電子氣體 四氟化硅 編制說(shuō)明_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

征求意見稿編制說(shuō)明2一、工作簡(jiǎn)況電子級(jí)四氟化硅主要用于集成電路技術(shù)領(lǐng)域,是一種性能極佳的高純氣體材料。四氟化硅作為集成電路用量大、純度要求高的基礎(chǔ)材料,是國(guó)家重點(diǎn)鼓勵(lì)發(fā)展的產(chǎn)品和產(chǎn)業(yè),符合《“十四五”推動(dòng)高質(zhì)量發(fā)展的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)體系建設(shè)規(guī)劃》中建設(shè)制造業(yè)高端化領(lǐng)域的材料標(biāo)準(zhǔn)的要求。高純四氟化硅作為電子工業(yè)重要原料之一,具有較高的氟硅比,被廣泛應(yīng)用于光纖、半導(dǎo)體或太陽(yáng)能電池的生產(chǎn),是電子產(chǎn)業(yè)核心制造業(yè)的基礎(chǔ)。主要用于硅化鉭、氮化硅等的蝕刻劑、P型摻雜劑及外延沉積擴(kuò)散硅源,還可以用于制備電子級(jí)硅烷或多晶硅。同時(shí),四氟化硅是理想的超低溫保存媒體,用于電子工業(yè)中制造各種高純、優(yōu)良的半導(dǎo)體器件和集成電路,廣泛應(yīng)用于航天技術(shù)精密光學(xué)儀器的制造。其次四氟化硅還用于制備超純四氟化硅原料,在化學(xué)工業(yè)上制造高純度、高流動(dòng)性的二氧化硅流體,用于溶解、分離、干燥、氣化或升華精細(xì)化工產(chǎn)品?,F(xiàn)行的電子用四氟化硅標(biāo)準(zhǔn)(GB/T31058-2014)已經(jīng)執(zhí)行11年,隨著技術(shù)進(jìn)步和市場(chǎng)變化,適用范圍、技術(shù)要求及試驗(yàn)方法等內(nèi)容都需要修訂。2014版標(biāo)準(zhǔn)已無(wú)法現(xiàn)代集成電路產(chǎn)業(yè)的要求,因此建議重新修訂該標(biāo)準(zhǔn)。通過(guò)對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的修訂,旨在對(duì)生產(chǎn)和檢測(cè)提供指導(dǎo)性作用,對(duì)下游半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供質(zhì)量保障。有利于提高我國(guó)高端電子材料自給能力,推動(dòng)電子相關(guān)產(chǎn)業(yè)進(jìn)步,擴(kuò)大我國(guó)高純電子材料對(duì)外影響力,有效服務(wù)于國(guó)家戰(zhàn)略需求。根據(jù)國(guó)標(biāo)委發(fā)〔2024〕60號(hào)文,國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)于2024年下達(dá)了修訂計(jì)劃,修訂計(jì)劃號(hào):20243665-T-469。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出,全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員氣體分會(huì)執(zhí)行。1.2工作過(guò)程的說(shuō)明1.2.1起草階段2024年國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)下達(dá)了〔2024〕60號(hào)文,《電子氣體四氟化硅》正式立項(xiàng),標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員氣體分會(huì)歸口。為保證項(xiàng)目順利實(shí)施,全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員氣體分會(huì)組織浙江中寧硅業(yè)股份有限公司、昊華氣體有限公司西南分公司、福建德爾科技股份有限公司、廣東華特氣體股份有限公司、浙江省化工研究院有限公司、中船(邯鄲)派瑞特種氣體股份有限公司、上海華愛色譜分析技術(shù)有限公司、大連大特氣體有限公司、聯(lián)雄投資(上海)有限公司、杭州新世紀(jì)混合氣體有限公司、沈陽(yáng)中復(fù)科金壓力容器有限公司、西南化工研究設(shè)計(jì)院有限公司等相關(guān)單位做了大量的前期調(diào)研及草案起草工作。3標(biāo)準(zhǔn)起草小組首先開始搜集相關(guān)的資料,國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織(SEMI)制定的國(guó)際工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)中無(wú)八氟丙烷標(biāo)準(zhǔn),起草小組對(duì)國(guó)際、國(guó)內(nèi)電子八氟丙烷產(chǎn)品生產(chǎn)情況進(jìn)行了深入調(diào)研和分析,將國(guó)外產(chǎn)品的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)和國(guó)內(nèi)實(shí)際生產(chǎn)情況相結(jié)合,于2025年2月份提出了標(biāo)準(zhǔn)的討論稿。