交偏光鏡間的450位置，放置兩個(gè)互相重迭的非均質(zhì)體礦片(垂直光軸方向切片除外)，光通過(guò)這兩個(gè)礦片后，它們總的光程差增減的法則。同名半徑平行,干涉色級(jí)序升高。異名半徑平行,干涉色級(jí)序降低。若R1=R2, 視域內(nèi)變黑暗,這種現(xiàn)象稱消色.（2）補(bǔ)色器：主要掌握石膏試板(l)、云母試板(l/4)和石英楔(1-3級(jí))的特點(diǎn)及應(yīng)用。第五章錐光系統(tǒng)下晶體的光學(xué)性質(zhì)本章主要內(nèi)容包括錐光系統(tǒng)的構(gòu)成及其產(chǎn)生的光學(xué)現(xiàn)象-干涉圖；不同軸性、不同切面類(lèi)型干涉圖的特點(diǎn)、成因及應(yīng)用。難點(diǎn)是波向圖的構(gòu)成及其對(duì)干涉圖成因的解釋?zhuān)恢攸c(diǎn)是不同切面干涉圖的特點(diǎn)和應(yīng)用。一、錐光系統(tǒng)的構(gòu)成及特點(diǎn)錐光系統(tǒng)的構(gòu)成：在正交偏光系統(tǒng)的基礎(chǔ)上，加入聚光鏡并將其提升到最高位置，換用高倍物鏡，推入勃氏鏡或去掉目鏡，便構(gòu)成了錐光系統(tǒng)。聚光鏡的作用：把透過(guò)下偏光鏡的平行偏光轉(zhuǎn)變成錐形偏光。其特點(diǎn)是除中央一條光波垂直入射礦片外，其余光波均傾斜入射礦片，且愈向外傾角愈大，通過(guò)礦片的距離愈長(zhǎng)。高倍物鏡的作用：能接納較大范圍的傾斜光波，使觀察到的干涉圖更完整。勃氏鏡的作用：勃氏鏡與目鏡聯(lián)合組成一個(gè)寬角度望遠(yuǎn)鏡式的放大系統(tǒng)，可看到放大的干涉圖圖象；去掉目鏡，能直接觀察鏡筒內(nèi)干涉圖實(shí)象，其圖形雖小，卻很清晰。二、干涉圖均質(zhì)體：光學(xué)性質(zhì)各方向一致。任何方向的入射光都不發(fā)生雙折射，不會(huì)產(chǎn)生干涉圖。非均質(zhì)體：光學(xué)性質(zhì)隨方向而異。在錐光系統(tǒng)中，觀察到的是錐形偏光束中各個(gè)不同方向的入射光波，通過(guò)晶體到達(dá)上偏光鏡后產(chǎn)生的消光現(xiàn)象和干涉現(xiàn)象的總和，它們構(gòu)成一種特殊的圖形，稱為干涉圖。注意，干涉圖并不是物體本身的映象。三、一軸晶干涉圖主要類(lèi)型NeNo圖5-1一軸晶垂直光軸切面干涉圖（左）波向圖（右）（一）垂直光軸切面干涉圖垂直光軸切面干涉圖的特點(diǎn)干涉圖由一個(gè)黑十字和同心環(huán)狀干涉色圈組成，旋轉(zhuǎn)物臺(tái)360，干涉圖不變化（圖5-1）注意黑十字交點(diǎn)位于視域中心，是光軸的出露點(diǎn)，兩條黑帶分別平行上下偏光鏡的振動(dòng)方向，干涉色色圈從中心向外越來(lái)越密且干涉色級(jí)序升高。垂直光軸切面干涉干涉圖的成因一軸晶垂直光軸切面干涉圖的成因可用一軸晶垂直光軸切面波向圖解釋?zhuān)▓D5-1右）。垂直光軸切面干涉圖的應(yīng)用根據(jù)干涉圖的特點(diǎn)及波向圖可以確定軸性、切片類(lèi)型和光性符號(hào)（圖5-2）。（二）小角度斜交光軸切片的干涉圖A：Ne和No分布NoNe降降升升降降升升圖5-2 一軸晶垂直光軸切面干涉圖光性符號(hào)測(cè)定示意圖B：插入石膏檢板（+）C：插入石膏檢板（-）光軸出露點(diǎn)不在視域中心，但仍在視域之內(nèi)，由不完整的黑十字和干涉色色環(huán)組成。四個(gè)象限的位置仍能分辨，光軸的出露點(diǎn)圍繞十字絲交點(diǎn)作圓周運(yùn)動(dòng)，黑臂作上下、左右平行移動(dòng)。其應(yīng)用同垂直光軸切面干涉圖（三）平行光軸切面干涉圖當(dāng)?shù)V片處于0位時(shí)：視域中為一粗大而模糊的黑十字，幾乎占滿視域，只在四個(gè)象限邊緣出現(xiàn)干涉色（圖5-3左）。稍轉(zhuǎn)物臺(tái)（12-15）：黑十字從中心分裂，并沿光軸方向迅速逸出視域，因變化迅速，故稱閃圖。