濕法工藝及可靠性測(cè)試系統(tǒng)需求說明

濕法工藝及可靠性測(cè)試系統(tǒng)需求說明1、貨物需求明細(xì)序號(hào)貨物名稱（標(biāo)的名稱）數(shù)量單位1全自動(dòng)去膠剝離機(jī)1臺(tái)2全自動(dòng)刻蝕機(jī)1臺(tái)3高壓加速老化試驗(yàn)箱1臺(tái)4冷熱沖擊試驗(yàn)箱1臺(tái)5高性能溫濕度變化試驗(yàn)箱1臺(tái)2、技術(shù)要求序號(hào)貨物名稱技術(shù)要求1全自動(dòng)去膠剝離機(jī)1.1至少含≥2個(gè)片盒站，適配6英寸、8英寸晶圓。6寸英寸:φ150±0.1mm；翹曲≤100um；基片種類：Si、藍(lán)寶石、鍵合片；厚度300um~1000um；帶notch或flat；8英寸:φ200±0.1mm；翹曲≤100um；基片種類：Si、藍(lán)寶石、鍵合片；1.2晶圓的對(duì)中精度：其復(fù)定位精度≤±0.05mm；1.3機(jī)器人采用6軸機(jī)器人（分別為R1軸、R2軸、R3軸、R4軸、Z軸、T軸）；R1軸臂展：≥460mm；R2軸臂展：≥460mm；R3軸臂展：≥460mm；R4軸臂展：≥460mm；Z軸臂展：≥1300mm；T軸旋轉(zhuǎn)角度:≥330°；1.4機(jī)器人重復(fù)對(duì)位精度≤±0.1mm；漏掃及錯(cuò)掃率≤1/10000；1.5設(shè)備配備滅火器（需滿足國際FM認(rèn)證），滅火器探頭需有溫感以及火焰監(jiān)控功能；1.6機(jī)臺(tái)配備視頻監(jiān)控系統(tǒng)能滿足每個(gè)腔體的監(jiān)控功能，視頻保存時(shí)間≥30天；1.7去膠單元要求：電機(jī)額定轉(zhuǎn)速：≥1000rpm；最大轉(zhuǎn)速：≤2000rpm；在50～2000rpm轉(zhuǎn)速下，轉(zhuǎn)速控制精度：≤±1rpm；最大加速度：≥1000rpm/s；具備正反轉(zhuǎn)功能，可通過軟件設(shè)定；1.8高壓NMP臂要求：高壓泵出口壓力最高壓力滿足≤23MPa可調(diào)；柱狀噴嘴直徑：0.2mm；扇狀噴嘴角度：25°；噴嘴形式：柱狀或扇狀可選；噴嘴角度、高度可調(diào)節(jié)；1.9高壓NMP臂藥液溫控范圍：25℃～85℃，精度≤±2℃，溫度軟件可設(shè)置、可監(jiān)控；1.10常壓NMP臂要求：噴管口徑：1/8；噴管壓力：0~0.2MPa；噴管流量：≥1L/min；1.11常壓NMP臂藥液溫控范圍：25℃～85℃，精度≤±2℃，溫度軟件可監(jiān)控、設(shè)置；1.12藥液循環(huán)過濾使用，≥7級(jí)過濾，其中一級(jí)過濾精度≤0.1um；1.13清洗單元：電機(jī)額定轉(zhuǎn)速：≥1000rmp；最大轉(zhuǎn)速上限≥2000rmp；在50～2000rmp轉(zhuǎn)速下，轉(zhuǎn)速控制精度：≤±1rmp，最大加速度：≥1000rmp/s，具備正反轉(zhuǎn)功能，可通過軟件設(shè)定；1.14具備2個(gè)（IPA和DIW）清洗臂；噴嘴直徑：?管徑；噴嘴流量：≥1L/min；1.15具備1個(gè)N2吹干臂；噴管口徑：?管徑；噴管壓力：0~0.3MPa；噴管流量：≥10L/min；溫控范圍：等于25℃~120℃；N2過濾直徑：≤0.003μm；1.16浸泡槽體：兼容6英寸和8英寸片盒，最大放置片數(shù)Max≤12pcs；1.17浸泡槽溫控范圍：25℃~85℃；溫控精度≤±2℃；1.18浸泡方式：Cassette（晶圓載具）傾斜放置上下抖動(dòng)，抖動(dòng)頻率可設(shè)置（20~60次/分），振幅30~60mm，每片浸泡時(shí)間軟件獨(dú)立可控；1.19藥液壽命卡控方式：支持時(shí)間卡控和片數(shù)卡控；1.20浸泡槽需要具備超聲功能；超聲頻率：≥40KHZ；功率:≥950W；1.21浸泡卡塞傾斜角度可軟件進(jìn)行設(shè)定，傾斜角度0°~90°；1.22設(shè)備配備≥15寸觸摸屏，操作系統(tǒng)win10及以上，通訊方式EtherCAT，并且?guī)щp硬盤一備一用；1.23設(shè)備有條形碼（barcode）掃描功能，作業(yè)數(shù)據(jù)可以有（可繪制流量、壓力、轉(zhuǎn)速、溫度等工藝曲線）；1.24設(shè)備穩(wěn)定性：MTBF：≥500Hours；MTTR：≤4Hours；Waferbreakage：≤1per10,000；Uptime：≥95%；1.25去膠完成后樣品可達(dá)指標(biāo)：用100倍顯微鏡檢查無任何金屬屑?xì)埩?