2025年4月,標(biāo)準(zhǔn)起草小組在線上召開標(biāo)準(zhǔn)討論會(huì),廣泛征求生產(chǎn)企業(yè)的意見。在此次討論會(huì)上,專家們就討論稿的基本結(jié)構(gòu)、范圍、技術(shù)指標(biāo)、檢驗(yàn)方法等進(jìn)行了認(rèn)真的討論。提出了如下的意見:(1)四氟化硅制備方法基本為石英砂與氫氟酸反應(yīng)制備,因此建議適用范圍修改為以硅與氫氟酸為原料提純制備。(2)將標(biāo)準(zhǔn)正文表1中項(xiàng)目名稱中的“/10-2”放入技術(shù)指標(biāo)一欄,并修改為“×10-2”,將項(xiàng)目名稱中的“/10-6”放入技術(shù)指標(biāo)一欄,并修改為“×10-6”。(3)建議增加氟化氫的雜質(zhì)含量要求。(4)建議增加金屬元素的含量要求。(5)采用GB/T28726-2012《氣體分析氦離子化氣相色譜法》測(cè)定氫、氧+氬、氮、一氧化碳、二氧化碳、甲烷含量。(6)開展測(cè)定方法的驗(yàn)證試驗(yàn)。1.2.2征求意見階段2025年5月,起草小組根據(jù)2025年2月工作組會(huì)議討論的意見修改并提出了征求意見稿,在“全國(guó)標(biāo)準(zhǔn)信息公共服務(wù)平臺(tái)”、全國(guó)氣體標(biāo)準(zhǔn)化網(wǎng)站、以及發(fā)送主要生產(chǎn)、經(jīng)銷、使用、科研、檢驗(yàn)等單位及大專院校,面向全社會(huì)廣泛征集修改意見。二國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)編制原則和確定標(biāo)準(zhǔn)主要內(nèi)容起草小組參照了國(guó)外先進(jìn)企業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),做了大量的實(shí)驗(yàn)工作,制定出了技術(shù)指標(biāo)和檢驗(yàn)方法,現(xiàn)將有關(guān)情況說(shuō)明如下:2.1標(biāo)準(zhǔn)名稱2021年7月,國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)委下達(dá)了國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)體系優(yōu)化試點(diǎn)工作任務(wù),根據(jù)工作任務(wù)的要求,氣體分會(huì)本對(duì)電子氣體領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)體系情況情況進(jìn)行梳理、評(píng)估、優(yōu)化和重構(gòu),形成了“1+6”的成果模式,即構(gòu)建了一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)體系,形成了六個(gè)標(biāo)準(zhǔn)清單(整合一批、提出一批、修訂一批、廢止一批、轉(zhuǎn)化一批、采信一批),逐步優(yōu)化提升了電子氣體國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)體系的科學(xué)性、先進(jìn)性和協(xié)調(diào)性。根據(jù)體系優(yōu)化工作的成果,電子氣體的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)名稱由“電子特氣”修改為“電子氣體”,因此本次修訂,將2014版的“電子工業(yè)氣體四氟化硅”修改為“電子氣體四氟化硅”。42.2適用范圍2.2.1四氟化硅的生產(chǎn)工藝主要為石英砂(二氧化硅)和氫氟酸反應(yīng),2014版標(biāo)準(zhǔn)適用于螢石硫酸法、六氟硅酸鹽熱分解法、單質(zhì)硅直接氟化法制備的四氟化硅產(chǎn)品。根據(jù)工作組會(huì)議要求,本次修訂更改為:以硅和氟化氫為原料為原料提純制備的四氟化硅。2.2.32014版的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了四氟化硅的使用領(lǐng)域、分子式及相對(duì)分子質(zhì)量。根據(jù)GB/T1.1-2020的要求,討論稿及征求意見稿刪除了四氟化硅的使用領(lǐng)域,將分子式和相對(duì)分子質(zhì)量放入了附錄。