當(dāng)?shù)V片處于45 位時(shí)：視域最亮。如果礦物的雙折率較小，則只出現(xiàn)一級(jí)灰干涉色。如果礦物的雙折率較大，則在兩個(gè)相對(duì)的象限內(nèi)出現(xiàn)對(duì)稱的雙曲線形干涉色色帶，在光軸所在的兩個(gè)象限內(nèi)，干涉色由中心向兩邊逐漸降低，其它兩個(gè)象限內(nèi)，干涉色由中心向兩邊逐漸生高。成因：可用平行光軸切面波向圖解釋?zhuān)▓D5-3右）。應(yīng)用：當(dāng)軸性已知時(shí)，可以確定切片類(lèi)型和光性符號(hào)圖5-3 平行光軸切面干涉圖（左）波向圖（右）光軸方向AAPP光軸方向三、二軸晶干涉圖主要類(lèi)型（一）垂直銳角等分線切面干涉圖（1）垂直Bxa切面干涉圖的特點(diǎn)（圖5-4）在0位置時(shí)：由一個(gè)黑十字及“”字形干涉色色環(huán)組成。黑十字交點(diǎn)在視域中心，為Bxa出露點(diǎn)。黑十字的兩條臂粗細(xì)不等，在光軸面跡線方向黑臂較細(xì)，且在兩光軸出露點(diǎn)處最細(xì)；在Nm方向黑臂較粗?！啊弊中紊h(huán)以兩個(gè)光軸為中心，干涉色向外逐漸升高，當(dāng)?shù)V片雙折射率很低時(shí)，四個(gè)象限只有一級(jí)灰白干涉色，無(wú)干涉色色環(huán)。圖5-4 垂直銳角等分線切面不同位置的干涉圖轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)：黑十字逐漸分裂為一對(duì)雙曲線形的黑臂。在45位置時(shí)：雙曲線形的彎曲黑臂頂點(diǎn)相距最遠(yuǎn)，頂點(diǎn)的距離與光軸角的大小成正比，雙曲線的頂點(diǎn)即光軸的出露點(diǎn)，其連線方向?yàn)楣廨S面跡線，中點(diǎn)為Bxa出露點(diǎn)。在90位置時(shí)：黑臂完全復(fù)原為黑十字，只是光軸面及Nm方向互換了位置。（2）垂直Bxa切面干涉圖的成因解釋拜-弗定律：光波沿任意方向射入二軸晶礦物中，垂直此入射光波的光率體橢圓半徑，必定是入射光波與兩個(gè)光軸所構(gòu)成的兩平面夾角的兩個(gè)平分面與光率體橢圓切面的二條交線方向。圖5-5 垂直Bxa切片不同位置的波向圖及干涉圖成因示意圖A. 0 位置B. 45 位置C. 90 位置PAAPPAPAAPPAA應(yīng)用到垂直銳角等分線切面上:：垂直任一入射光波的光率體橢圓半徑，必定是入射光波出露點(diǎn)與兩個(gè)光軸出露點(diǎn)聯(lián)線所構(gòu)成的兩個(gè)夾角的角平分線方向。據(jù)此可以繪出垂直銳角等分線切面光率體橢圓半徑分布的波向圖。（3）在45位時(shí)光率體要素分布和Bxa/Bxo的投影方位(圖5-5)圖5-5 垂直Bxa切面45位時(shí)光率體要素分布(左)和Bxa/Bxo的投影方位(右)Bxa投影方向Bxo投影方向Bxa投影方向NmNmNmAP銳角區(qū)Nm鈍角區(qū)鈍角區(qū)銳角區(qū)（4）垂直Bxa切面干涉圖的應(yīng)用確定軸性及切片類(lèi)型（2V小于45）測(cè)定光性符號(hào)：測(cè)定光軸角大小.（二）垂直一個(gè)光軸切面的干涉圖（1）垂直一個(gè)光軸切面干涉圖特點(diǎn)總體特征：相當(dāng)于垂直Bxa切面干涉圖的一半。光軸出露點(diǎn)位于視域中心。在0位置時(shí)：光軸與上下偏光振動(dòng)方向平行，出現(xiàn)一條直的黑臂及卵形干涉色色環(huán)，黑臂最細(xì)的地方為光軸出露點(diǎn).轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)：黑臂逐漸發(fā)生彎曲。至45位置時(shí)，黑臂彎曲最大。黑臂彎曲的頂點(diǎn)位于視域中心，為光軸的出露點(diǎn)，凸向Bxa的出露方位.當(dāng)物臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)角度大于45時(shí)：黑臂又漸趨平直，到90時(shí)，黑臂完全恢復(fù)平直，只是方向恰與最初位置正交。