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PAGE5-專題9電解質溶液1.(2024·合肥模擬)下列試驗操作、現象及得出的結論均正確的是(B)選項試驗操作試驗現象試驗結論ACu片與足量濃硫酸加熱反應,冷卻后,再將冷水緩慢加入盛有反應混合物的燒杯中溶液變藍證明反應生成了Cu2+B向添加KIO3的食鹽中加入淀粉溶液、稀硫酸、KI溶液溶液變藍氧化性:IOeq\o\al(-,3)>I2C向20.00mL濃度均為0.1mol/L的Na2CO3和Na2S的混合溶液中滴加幾滴等濃度的AgNO3溶液只產生黑色沉(Ag2S)Ksp(Ag2S)>Ksp(Ag2CO3)D室溫下,用pH試紙分別測定濃度均為0.1mol/L的Na2SO3和NaHSO3兩種溶液的pHpH:Na2SO3>NaHSO3HSOeq\o\al(-,3)結合H+實力比SOeq\o\al(2-,3)的強【解析】混合物中含有濃度較大的硫酸,應將反應后混合物注入水中,溶液變藍,操作不正確,A錯誤;向添加KIO3的食鹽中加入淀粉溶液、稀硫酸、KI溶液,發(fā)生反應:IOeq\o\al(-,3)+6H++5I-3I2+3H2O,反應產生的I2遇淀粉溶液變?yōu)樗{色,因此會看到溶液變?yōu)樗{色,在該反應中氧化劑是KIO3,I2是氧化產物,依據氧化還原反應的規(guī)律,氧化性:氧化劑>氧化產物,所以可證明氧化性:IOeq\o\al(-,3)>I2,B正確;Ag2S與Ag2CO3的組成相像,Ksp小的先產生沉淀,由于向等濃度等體積的Na2CO3和Na2S的混合溶液中滴加幾滴等濃度的AgNO3溶液,先產生黑色Ag2S沉淀,說明Ksp(Ag2S)<Ksp(Ag2CO3),C錯誤;依據鹽的水解規(guī)律:越弱越水解,即形成鹽的酸的酸性越弱,其酸根離子結合H+實力就越強,等濃度的Na2SO3和NaHSO3兩種溶液pH:Na2SO3>NaHSO3,說明結合H+的實力:SOeq\o\al(2-,3)>HSOeq\o\al(-,3),D錯誤。2.(2024·蚌埠模擬)常溫下,向20mL0.05mol·L-1的某稀酸H2B溶液中滴入0.1mol·L-1氨水,溶液中由水電離出氫離子濃度隨滴入氨水體積改變如圖。下列分析正確的是(D)A.NaHB溶液可能為酸性,也可能為堿性B.A、B、C三點溶液的pH是漸漸減小,D、E、F三點溶液的pH是漸漸增大C.E溶液中離子濃度大小關系:c(NHeq\o\al(+,4))>c(B2-)>c(OH-)>c(H+)D.F點溶液c(NHeq\o\al(+,4))=2c(B2-)【解析】由A點可知NaHB屬于強酸的酸式鹽,NaHB溶液應當呈酸性,A錯誤;向酸溶液中漸漸加入堿發(fā)生中和反應,混合液pH是漸漸增大的,B錯誤;E點溶液由(NH4)2B和氨水混合而成,由于水電離的c(H+)>1×10-7mol/L,溶液中H+全部來自水電離,則E點水溶液顯酸性,所以c(H+)>c(OH-),C錯誤;F點溶液由(NH4)2B和氨水混合而成,由于水電離的c(H+)=1×10-7mol/L,溶液中H+全部來自水電離,則F點水溶液呈中性,此時溶液中的電荷守恒有:c(NHeq\o\al(+,4))+c(H+)=c(OH-)+2c(B2-),因c(H+)=c(OH-),所以有c(NHeq\o\al(+,4))=2c(B2-),D正確。3.(2024·成都模擬)常溫下,CaSO4在水中的沉淀溶解平衡曲線如圖所示。下列推斷正確的是(A)A.曲線上隨意一點的Ksp都相同B.在CaSO4飽和溶液中加入Na2SO4固體,可使溶液由b點改變到c點C.蒸發(fā)水后,可使溶液由d點改變到b點D.