2.3技術(shù)指標(biāo)的依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)起草小組首先開始搜集相關(guān)的資料,2014版四氟化硅標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)指標(biāo)見表1,起草小組對(duì)國(guó)際、國(guó)內(nèi)電子四氟化硅產(chǎn)品生產(chǎn)情況進(jìn)行了深入調(diào)研和分析,國(guó)內(nèi)外較大規(guī)??蛻魧?duì)電子四氟化硅的要求見表2~表7。起草小組修改了2014版的技術(shù)要求,提出了討論稿技術(shù)要求,見表8。根據(jù)起草工作組會(huì)議的要求,起草小組修改了技術(shù)指標(biāo),提出了征求意見稿,見表9。表12014版技術(shù)指標(biāo)≥<21<<4<5<<1<1<1≤適用于螢石硫酸法制備的產(chǎn)品。表2客戶要求1<1×10氮(N)含量(摩爾分?jǐn)?shù))<4×10<1×10<0.3×10<3×10總烴(以CH4計(jì))含量(摩爾分?jǐn)?shù))<1×10表3客戶要求2<1×10<4×10<1×10<0.3×10<3×10<1×10<5×10表4客戶要求399.999×10<1×10<0.5×10<0.1×10<0.3×10<0.1×10<0.2×10<0.1×10<0.1×10<20×10氟硅醚(SiFOSiF)(摩爾分?jǐn)?shù))<50×10<0.1×10<0.1×10<5×10<3×10<5×10<30×10表5客戶要求4+Ar)含量(摩爾分?jǐn)?shù))<1×10<3×10<1×10<1×10<10×10<0.5×10<0.5×10<0.5×10表6客戶要求5<1×10+Ar)含量(摩爾分?jǐn)?shù))<1.0×10<0.1×10<1.0×10<1×10<0.1×10<0.1×10<0.5×10<0.5×10——As、B、P表7客戶要求6<1×10+Ar)含量(摩爾分?jǐn)?shù))<1.0×10<0.1×10<1.0×10<1×10<0.1×10<5×10<1×10表8討論稿技術(shù)要求<1×10+Ar)含量(摩爾分?jǐn)?shù))<0.5×10<4×10<0.1×10<0.3×10<1×10<0.1×10<0.1×10適用于螢石硫酸法制備的產(chǎn)品。表9征求意見稿技術(shù)要求<1×10+Ar)含量(摩爾分?jǐn)?shù))<0.5×10<4×10<0.1×10<0.3×10<1×10<0.1×10<0.1×10<3×10<5×10-9<3×10-9<5×10-9<30×10-9<15×10-9<10×10-9<15×10-9<30×10-9<10×10-9<10×10-9<30×10-9<5×10-92.4采樣2014版未單列采樣的要求,只規(guī)定了采樣安全符合GB/T3723《工業(yè)用化學(xué)產(chǎn)品采樣安全通則》的要求,討論稿中將采樣的要求單列一章,并引用了GB/T43306《氣體分析采樣導(dǎo)則》,該標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO19230:2020,適用于四氟化硅的采樣,因此本次制定直接引用。2.5關(guān)于試驗(yàn)方法2.5.1純度計(jì)算四氟化硅的純度采用差減法計(jì)算,2014版規(guī)定先計(jì)算總雜質(zhì)含量,然后減去雜質(zhì)總含量計(jì)算純度。本次修訂依然采用該方法計(jì)算純度。2.5.2氫、氧+氬、氮、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、硫化氫、二氧化硫含量的測(cè)定2014版規(guī)定采用GB/T28726-2012《氣體分析氦離子化氣相色譜法》測(cè)定氫、氧+氬、氮、一氧化碳、二氧化碳、甲烷含量,采用GB/T28727-2012《氣體分析硫化物的測(cè)定火焰光度氣相色譜法》測(cè)定硫化氫、二氧化硫含量。根據(jù)工作組會(huì)議要求,本次修訂采用了GB/T28726規(guī)定的氦離子9化氣相色譜法測(cè)定氫、氧+氬、氮、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、硫化氫、二氧化硫含量。根據(jù)工作組會(huì)議的要求,起草小組及標(biāo)準(zhǔn)驗(yàn)證平臺(tái)作了試驗(yàn)驗(yàn)證工作,驗(yàn)證結(jié)果見附件1。從檢測(cè)結(jié)果可以看出,GB/T28726規(guī)定的HID(氦離子化法)能全部測(cè)定四氟化硅中氫、氧+氬、氮、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、硫化氫、二氧化硫含量等雜質(zhì)含量,最小檢出濃度和靈敏度滿足測(cè)定需求,因此本次制訂采用GB/T28726規(guī)定的HID法。2.5.3氟化氫含量的測(cè)定2014版未規(guī)定氟化氫含量及其測(cè)定方法,本次修訂采用傅里葉紅外光譜法測(cè)定氟化氫。GB/TXXXX《電子氣體中酸度的測(cè)定第1部分:傅里葉變換紅外光譜法》適用于測(cè)定氟化氫,因此本次修訂直接引用該方法。