繼續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)上述變化重復(fù)出現(xiàn)。（2）垂直一個(gè)光軸切面干涉圖的應(yīng)用確定軸性及切片類(lèi)型 ( 適用于2V 小于80 );測(cè)定光性符號(hào)。測(cè)定光軸角大?。焊鶕?jù)垂直光軸切片干涉圖中黑帶彎曲程度目估2V大小。測(cè)量 Nm 顏色（三）斜交光軸切面干涉圖相當(dāng)于垂直Bxa或垂直光軸切面干涉圖的某一部分，圖象類(lèi)型繁多，它們的黑十字和黑臂及干涉色色環(huán)都不完整，旋轉(zhuǎn)物臺(tái)時(shí)，黑臂常呈彎曲狀掃過(guò)視域。其中有兩種類(lèi)型的干涉圖非常有用，即近于垂直光軸和近于垂直Bxa切面的干涉圖，它們與垂直光軸和垂直Bxa切面干涉圖的應(yīng)用大體相同。（四）平行光軸面切面干涉圖干涉圖特征與一軸晶平行光軸的干涉圖相似，也稱瞬變干涉圖或閃圖。當(dāng)切面的Bxa與Bxo分別平行上下偏光的振動(dòng)方向時(shí)： 視域出現(xiàn)一個(gè)粗大模糊的黑十字，幾乎充滿視域.轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)小角度（7-10）：黑十字迅速分裂為兩個(gè)雙曲線形狀黑臂逸出視域，黑臂逸出方向?yàn)锽xa方向.轉(zhuǎn)到45位置時(shí)：視域最亮，并出現(xiàn)干涉色 若礦片雙折射率較大或礦片較厚時(shí)，可以看到對(duì)稱的干涉色帶，從中心向外緣，沿Bxa方向上的兩個(gè)象限，干涉色降低，沿Bxo方向的兩個(gè)象限干涉色升高.干涉圖應(yīng)用：主要用以確定切面類(lèi)型，但當(dāng)軸性已知時(shí)，可用來(lái)測(cè)定光性正負(fù)。（五）垂直鈍角等分線(Bxo)切面干涉圖干涉圖特征與垂直Bxa切面干涉圖形相似。只是黑十字顯得更大而模糊，光軸出露點(diǎn)不在視域之內(nèi)。視域中心為Bxo的出露點(diǎn)垂直 Bxo切面干涉圖應(yīng)用：只有在切片類(lèi)型能夠確定時(shí)，才能用來(lái)測(cè)定光性符號(hào)。第六章 透明礦物薄片系統(tǒng)鑒定在單偏光、正交偏光、錐光系統(tǒng)下觀察測(cè)定未知透明礦物的一系列光學(xué)性質(zhì)和光學(xué)常數(shù)，對(duì)照光性礦物鑒定表，準(zhǔn)確定出礦物名稱的過(guò)程(必要時(shí)配合其它測(cè)試方法)。本章將前面所學(xué)知識(shí)有機(jī)地結(jié)合起來(lái)，按照一定的內(nèi)容、方法、程序來(lái)達(dá)到鑒定礦物的目的。其中，定向切片的選擇及其應(yīng)用是本章的重點(diǎn)。一、透明礦物系統(tǒng)鑒定的內(nèi)容1、單偏光系統(tǒng)：礦物形態(tài)、解理等級(jí)、解理夾角、顏色、多色性、吸收性、突起等級(jí)。2、正交偏光系統(tǒng)：最高干涉色級(jí)序、最大雙折射率、消光類(lèi)型、消光角、延性符號(hào)、雙晶類(lèi)型。3、錐光系統(tǒng)：軸性、切片類(lèi)型、光性符號(hào)、光軸角。二、定向切片的選擇1、定向切片選擇的必要性:礦物的許多光學(xué)常數(shù)必須在定向切片上測(cè)定,因此要進(jìn)行透明礦物的系統(tǒng)鑒定，必須選好定向切片.2、常用定向切片類(lèi)型(1)垂直光軸切片(近于垂直光軸切片)(2)平行光軸或平行光軸面切片3、常用定向切片的特點(diǎn)及應(yīng)用(表6-1)表6-1 常用定向切片特點(diǎn)及可測(cè)光學(xué)常數(shù)簡(jiǎn)表切片類(lèi)型單偏光正交偏光錐光可測(cè)常數(shù)無(wú)色有色垂直光軸切片當(dāng)該礦物具有閃突起時(shí)，該礦片不顯閃突起多色性不明顯全消光。轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)其明暗變化不明顯一軸晶干涉圖由黑十字和干涉色圈組成，轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)360圖像不變。二軸晶干涉圖由一條黑臂與干涉色圈組成，轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)黑臂彎曲（當(dāng)2V=90時(shí)黑臂不彎曲）No或Nm的顏色及折射率值、軸性、光性符號(hào)、二軸晶光軸角及色散平行光軸或光軸面切片當(dāng)該礦物具有閃突起時(shí)，該礦片閃突起最明顯多色性明顯干涉色最高閃圖Ne,No或Ng,Np的顏色及折射率值，最高干涉色、最大雙折射率, CNg（單斜輝石及閃石。Nmb）三、透明礦物薄片系統(tǒng)鑒定的程序1、區(qū)分均質(zhì)體與非均質(zhì)體礦物（1）均質(zhì)體礦物：在正交偏光鏡下為全消光，在錐光鏡下無(wú)干涉圖。（2）非均質(zhì)體礦物：除垂直光軸的切片在正交偏光鏡下為全消光外，其它切片在正交偏光鏡下為四次消光，四次明亮。非均質(zhì)體礦片在錐光鏡下呈現(xiàn)各種不同的干涉圖。.2、均質(zhì)體礦物的鑒定：觀察單偏光鏡下晶體光學(xué)性質(zhì)(晶形、解理、顏色、突起等級(jí)、包裹體、次生變化等)。3、非均質(zhì)體礦物的鑒定（1）非定向切片的觀察和測(cè)定在單偏光鏡下觀察和測(cè)定：晶形,解理,測(cè)定解理夾角,顏色,突起等級(jí),閃突起及包裹體等特征。正交偏光鏡下觀察和測(cè)定：消光類(lèi)型, 測(cè)定延性符號(hào),觀察雙晶類(lèi)型.（2）定向切片的觀察和測(cè)定在錐光鏡下確定軸性、切片類(lèi)型、光性符號(hào)、光軸角的大小。在單偏光鏡下觀測(cè)多色性、異向吸收性。在正交偏光鏡下觀測(cè)最高干涉色級(jí)序、最大雙折射率值、CNg(單斜晶系 bNm)。4、查閱光性礦物鑒定表(P168)，確定出礦物名稱。第七章 常見(jiàn)造巖礦物的薄片鑒定造巖礦物按其色率可以分為暗色礦物和淺色礦物，本章學(xué)習(xí)和鑒定的礦物主要有七大類(lèi)。暗色礦物包括橄欖石類(lèi)、輝石類(lèi)、角閃石類(lèi)和云母類(lèi)；淺色礦物包括石英類(lèi)、長(zhǎng)石類(lèi)、和碳酸鹽類(lèi)。學(xué)習(xí)重點(diǎn)是了解并掌握七大類(lèi)礦物的一般特征和常見(jiàn)變種的鑒定特征。難點(diǎn)是相似礦物的區(qū)別。一、橄欖石類(lèi)橄欖石化學(xué)通式：R2SiO4，R=Mg,Fe,Ca,Mn等。橄欖石分類(lèi)：可分為三個(gè)系列。(1)鎂橄欖石-鐵橄欖石系列。(2)錳橄欖石-鐵橄欖石系列。(3)鈣鐵橄欖石-鈣鎂橄欖石系列。橄欖石（貴橄欖石）主要光學(xué)特征:多為粒狀、無(wú)色、正高突起、解理不發(fā)育、裂開(kāi)發(fā)育，最高干涉色二級(jí)末到三級(jí)初，平行消光、二軸晶、()2V角近90。二、輝石類(lèi)輝石化學(xué)通式：R2Si2O6，R=Mg、Fe、Al、Ca、Na等。輝石分類(lèi)：按其結(jié)晶特點(diǎn)可以分為兩類(lèi)。(1)斜方輝石亞族（紫蘇輝石、頑火輝石等）。(2)單斜輝石亞族（普通輝石、透輝石、霓輝石等）。共同光學(xué)特征：多為短柱狀、橫截面多為四邊形和八邊形，可見(jiàn)兩組近正交完全解理，縱切面長(zhǎng)方形，多見(jiàn)一組完全解理，正高突起，橫截面多對(duì)稱消光，2V角中等。輝石主要變種的光學(xué)特征:紫蘇輝石：具有弱多色性，平行消光，最高干涉色一級(jí)頂部，負(fù)光性。單斜輝石：一般無(wú)色，斜消光（CNg大于30），最高干涉色二級(jí)初，一般正光性。紫蘇輝石和單斜輝石的主要區(qū)別：顏色、消光類(lèi)型、干涉色級(jí)序、光性符號(hào)。橄欖石和普通輝石的主要