；?00倍顯微鏡檢查無任何PR殘留；用100倍顯微鏡檢查無任何WaterMark殘留；用100倍顯微鏡檢查無任何圖形形貌缺損；1.26具有片盒放片及滑出檢測(cè)功能；1.27設(shè)備框架：雙鏡面不銹鋼板；2全自動(dòng)刻蝕機(jī)2.1具備2個(gè)片盒站，適用晶圓尺寸：6英寸和8英寸；6英寸：φ150±0.1mm；翹曲度≤100um；基片種類：Si、藍(lán)寶石、鍵合片；適配材料厚度：300um~1000um；帶notch或flat；8寸：φ200±0.1mm；翹曲度≤100um；基片種類：Si、藍(lán)寶石、鍵合片；適配材料厚度：300um~1000um；帶notch；2.2晶圓的對(duì)中精度：復(fù)定位精度≤±0.05mm；2.3機(jī)器人采用5軸（分別為R1軸、R2軸、Z軸、T軸、X軸），重復(fù)定位精度≤±0.05mm；2.4主軸電機(jī)：主軸轉(zhuǎn)速工作轉(zhuǎn)速范圍：0～3000rpm（空載）；轉(zhuǎn)速精度：≤±1rpm（50~3000rpm）；最小調(diào)整量：≤1rpm；2.5夾晶圓固定方式：真空吸附；2.6腔體掃描臂結(jié)構(gòu)：伺服電機(jī)線型模組結(jié)構(gòu)；噴嘴出液控制：高精氣控回吸閥；噴嘴形狀：柱狀；噴嘴直徑：?管徑；2.7刻蝕液溫度控制：在25℃～40℃溫度范圍內(nèi)，刻蝕液溫度控制精度：≤±0.5℃；在40℃～80℃溫度范圍內(nèi)，刻蝕液溫度控制精度：≤±1℃；2.8刻蝕液噴頭流量標(biāo)準(zhǔn)：刻蝕液：500~1500mL/min；DIW：500~1500mL/min；N2：0~50L/min；2.9設(shè)備每個(gè)腔體帶FFU要求≥99.9995%@0.12um，腔體上方吹入；2.10靜電消除器要求：在≤3秒時(shí)間內(nèi)，可實(shí)現(xiàn)控制靜電從±1000V消除至100V；2.11設(shè)備需配備手動(dòng)水槍和氣槍，用于設(shè)備清潔和緊急處理；2.12設(shè)備需要配備化學(xué)品柜材質(zhì)，不銹鋼框架，PP材料包覆；原液桶配備液位檢測(cè)；2.13過濾器等級(jí)要求:DIW過濾器：≤0.1um；刻蝕液過濾器：≤0.1um；N2過濾器：≤0.003um；2.14刻蝕腔要求：具備2個(gè)刻蝕腔；1號(hào)刻蝕腔要求：可刻蝕Cu；Arm1：KS6205-Y（40度、回收循環(huán)）；Arm2：N2+DIW（直排）；FIXArm（固定臂）：DIW；背噴：DIW+N2；2號(hào)刻蝕腔要求：可刻蝕Ti；Arm1：KS6506A/B（40度、回收循環(huán)、在線配比）；Arm2：N2+DIW（直排）；FIXArm（固定臂）：DIW；背噴：DIW+N2；2.15設(shè)備配備≥15寸觸摸屏，操作系統(tǒng)win10及以上，通訊方式EtherCAT，并且?guī)щp硬盤一備一用；2.16設(shè)備自帶視頻監(jiān)控功能，視頻可保存≥30天，UPS電源≥20min緊急斷電后，可供工控機(jī)數(shù)據(jù)保存，防止數(shù)據(jù)丟失；2.17，設(shè)備有條形碼（barcode）掃描功能，作業(yè)數(shù)據(jù)可以有（可繪制流量、壓力、轉(zhuǎn)速、溫度等工藝曲線）；2.18設(shè)備穩(wěn)定性要求：MTBF：≥400Hours；MTTR：≤4Hours；Waferbreakage：≤1per10000；Uptime：≥95%；2.19刻蝕一致性要求：≤5%(片間&片內(nèi)）；頂部和底部尺寸差值：≤0.7um；2.20設(shè)備支持log（日志）導(dǎo)出功能，包含（流量、壓力、轉(zhuǎn)速、溫度等核心參數(shù)），且參數(shù)可以以工藝曲線方式呈現(xiàn)。