起草小組及標(biāo)準(zhǔn)驗(yàn)證平臺(tái)作了相關(guān)試驗(yàn)驗(yàn)證工作,驗(yàn)證結(jié)果見附件2。從檢測(cè)結(jié)果可以看出,傅里葉紅外光譜法能滿足四氟化硅中氟化氫含量的測(cè)定需求。2.5.4金屬元素含量的測(cè)定2014版未規(guī)定金屬元素含量及其測(cè)定方法,本次修訂規(guī)定金屬元素含量的測(cè)定是采用電感耦合等離子質(zhì)譜法(ICPMS),GB/T34972-2017《電子工業(yè)用氣體中金屬含量的測(cè)定電感耦合等離子體質(zhì)譜法》已經(jīng)正式發(fā)布實(shí)施8年,已經(jīng)得到了廣泛的應(yīng)用。本次修訂直接采用GB/T34972規(guī)定的方法。起草小組及標(biāo)準(zhǔn)驗(yàn)證平臺(tái)作了相關(guān)試驗(yàn)驗(yàn)證工作,驗(yàn)證結(jié)果見附件3。從檢測(cè)結(jié)果可以看出,GB/T34972規(guī)定的方法能滿足四氟化硅金屬元素含量的測(cè)定需求。2.5.5尾氣處理本次修訂增加對(duì)尾氣處理的要求,提出了原則性要求:測(cè)定時(shí),應(yīng)有四氟化硅尾氣處理措施,以防止四氟化硅對(duì)環(huán)境的污染。2.6檢驗(yàn)規(guī)則2014版未單列檢驗(yàn)規(guī)則,本次修訂將“檢驗(yàn)規(guī)則”單列,并完善了判定規(guī)則。2.7關(guān)于產(chǎn)品標(biāo)志、包裝、貯運(yùn)及安全本次修訂參照了最新的有關(guān)法律法規(guī)、標(biāo)準(zhǔn)和國(guó)際化學(xué)品安全卡。2014版的規(guī)定比較雜亂,根據(jù)工作組會(huì)議的要求,將該章分成三部分內(nèi)容來(lái)編制1)標(biāo)志(2)包裝、運(yùn)輸和貯存(3)安全信息,并將安全信息放入附錄A。2.7.1標(biāo)志(1)產(chǎn)品質(zhì)量合格證2014版規(guī)定合格證的內(nèi)容至少如下:a)產(chǎn)品名稱,生產(chǎn)廠名稱;b)生產(chǎn)日期或批號(hào),充裝質(zhì)量(kgc)本標(biāo)準(zhǔn)編號(hào)及技術(shù)指標(biāo),檢驗(yàn)員號(hào)。根據(jù)最新的電子氣體標(biāo)準(zhǔn)體系中對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量合格證的要求,將合格證的內(nèi)容修改如下:a)產(chǎn)品名稱,生產(chǎn)廠名稱,危險(xiǎn)化學(xué)品生產(chǎn)許可證編號(hào);b)生產(chǎn)日期或批號(hào),以及保質(zhì)期;c)充裝壓力(MPa);d)本文件號(hào)及四氟化硅的純度。(2)2014版中規(guī)定:包裝容器上應(yīng)標(biāo)明“電子四氟化硅”字樣,本次修訂更改為:包裝容器上應(yīng)涂刷“電子氣體四氟化硅”字樣。(3)2014版中規(guī)定:氣瓶顏色標(biāo)記應(yīng)符合GB/T7144的規(guī)定。氣瓶的運(yùn)輸標(biāo)志應(yīng)符合GB190的規(guī)定。標(biāo)簽應(yīng)符合GB/T16804、GB15258規(guī)定的要求。本次修訂依然采用這些規(guī)定。2.7.2包裝、運(yùn)輸和儲(chǔ)存(1)包裝四氟化硅在室溫和大氣壓力下是無(wú)色、不可燃和有毒的氣體,具有令人窒息的氣味。大多數(shù)普通的結(jié)構(gòu)金屬用于處理干氣體都是符合要求的。對(duì)于某些應(yīng)用可使用塑料,如聚四氟乙烯、聚三氟氯化乙烯聚合體、莎綸、聚乙烯、聚氯乙烯和氯丁橡膠。在潮濕的條件下,四氟化硅迅速水解并產(chǎn)生腐蝕條件。對(duì)干燥的四氟化硅可使用大多數(shù)通用金屬材料,對(duì)潮濕的氣體可以用蒙乃爾等合金。我國(guó)對(duì)永久氣體氣瓶包裝的規(guī)定有GB/T5099(鋼制無(wú)縫氣瓶)、GB/T11640(鋁合金無(wú)縫氣瓶)。對(duì)于四氟化硅,GB/T5099和GB/T11640規(guī)定的氣瓶可以使用瓶,因此本次修訂采用GB/T5099和GB/T11640規(guī)定的氣瓶。《特種設(shè)備生產(chǎn)和充裝單位許可規(guī)則》、TSG23《氣瓶安全技術(shù)規(guī)程》中包括了對(duì)于氣瓶的安全使用和監(jiān)督監(jiān)察,因此本標(biāo)準(zhǔn)采用了此規(guī)程。(2)對(duì)氣瓶?jī)?nèi)表面、瓶口處理的要求鋼制氣瓶、鋁合金氣瓶都可用于裝運(yùn)四氟化硅,鋼瓶標(biāo)稱水容積不得超過(guò)125磅(57kg)。用3AL規(guī)格鋼瓶裝的四氟化硅只允許通過(guò)公路和鐵路運(yùn)輸,并保護(hù)好鋼瓶閥門,作好防漏密封。2014版規(guī)定瓶閥出氣口連接方式推薦使用CGA330,本次修訂與2014版規(guī)定相同。