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普通酸性硫酸鹽鍍銅清潔生產(chǎn)推薦技術(shù)技術(shù)說明酸性硫酸鹽鍍銅液主要是硫酸銅和硫酸組成,溶液中存在的大量二價銅離子在外電流的作用下,在陰極上放電而獲得銅鍍層。在使用該方法時應(yīng)該考慮鍍液中銅鹽的濃度、游離硫酸含量、溫度、陰陽極電流密度以及攪拌程度及類型等因素的影響。①工藝規(guī)范成分及工藝參數(shù)配方1配方2硫酸銅(g/L)200~250150~200硫酸(g/L)50~7045~65葡萄糖(g/L)30~35溫度(℃)15~2520~30電流密度(A/dm2)1~21~3(=2\*romanii)工藝規(guī)范的影響溫度:操作溫度一般在15~35℃范圍內(nèi),如果溶液溫度過低,不但工作電流低,而且硫酸銅容易析出,提高溶液溫度能增加溶液的導(dǎo)電度,但會使鍍層結(jié)晶粗糙。電流密度:電流密度的大小取決于鍍液濃度、溫度和攪拌等因素。提高鍍液中銅離子濃度、升高溫度、增加攪拌,可以增大工作電流密度,加快沉積速度。但電流密度過大,會使鍍層粗糙,甚至鍍出海綿狀的鍍層。攪拌:采用陰極移動,可以提高工作電流密度,加快沉積速度,但必須在提高溫度和提高電流密度相結(jié)合下效果才好。單純攪拌而不提高電流密度會使鍍層粗糙。陽極:若采用含磷(0.1%~0.3%)的磷銅板可以減少銅粉。陽極與陰極面積比一般為(1~2):1,在硫酸含量正常情況下,陽極不會鈍化,只有硫酸含量過低和電流密度較高時才會出現(xiàn)。陽極應(yīng)裝入聚丙烯陽極套內(nèi),防止溶解泥渣進(jìn)入溶液使鍍層粗糙。(=3\*romaniii)雜質(zhì)的影響和去除砷、銻:鍍液中含砷、銻雜質(zhì)會使鍍層粗糙、脆性大。采用較高的電流密度進(jìn)行電解處理,可除去砷、銻雜質(zhì)。氯離子:氯離子允許含量為0.02~0.08g/L,當(dāng)超過0.08g/L時,鍍層粗糙。可采用較低電流密度進(jìn)行電解處理至正常為止,或用1~3g/L鋅粉調(diào)成糊狀,在攪拌下加入鍍槽,再加入2g/L活性炭吸附后過濾除去。有機(jī)雜質(zhì):鍍液中有機(jī)雜質(zhì)過多時,鍍層有光亮的條紋??捎?~5g/L活性炭吸附后除去。適用范圍(替代的落后技術(shù))酸性硫酸鹽鍍銅是一種裝飾性電鍍的中間鍍層,其鍍層光亮、韌性好、整平性好,且生產(chǎn)成本低。硫酸鹽鍍銅可按溶液的特性分為普通鍍液和光亮鍍液。主要環(huán)境、經(jīng)濟(jì)指標(biāo)普通硫酸鹽鍍銅溶液成分簡單、容易控制、電流效率高,可鍍?nèi)≥^厚的鍍層,成本較低。缺點(diǎn)是分散能力較差,鍍層結(jié)晶不夠細(xì)致,鋼鐵零件不能直接鍍銅,需預(yù)鍍鎳。
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