2.21生成、工藝、設(shè)備權(quán)限密碼管理，模塊功能，可由設(shè)備最高權(quán)限分配。3高壓加速老化試驗(yàn)箱3.1內(nèi)容積：≥21L，方式：一箱型；工作模式包含：不飽和模式、潤濕飽和模式和干濕球溫度控制模式；3.2可在0～40℃溫度范圍內(nèi)正常工作，可在最高濕度為75%的環(huán)境中正常工作，工作噪音≤50dB；3.3不飽和模式：溫度控制范圍：105.0～162.2℃；濕度控制范圍：75～100%rh；壓力控制范圍：0.02～0.392Mpa；溫度波動(dòng)度：≤±0.3℃；溫度梯度：≤3℃，溫度偏差：≤±3℃；濕度波動(dòng)：≤±2.5%rh；加壓速度：0到0.392MPa，時(shí)間≤45min；3.4潤濕飽和模式：溫度控制范圍：105.0～151.1℃；壓力范圍：等于0.02～0.392Mpa；溫度波動(dòng)度：≤±0.3℃；溫度梯度：≤3℃，溫度偏差：≤±3℃；加壓速度：0到0.392MPa，時(shí)間≤60min；3.5干濕球溫度控制：溫度控制范圍：105.6～162.2℃；濕度控制范圍：75～95%rh；壓力范圍：0.02～0.392Mpa；溫度波動(dòng)度：≤±0.3℃；溫度梯度：≤3℃，溫度偏差：≤±3℃；濕度波動(dòng)：≤±2.5%rh；加壓速度：0到0.392MPa，時(shí)間≤75min；3.6需有觸摸式顯示控制屏，配備外部存儲(chǔ)接口。觸摸式顯示控制屏尺寸不低于5.7英寸，為彩色背光LED顯示屏，設(shè)計(jì)壽命不低于40000小時(shí)；3.7操作界面適應(yīng)科研用戶對(duì)“不飽和控制、潤濕飽和控制、干濕球控制”一鍵模式切換，并且具備不低于10組定值設(shè)定和程序設(shè)定，每組程序不低于30個(gè)步驟，試驗(yàn)時(shí)間0.1～999.9小時(shí)、以0.1小時(shí)為單位；4冷熱沖擊試驗(yàn)箱4.1箱體內(nèi)容積≥10.9L；試驗(yàn)區(qū)承重≥8Kg；4.2高溫曝露和低溫暴露溫度要求：高溫曝露溫度范圍：包含60℃～200℃；預(yù)熱上限：≥＋205℃；低溫曝露溫度范圍：包含-65℃～0℃；預(yù)冷下限：≤-82℃；溫度波動(dòng)度≤±0.5℃；溫度偏差≤±2.0℃；4.3升溫降溫能力：在≤30min時(shí)間內(nèi)從室溫升溫到+200℃，在≤90min時(shí)間內(nèi)從室溫溫降溫到-80℃；4.4采用兩溫區(qū)結(jié)構(gòu)，以4kg試樣（含塑料封裝IC2kg）為例：將樣品從高溫150℃環(huán)境下曝露30分鐘，10S內(nèi)移到低溫-65℃環(huán)境下曝露30分鐘，腔體內(nèi)的溫度恢復(fù)時(shí)間≤5min；4.5設(shè)備工作環(huán)境：可在0～40℃溫度范圍內(nèi)工作；可在最高濕度為75%rh的環(huán)境中正常運(yùn)行；工作噪音不高于65dB；4.6箱體外殼為表面涂裝的經(jīng)防銹處理的冷軋鋼板，試驗(yàn)箱體為經(jīng)過拋光處理的18-8Cr-Ni不銹鋼，其采用的隔熱材料須為環(huán)保無害的高效隔熱阻燃材料；4.7試驗(yàn)箱的門需配備觀察窗，具備燈光照明，需有觸摸式顯示控制屏，配備外部存儲(chǔ)接口。觸摸式顯示控制屏尺寸不低于9英寸，為彩色背光LED顯示屏，設(shè)計(jì)壽命不低于80000小時(shí)，需帶有顯示屏的燈光開關(guān)；4.8操作界面語言包含：中文（簡(jiǎn)體）、中文（繁體）、日文、英文、韓文（無須再啟動(dòng)即可更換畫面設(shè)定）等；5高性能溫濕度變化試驗(yàn)箱5.1可設(shè)溫度范圍：－75℃～＋180℃；5.2溫度控制波動(dòng)范圍：≤±0.3℃；5.3溫度梯度：≤3.0℃；5.4空間溫度偏差：≤3.0℃；5.5溫度變化速率：在-49.5℃～+154.5℃的溫度范圍內(nèi)：溫度上升速度（平均）：6.0℃/min；溫度下降速度（平均）4.9℃/min；5.6溫度極值達(dá)到時(shí)間：溫度上升時(shí)間：在≤35min的時(shí)間內(nèi)，可使材料溫度從＋20℃上升至＋180℃；溫度下降時(shí)間：在≤45min的時(shí)間內(nèi)，可使材料溫度從＋20℃下降至—75℃；5.