(3)充裝的規(guī)定:2014版規(guī)定充裝符合GB/T14194《壓縮氣體氣瓶充裝規(guī)定》的規(guī)定,本次修訂依然采用GB/T14194。(4)運(yùn)輸和儲(chǔ)存運(yùn)輸時(shí)運(yùn)輸車輛應(yīng)配備相應(yīng)品種和數(shù)量的消防器材及泄漏應(yīng)急處理設(shè)備。運(yùn)輸途中應(yīng)防曝曬、雨淋,防高溫。儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)的庫(kù)房。2.8安全信息2.8.1基本性質(zhì)四氟化硅在常溫常壓下為具有窒息性刺激臭的無(wú)色氣體,空氣中不燃燒。在濕空氣中能形成白色煙霧,水解后生成HF和氟硅酸。2.8.2危險(xiǎn)性概述四氟化硅遇水分解生成的氟化氫等氟化物對(duì)人體產(chǎn)生毒作用。它對(duì)皮膚、眼睛和呼吸道粘膜產(chǎn)生刺激和附屬作用,能引起流淚、眼痛、咳嗽、呼吸困難、肺水腫等癥狀。長(zhǎng)期接觸可引起牙齒酸蝕癥及骨硬化癥。2.8.3急救措施吸入:迅速脫離現(xiàn)場(chǎng)至空氣新鮮處。保持呼吸道通暢。如呼吸困難,給輸氧。呼吸、心跳停止,立即進(jìn)行心肺復(fù)蘇術(shù)。就醫(yī)皮膚接觸:立即脫去污染的衣著,用大量流動(dòng)清水沖洗。如有不適感,就醫(yī)眼晴接觸:分開眼瞼,用流動(dòng)清水或生理鹽水沖洗。如有不適感,就醫(yī)。2.8.4消防措施滅火劑:用水霧、干粉、泡沫或二氧化碳滅火劑滅火。避免使用直流水滅火,直流水可能導(dǎo)致可燃性液體的飛濺,使火勢(shì)擴(kuò)散。特別危險(xiǎn)性:不燃,無(wú)特殊燃爆特性。在潮濕空氣中產(chǎn)生白色有腐蝕性和刺激性的氟化氫煙霧滅火注意事項(xiàng)及防護(hù)措施:切斷氣源。消防人員須佩帶空氣呼吸器,穿全身防火防毒服,在上風(fēng)向滅火。噴水保持火場(chǎng)容器冷卻,直至滅火結(jié)束。盡可能將容器從火場(chǎng)移至空曠處滅火劑:霧狀水、干粉、砂土。2.8.5泄漏應(yīng)急處理作業(yè)人員防護(hù)措施、防護(hù)裝備和應(yīng)急處置程序:根據(jù)氣體擴(kuò)散的影響區(qū)域劃定警戒區(qū),無(wú)關(guān)人員從側(cè)風(fēng)、上風(fēng)向撤離至安全區(qū)。建議應(yīng)急處理人員穿內(nèi)置正壓自給式呼吸器的全封閉防化服。禁止接觸或跨越泄漏物。盡可能切斷泄漏源。防止氣體通過(guò)下水道、通風(fēng)系統(tǒng)和受限空間擴(kuò)散。噴霧狀水抑制蒸氣或改變蒸氣云流向,避免水流接觸泄漏物。禁止用水直接沖擊泄漏物或泄漏源。隔離泄漏區(qū)直至氣體散盡環(huán)境保護(hù)措施:收容泄漏物,避免污染環(huán)境。防止泄漏物進(jìn)入下水道、地表水和地下水。泄漏化學(xué)品的收容、清除方法及所使用的處置材料:小量泄漏:盡可能將泄漏液體收集在可密閉的容器中。用沙土、活性炭或其它惰性材料吸收,并轉(zhuǎn)移至安全場(chǎng)所。禁止沖入下水道。大量泄漏:構(gòu)筑圍堤或挖坑收容。封閉排水管道。用泡沫覆蓋,抑制蒸發(fā)。用防爆泵轉(zhuǎn)移至槽車或?qū)S檬占鲀?nèi),回收或運(yùn)至廢物處理場(chǎng)所處置。2.8.6操作處置與儲(chǔ)存操作注意事項(xiàng):操作人員應(yīng)經(jīng)過(guò)專門培訓(xùn),嚴(yán)格遵守操作規(guī)程。操作處置應(yīng)在具備局部通風(fēng)或全面通風(fēng)換氣設(shè)施的場(chǎng)所進(jìn)行。避免眼和皮膚的接觸,避免吸入蒸汽。遠(yuǎn)離火種、熱源,工作場(chǎng)所嚴(yán)禁吸煙。使用防爆型的通風(fēng)系統(tǒng)和設(shè)備。如需罐裝,應(yīng)控制流速,且有接地裝置,防止靜電積聚。避免與氧化劑等禁配物接觸。搬運(yùn)時(shí)要輕裝輕卸,防止包裝及容器損壞。倒空的容器可能殘留有害物。使用后洗手,禁止在工作場(chǎng)所進(jìn)飲食。配備相應(yīng)品種和數(shù)量的消防器材及泄漏應(yīng)急處理設(shè)備。儲(chǔ)存注意事項(xiàng):耐火設(shè)備(條件)。保存在通風(fēng)良好的室內(nèi)。三、主要試驗(yàn)(或驗(yàn)證)的分析、綜述報(bào)告,技術(shù)經(jīng)濟(jì)論證,預(yù)期的經(jīng)濟(jì)效果1、主要試驗(yàn)(或驗(yàn)證)的分析本標(biāo)準(zhǔn)制定過(guò)程中,起草小組做了大量的試驗(yàn)驗(yàn)證工作,詳見第二章2.5。2、修訂意義及預(yù)期的經(jīng)濟(jì)效果電子級(jí)四氟化硅是一種重要的電子氣體,也是一種重要的工業(yè)基礎(chǔ)材料,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的制造。隨著微電子工業(yè)的迅速發(fā)展,廣大用戶對(duì)電子級(jí)四氟化硅的質(zhì)量提出了更高更苛刻的要求,2014版國(guó)標(biāo)中的產(chǎn)品純度已經(jīng)不能滿足市場(chǎng)和技術(shù)的需求。