常溫下,CaSO4的Ksp的數量級為10-5【解析】Ksp只與溫度有關,在曲線上的隨意一點的溫度相同,溫度不變Ksp不變,在曲線上的隨意一點Ksp都相等,A正確;在CaSO4飽和溶液中加入Na2SO4固體,CaSO4的沉淀溶解平衡CaSO4(s)Ca2+(aq)+SOeq\o\al(2-,4)(aq)逆向移動,使溶液中c(Ca2+)降低,最終達到平衡時c(SOeq\o\al(2-,4))>c(Ca2+),所以可使溶液由b點改變到e點,但是不行能由b點改變到c點,B錯誤;d點為達到沉淀溶解平衡,蒸發(fā)水后,溶液中c(SOeq\o\al(2-,4))、c(Ca2+)都增大,所以不行能使溶液由d點改變到b點,C錯誤;常溫下,CaSO4的Ksp=c(Ca2+)·c(SOeq\o\al(2-,4)),依據b點計算,Ksp=c(Ca2+)·c(SOeq\o\al(2-,4))=3×10-3mol/L×3×10-3mol/L=9×10-6mol2/L2,可見CaSO4的Ksp的數量級為10-6,D錯誤。4.(2024·阜陽模擬)常溫下,向1L0.1mol·L-1NH4Cl溶液中不斷加入固體NaOH后,NHeq\o\al(+,4)與NH3·H2O的改變趨勢如右圖所示(不考慮體積改變和氨的揮發(fā)),下列說法不正確的是(C)A.M點溶液中水的電離程度比原溶液小B.在M點時,n(OH-)-n(H+)=(a-0.05)molC.隨著NaOH的加入,eq\f(cNH3·H2O,cOH-)不斷增大D.當n(NaOH)=0.05mol時,溶液中有:c(Cl-)>c(NHeq\o\al(+,4))>c(Na+)>c(OH-)>c(H+)【解析】M點是向1L0.1mol·L-1NH4Cl溶液中,不斷加入NaOH固體后,反應得到氯化銨和一水合氨的混合溶液,溶液中銨根離子濃度和一水合氨濃度相同,一水合氨是一元弱堿抑制水電離,此時水的電離程度小于原氯化銨溶液中水的電離程度,故A正確;依據電荷守恒c(H+)+c(NHeq\o\al(+,4))+c(Na+)=c(OH-)+c(Cl-),可得n(OH-)-n(H+)=[c(NHeq\o\al(+,4))+c(Na+)-c(Cl-)]×1L,在M點時c(NHeq\o\al(+,4))=0.05mol·L-1,c(Na+)=amol·L-1,c(Cl-)=0.1mol·L-1,帶入數據可得n(OH-)-n(H+)=[0.05mol·L-1+amol·L-1-0.1mol·L-1]×1L=(a-0.05)mol,故B正確;氨水的電離常數Kb=eq\f(cNH\o\al(+,4)cOH-,cNH3·H2O),則eq\f(cNH3·H2O,cOH-)=eq\f(cNH\o\al(+,4),Kb),溫度不變Kb不變,隨著NaOH的加入,c(NHeq\o\al(+,4))不斷減小,eq\f(cNH\o\al(+,4),Kb)不斷減小,則eq\f(cNH3·H2O,cOH-)不斷減小,故C錯誤;當n(NaOH)=0.05mol時,NH4Cl和NaOH反應后溶液中溶質為等物質的量的NH3·H2O和NH4Cl、NaCl,NH3·H2O的電離程度大于NH4Cl水解程度,導致溶液呈堿性,鈉離子、氯離子不水解,所以溶液中離子濃度大小依次是c(Cl-)>c(NHeq\o\al(+,4))>c(Na+)>c(OH-)>c(H+),故D正確。5.(2024·青島模擬)銻(Sb)廣泛用于生產各種阻燃劑、陶瓷、半導體元件、醫(yī)藥及化工等領域。以輝銻礦(主要成分為的Sb2S3,還含有As2S5、PbS、CuO和SiO2等)為原料制備金屬銻,其一種工藝流程如下:已知:Ⅰ.浸出液主要含鹽酸和SbCl3,還含SbCl5、CuCl2、AsCl3和PbCl2等雜質。Ⅱ.25℃時,Ksp(CuS)=1.0×10-36,Ksp(PbS)=9.0×10-29?;卮鹣铝袉栴}:(1)“酸浸”過程中SbCl5和Sb2S3發(fā)生反應有一種單質和還原產物SbCl3生成,則濾渣I的成分是__S、SiO2__(填化學式)。(2)寫出“還原”反應的化學方程式__3SbCl5+2Sb5SbCl3__。(3)已知浸出液中c(Cu2+)=0.01mol·L-1、c(Pb2+)=0.10mol·L-1。