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ShanghaiSiMATMicroelectronicsTechnologyCo.,LtdShanghaiSiMATMicroelectronicsTechnologyCo.,LtdDocumentNo.:ASY-AE08彈坑實驗與判別作業(yè)指導(dǎo)書InternaluseonlyxConfidentialRevision:00PagePAGE1of6TopconfidentialPAGEThisdocumentanditsinformationhereinarethepropertyofSiMATandallunauthorizeduseandreproductionareprohibited.REV.EFFECTIVEDATEDESCRIPTIONAPPROVECHECKORIGINATOR008/08/2008InitialIssueJinhuachen談紅英沈海軍目的:測試鍵合焊接對產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生的影響,保證產(chǎn)品質(zhì)量。適用范圍:所有MOSFET芯片系列產(chǎn)品;控制計劃要求做彈坑試驗的產(chǎn)品。三.作業(yè)頻率:每周一鍵合現(xiàn)作業(yè)的產(chǎn)品都要做彈坑,新產(chǎn)品改機后應(yīng)及時作業(yè)彈坑試驗,調(diào)用程序的產(chǎn)品可在做彈坑的同時開機作業(yè),若彈坑不良請統(tǒng)計數(shù)量,批次。彈坑試驗作業(yè)及判斷方法1鹽酸溶液試驗〔主要適用于Mosfet產(chǎn)品,如附圖1所示〕〔附圖1〕1.1將濃度為36%鹽酸與水以1:2.5稀釋后加熱至80±51.2將焊線剪切后的制品完全浸入溶液浸10-15分鐘,剪切方法如下圖:沿框架管腳邊緣(箭頭所示位置)用鋒利的刀片剪切,剪切之后的制品必須在實體顯微鏡下確認(rèn)第一焊點金球狀況,防止因線弧較短時或者剪切不當(dāng)將金球帶起,引起彈坑。割線后的制品,需用撥針將金線沿載片臺邊緣〔金球遠(yuǎn)端〕將金線輕輕挑起,防止金線黏附在載片臺上,操作過程中絕對禁止金球受力?!哺礁罹€后/撥線后圖片〕割線后產(chǎn)品撥線后產(chǎn)品1.3將已腐蝕干凈的制品分別放入水與酒精中,各用超聲波清洗3~5分鐘,然后晾干或吹干。注意:在整個作業(yè)(包括清洗)過程中,不可以將制品用力在溶液中晃動。不可以采用任何拔線方式去除未腐蝕掉的焊線。1.4將晾干后的制品在200倍或200倍以上顯微鏡下進行判定并填寫《彈坑試驗記錄表》1.5配置的溶液使用12小時必須更換,即溶液使用期限為12小時。1.6產(chǎn)品檢驗判定方法←OK←NG具體內(nèi)容圖例(實物圖)彈坑判斷標(biāo)準(zhǔn)劈刀壓著處無裂紋、變形時OK.(右圖)OKOKNGNG2氫氧化鉀溶液試驗〔主要適用于IC電路產(chǎn)品,如附圖2所示〕圖2〕2.1在量杯中,用電子稱稱取適量氫氧化鉀2.2以1:10的比例,用水溶解氫氧化鉀后加熱至80±52.3將制品(制品處理同1.2的方法)完全浸入溶液,煮10-20分鐘2.4將已腐蝕干凈的制品分別放入水與酒精中,各用超聲波清洗3~5分鐘,然后晾干或吹干。注意在整個作業(yè)(包括清洗)過程中,不可以將制品用力在溶液中晃動。2.5將晾干后的制品在200倍或200倍以上顯微鏡下進

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