因此,重新修訂電子級(jí)四氟化硅的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)是我們應(yīng)要進(jìn)行的一項(xiàng)具有深遠(yuǎn)意義的重要工作。通過(guò)修訂標(biāo)準(zhǔn),將引領(lǐng)電子級(jí)四氟化硅規(guī)?;a(chǎn)出,推動(dòng)我國(guó)電子半導(dǎo)體材料行業(yè)發(fā)展和四氟化硅的生產(chǎn)和檢測(cè)合作研發(fā),提升行業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)力,促進(jìn)整個(gè)行業(yè)健康持續(xù)發(fā)展。同時(shí)通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的制定,有利于提高我國(guó)高端電子材料自給能力,推動(dòng)電子相關(guān)產(chǎn)業(yè)進(jìn)步,擴(kuò)大我國(guó)電子科技對(duì)外影響力,有效服務(wù)于國(guó)家戰(zhàn)略需求。因此,修訂后的高純度電子級(jí)四氟化硅產(chǎn)品國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),無(wú)論是國(guó)家需要、市場(chǎng)需要還是對(duì)用戶負(fù)責(zé)都是我們應(yīng)要進(jìn)行的一項(xiàng)具有意義的工作。目前,我國(guó)已具備自主生產(chǎn)超高純四氟化硅的能力。而且隨著四氟化硅應(yīng)用的越來(lái)越廣泛,國(guó)內(nèi)生產(chǎn)廠家將會(huì)增加,本次制定推動(dòng)了國(guó)內(nèi)四氟化硅的產(chǎn)業(yè)化,因此本次修訂將產(chǎn)生以下一些方面的效益:(1)推動(dòng)國(guó)內(nèi)電子用四氟化硅生產(chǎn)產(chǎn)企業(yè)采用先進(jìn)的生產(chǎn)工藝,與國(guó)外先進(jìn)企業(yè)看齊。(2)本次制訂后標(biāo)準(zhǔn)達(dá)到了國(guó)際先進(jìn)水平,提高了國(guó)產(chǎn)電子四氟化硅產(chǎn)品的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力。(3)檢測(cè)方法采用了氦離子化氣相色譜法這種先進(jìn)的方法,為標(biāo)準(zhǔn)使用者提供了更好的指導(dǎo)。(4)包括了安全警示的內(nèi)容,對(duì)使用者提供了很好的幫助。四、采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)和國(guó)外先進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)的程度,以及與國(guó)際、國(guó)外同類標(biāo)準(zhǔn)水平的對(duì)比情況,或與測(cè)試的國(guó)外樣品、樣機(jī)的有關(guān)數(shù)據(jù)對(duì)比情況該標(biāo)準(zhǔn)無(wú)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)可以借鑒,在制定過(guò)程中參考了國(guó)內(nèi)外相關(guān)文獻(xiàn)資料。五、與有關(guān)的現(xiàn)行法律、法規(guī)和強(qiáng)制性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的關(guān)系電子四氟化硅屬于危險(xiǎn)化學(xué)品,在生產(chǎn)、儲(chǔ)運(yùn)和使用環(huán)節(jié)涉及以下多項(xiàng)強(qiáng)制性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),本文件與現(xiàn)行相關(guān)法律、法規(guī)、規(guī)章及相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),特別是強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)是協(xié)調(diào)一致的:GB190危險(xiǎn)貨物包裝標(biāo)志GBl5258化學(xué)品安全標(biāo)簽編寫規(guī)定同時(shí),還應(yīng)符合以下法規(guī):《氣瓶安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程》、《危險(xiǎn)化學(xué)品安全管理?xiàng)l例》等規(guī)定。六、重大分歧意見的處理經(jīng)過(guò)和依據(jù)本次國(guó)標(biāo)的制定無(wú)重大分歧意見。