氟化氫銨溶液.doc

氟化氫銨溶液（二氧化硅腐蝕液）配方：氫氟酸（48%） 30毫升，氟化銨 60克，去離子水 100毫升。pH值 45。使用條件：30。適用于二氧化硅襯底。氫氧化鈉溶液（鋁腐蝕液）配方：氫氧化鈉 5克，甘油 0. 5毫升，無水乙醇 6毫升，去離子水 8毫升。使用條件：3050。適用于鋁襯底。配制初呈乳白色，存放一周后變黃，加溫至3050。即透明可用。王水配方：發(fā)煙硝酸：鹽酸=3 ：1。使用條件：常溫。適用于金襯底。腐蝕時(shí)須在通風(fēng)櫥中進(jìn)行。碘化鉀溶液配方：碘 2克，碘化鉀溶液 10毫升。碘的比例成分可酌情增減，溶液呈醬油色。使用條件：常溫。適用于金襯底。腐蝕須在通風(fēng)櫥中進(jìn)行。鎳-鉻合金腐蝕液配方：硫酸鈰 1.5克，硝酸 1.52毫升，去離子水 10毫升。使用條件：常溫。腐蝕液使用一定時(shí)間后需經(jīng)常掉換。二氧化硅腐蝕液經(jīng)硼擴(kuò)散和磷擴(kuò)散后，三氧化硅表面往往會(huì)形成一種玻璃狀物質(zhì)（硼硅玻璃或磷硅玻璃），通常呈深咖啡或深紅、藍(lán)色等。磷硅下班比較容易去除，可用下列兩種腐蝕液腐蝕，效果頗好。配方1：氫氟酸（49%）：硝酸（70%） ：水=15 ：10 ：30。配方2：A液：氟化銨利時(shí)：氫氟酸（49%）=10 ：1。B液：氟化銨 ：丙酮=1 ：1（體積比）用法：將硅片先放在A腐蝕液中2分鐘，然后放入B液中1分鐘即可。硅腐蝕液硅的腐蝕，如集成電路和介質(zhì)陋離槽,高頻晶體管的溝道等，一般可采用以下配方的腐蝕液。配方：發(fā)煙硝酸 ：氫氟酸 ：醋酸=3：1：1銅印刷電路板清洗劑配方（重量）：NH4NO3 45%，H2SO4 4050%,CuSO4 0.20.3%，余量為蒸餾水。適用于去除銅印刷電路板上錫-鉛鎘鍍層，鍍層厚20微米，含錫7379%，鋁1722%，鎘15%，清洗溫度5060，洗滌時(shí)間：1.22分鐘。水溶性洗滌劑ML-52這是清洗印刷電路板的最成熟且經(jīng)常應(yīng)用的一種清洗劑，含滲透劑Tx-6-7（烷基酚型），表面活性劑烷基苯磺酸鈉、碳酸鈉、五鈉和水玻璃等。配方（wt%）：Tx-6-6(滲透劑OP) 8.2，純堿 57，烷基苯磺酸鈉 1.8，五鈉 30，水玻璃 10.0。清洗劑ML-52的清洗濃度是10 50g/1。但這種清洗劑不能用于精細(xì)印刷板電路。因?yàn)榍逑醋饔镁徛?，若浸在清洗劑溶液中時(shí)間過長(zhǎng)，會(huì)損傷載體材料薄型玻布塑料，而使印刷電路板的機(jī)械性能和解電性能下降。無線電設(shè)備元件洗滌劑該清洗劑是清洗無線電設(shè)備元件上的松香助溶劑和無機(jī)鹽污染物的，可用于印刷板電路生產(chǎn)，也可用于清洗被汕、樹脂和水溶性污染的其它部件。配方（wt%）：烷基苯磺酸鈉 0.50.8，亞甲基二荼磺酸二鈉 1.52.0，氫氧化鉀 0.81.0，五鈉 1.52.5，水玻璃 0.371.2，水加至100。其中烷基苯磺酸鈉中的烷基最好用C1014，氫氧化鉀作堿劑用，亞甲基二荼磺酸為滲透劑。這種清洗劑與過去的相比，清除松香的無機(jī)鹽污染物是最完全的。另外，這種清洗劑不會(huì)使電阻不降。使用這種清洗劑，可提高無線電設(shè)備元件的可靠性和耐用性。這主要是由于提高了對(duì)接點(diǎn)和無線電設(shè)備無元件上的松香和有機(jī)鹽污染物的清洗效果。 松香基助焊劑殘?jiān)逑磩┰擃惽逑磩┦且圆灰兹嫉墓卜腥芤褐瞥傻?，可用于清除印刷線路板上松香基助焊劑殘?jiān)?。配?：三氯乙烯 91.5%，異丁醇 8.5%配方2：四氯乙烯 91%，環(huán)戊醇 9%配方3：四氯乙烯 82.9%，2-羥基乙醚 17.1%配方4：四