七、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)作為強(qiáng)制性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)或推薦性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的建議建議將該標(biāo)準(zhǔn)作為推薦性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),建議標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布后6個(gè)月實(shí)施。八、貫徹國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的要求和措施建議(包括組織措施、技術(shù)措施、過(guò)渡辦法等內(nèi)容)本次國(guó)標(biāo)的修訂是依據(jù)半導(dǎo)體材料行業(yè)發(fā)展的要求,根據(jù)我國(guó)電子四氟化硅的發(fā)展現(xiàn)狀進(jìn)行的,因此應(yīng)盡快實(shí)施國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。本次修改的內(nèi)容已經(jīng)具有較廣泛的應(yīng)用范圍,具有可靠的技術(shù)措施保證,標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布后將組織相關(guān)生產(chǎn)和應(yīng)用企業(yè)進(jìn)行宣貫培訓(xùn),因此標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施的過(guò)渡期較短(不會(huì)超過(guò)半年)。九、廢止現(xiàn)行有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的建議十、其他應(yīng)予說(shuō)明的事項(xiàng)PDD法測(cè)定氫、氧+氬、氮、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、硫化氫、二氧驗(yàn)一、標(biāo)準(zhǔn)氣體及樣品氣體標(biāo)準(zhǔn)氣體一:組分含量見表1生產(chǎn)單位:大連大特氣體有限公司;表1:標(biāo)氣組分濃度表組分H2O2ArN2COCH4SO2含量(10-6mol/mol)5.25.04.65.85.25.099標(biāo)準(zhǔn)氣體二:組分含量見表2生產(chǎn)單位:大連大特氣體有限公司;表2:標(biāo)氣組分濃度表組分CO2H2S含量(10-6mol/mol)余氣:氦氣標(biāo)準(zhǔn)氣體三:組分含量見表3生產(chǎn)單位:大連大特氣體有限公司;表3:標(biāo)氣組分濃度表組分SO2含量(10-6mol/mol)99.0余氣:氦氣二、儀器分析及數(shù)據(jù)1、氦離子化氣相色譜儀生產(chǎn)單位:上海華愛色譜分析技術(shù)有限公司設(shè)備型號(hào):GC-9560-PDD柱爐:50℃;檢測(cè)器:150℃;輔助箱1:50℃;定量管1:1.0mL;定量管2:1.0mL;載氣(氦氣)流速:30mL/min;2、色譜流程圖圖1PDD檢測(cè)SiF4中H2、O2+Ar、N2、CO2、CH4、CO、H2S、SO2流程圖1-載氣(高純氦氣)2-減壓閥3-定點(diǎn)穩(wěn)壓閥4-純化器5-過(guò)濾器6、7、8、9-氣動(dòng)十通閥10-樣品進(jìn)11-流量計(jì)12、13-定量環(huán)14-碳分子篩15-5A柱17-PLOT-Q毛細(xì)柱18-傳感器19-樣品出20、21、22、23-針閥放空閥24、26-氦離子檢測(cè)器25、27-放空口3、色譜柱預(yù)分離柱Ⅰ:長(zhǎng)約0.6m、內(nèi)徑約2mm的不銹鋼管,內(nèi)裝約粒徑為0.18mm~0.25mm的碳分子篩,或其他等效色譜柱。色譜柱Ⅰ:長(zhǎng)約1.5m、內(nèi)徑約3mm的不銹鋼管,內(nèi)裝粒徑為0.18mm~0.25mm的5A分子篩,或其他等效色譜柱。該柱用于測(cè)定氫、氧+氬、氮、一氧化碳和甲烷含量。色譜柱Ⅱ:長(zhǎng)約2m、內(nèi)徑約2mm的不銹鋼管,內(nèi)裝粒徑為0.18mm~0.25mm的乙基苯乙烯和二乙烯基苯共聚物,或其他等效色譜柱。該柱用于分析二氧化硫含量。色譜柱Ⅲ:長(zhǎng)約30m、內(nèi)徑0.32mm、內(nèi)涂乙基苯乙烯和二乙烯基苯共聚物的毛細(xì)柱,或其他等效色譜柱。該柱用于分析二氧化碳、硫化氫含量。4、標(biāo)氣分析譜圖標(biāo)氣分析譜圖見圖2、圖3、圖4圖2PDD分析標(biāo)氣SiF4中H2、O2+Ar、N2、CH4、CO譜圖圖3PDD分析標(biāo)氣SiF4中SO2譜圖圖4PDD分析標(biāo)氣SiF4中CO2、H2S譜圖三、重復(fù)性計(jì)算公式1、重復(fù)性實(shí)驗(yàn)重復(fù)性以組分的保留時(shí)間、峰高和峰面積測(cè)量的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD表示,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD依下式計(jì)算:式中:RSD——相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(%);n——測(cè)量次數(shù);xi——第i次測(cè)量的保留時(shí)間、峰高或峰面積;x——n次進(jìn)樣的保留時(shí)間、峰高或峰面積算術(shù)平均值;i——進(jìn)樣序號(hào)圖5PDD分析標(biāo)氣SiF4中H2、O2+Ar、N2、CH4、CO重復(fù)性譜圖圖6PDD分析標(biāo)氣SiF4中SO2重復(fù)性譜圖圖7PDD分析標(biāo)氣SiF4中CO2、H2S重復(fù)性譜圖注:A表示峰面積,單位微伏*秒;H表示峰高,單位微伏;Rt表示保留時(shí)間,單位秒;由表5及3.1中各譜圖可知,各個(gè)組分RSD都在3%以下,重復(fù)性較好。2、檢出限實(shí)驗(yàn)最小檢出濃度公式:Cmin=2Nc/H各參數(shù)意義:Cmin——最小檢出濃度,10-6(摩爾分?jǐn)?shù))c——組分濃度,10-6(摩爾分?jǐn)?shù))PDD噪聲10μV最小檢出濃度經(jīng)過(guò)計(jì)算得出:表3:各雜質(zhì)組分最小檢出濃度組分平均峰高標(biāo)氣濃度(摩爾分?jǐn)?shù))最小檢出濃度(摩爾分?jǐn)?shù))H2230055.330×10-64.6×10-9O2/Ar1035369.604×10-61.8×10-9N2342675.825×10-63.4×10-9CO2746134.992×10-61.3×10-9CH4316945.011×10-63.1×10-9CO94995.249×10-611.0×10-9SO210078999.018×10-619.6×10-9H2S1250459.872×10-61.5×10-93、樣品測(cè)試圖8PDD分析標(biāo)氣SiF4中H2、O2+Ar、N2、CH4、CO、H2S樣品譜圖圖9PDD分析標(biāo)氣SiF4中CO2、H2S樣品譜圖表4:樣品檢測(cè)濃度組分H2Ar+O2N2CH4COCO2H2SSO2含量/×10-6(摩爾分?jǐn)?shù))0.672.885.40.05未檢出0.5未檢出未檢出4、結(jié)論本方法對(duì)各組分標(biāo)氣分析3次分析RSD小于3%。此方法在檢測(cè)中組分最小檢出濃度在50×10-9(摩爾分?jǐn)?shù))以下,分析方法對(duì)分析SiF4中各雜質(zhì)組分符合需求。四氟化硅中氟化氫含量的測(cè)定1傅里葉紅外光譜儀及測(cè)試條件1.1儀器型號(hào):美國(guó)PEfrontier1.2環(huán)境溫濕度:溫度:15-30°,濕度:30%-70%1.3氣體池及測(cè)試溫度:20米、100°1.4進(jìn)樣流量:1.5L/min1.5檢測(cè)器:LN2冷卻MCT1.6分辨率:0.5cm-1——16cm-11.7窗片:ZnSe2譜圖2.1傅里葉紅外HF:5×10-6(摩爾分?jǐn)?shù))/N2標(biāo)氣譜圖-圖1圖1傅里葉紅外HF:5ppm/N2標(biāo)氣譜圖2.2傅里葉紅外氟硅醚:50×10-6(摩爾分?jǐn)?shù))/N2標(biāo)氣譜圖-圖2圖2傅里葉紅外氟硅醚的標(biāo)氣譜圖2.3傅里葉紅外四氟化硅樣品氣譜圖-圖3圖3傅里葉紅外四氟化硅樣品譜圖表1檢測(cè)項(xiàng)目測(cè)試位置項(xiàng)目開始點(diǎn)波數(shù)cm-1終點(diǎn)波數(shù)cm-1peakHF404340344039.48508298382.4紅外20米氣體池檢出限表2檢測(cè)項(xiàng)目檢出限項(xiàng)目組分含量×10-6(摩爾分?jǐn)?shù))檢出限×10-6(摩爾分?jǐn)?shù))HF5四氟化硅中金屬元素含量的測(cè)定1.原理按GB/T34972的規(guī)定,氣體中金屬元素通過(guò)洗氣瓶中的吸收液進(jìn)行吸收和富集,吸收液通過(guò)適當(dāng)方式處理后進(jìn)樣。處理后的樣品由載氣引入霧化系統(tǒng)物化,以氣溶膠形式進(jìn)入等離子體中心區(qū),在高溫和惰性氣氛中被去溶劑化、汽化解離和電離,轉(zhuǎn)化成帶正電荷的正離子,經(jīng)離子采集系統(tǒng)進(jìn)入質(zhì)譜儀,質(zhì)譜儀根據(jù)質(zhì)荷比進(jìn)行分離,根據(jù)元素質(zhì)譜峰強(qiáng)度測(cè)定樣品中相應(yīng)元素的含量。2儀器2.1儀器名稱:電感耦合等離子體質(zhì)譜儀2.2儀器參數(shù)儀器型號(hào)ICP-MS8900RF功率1200w進(jìn)樣系統(tǒng)PFA抗氫氟酸霧化室和霧化器霧化氣流量

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