在沉淀銅、鉛過程中,緩慢滴加極稀的硫化鈉溶液,先產生的沉淀是__CuS__(填化學式);當CuS、PbS共沉時,eq\f(cPb2+,cCu2+)=__9.0×107__。(4)在“除砷”過程中,氧化產物為H3PO4,則該反應中氧化劑、還原劑的物質的量之比為__4∶3__。(5)在“電解”過程中,以惰性材料為電極,陽極的電極反應式為__2Cl--2e-Cl2↑__,繼而發(fā)生反應__Sb3+-2e-Sb5+__(寫出離子方程式)以實現溶液中Sb元素的循環(huán)運用?!半娊狻敝袉挝粫r間內銻的產率與電壓大小關系如圖所示。當電壓超過U0V時,單位時間內產率降低的緣由可能是__H+參加了電極反應__?!窘馕觥?1)依據浸出液成分可知,“酸浸”過程中SbCl5和Sb2S3反應有S和SbCl3生成,則濾渣I的成分是S、SiO2。(2)“還原”過程中Sb將SbCl5還原為SbCl3,反應的化學方程式3SbCl5+2Sb5SbCl3。(3)浸出液中c(Cu2+)=0.01mol·L-1、c(Pb2+)=0.10mol·L-1,常溫下,Ksp(CuS)=1.0×10-36,銅離子起先沉淀須要的硫離子濃度為1.0×10-34mol/L;Ksp(PbS)=9.0×10-29,鉛離子起先沉淀須要的硫離子濃度為9.0×10-28mol/L;故在沉淀銅、鉛過程中,緩慢滴加極稀的硫化鈉溶液,先產生的沉淀是CuS;當CuS、PbS共沉時,eq\f(cPb2+,cCu2+)=eq\f(KspPbS,KspCuS)=eq\f(9×10-29,10-36)=9×107。(4)在“除砷”過程中,NaH2PO2是還原劑,其氧化產物為H3PO4,P的化合價由+1上升到+5,而As的化合價由+3降到0,依據得失電子守恒,該反應中氧化劑、還原劑的物質的量之比4∶3。(5)在“電解”過程中,以惰性材料為電極,陽極發(fā)生氧化反應,陽極的電極反應式為2Cl--2e-Cl2↑,繼而發(fā)生反應Sb3+-2e-Sb5+;由“電解”中銻的產率與電壓大小關系示意圖可知,當電壓超過U0V時,銻的產率降低,其緣由可能是H+參加了電極反應。6.某硫酸工廠的廢水中含有較多的H+、Cu2+、Fe2+、SOeq\o\al(2-,4)、AsOeq\o\al(3-,4)、HAsOeq\o\al(2-,4)、H2AsOeq\o\al(-,4)等須要處理的雜質離子,其中一種處理流程如圖所示:已知:Ksp[Cu(OH)2]=2.2×10-20,Ksp[Fe(OH)2]=8.6×10-16;H3AsO4為弱酸。(1)沉淀A的主要成分是__CaSO4__(填化學式)。(2)常溫下pH=7的溶液中Cu2+的物質的量濃度為__2.2×10-6mol·L-1__,此時Fe2+是否沉淀完全:__否__(填“是”或“否”)。(3)若氧化過程中生成了某種膠體,用離子方程式說明氧化過程中溶液pH降低的緣由__4Fe2++O2+10H2O4Fe(OH)3(膠體)+8H+__。(4)最終一次調整pH時,pH過低或過高砷的去除率都會明顯降低,pH過低時可能的緣由是__H+會抑制H3AsO4的電離,溶液中AsOeq\o\al(3-,4)濃度較小,不易與Fe3+形成沉淀__(從平衡角度說明);pH過高時可能的緣由是__FeAsO4會轉化為Fe(OH)3沉淀,AsOeq\o\al(3-,4)又進入水中(合理即可)__(從沉淀轉化的角度說明)?!窘馕觥恳罁﨣sp[Cu(OH)2]=2.2×10-20,Ksp[Fe(OH)2]=8.6×10-16可知,銅離子完全沉淀時的c(OH-)=eq\r(\f(Ksp[CuOH2],1.0×10-5))=eq\r(\f(2.2×10-20,1.0×10-5))=eq\r(22)×10-8(mol·L-1),pH約為7;亞鐵離子完全沉淀時的c(OH-)=eq\r(\f(Ksp[FeOH2],1.0×10-5))=eq\r(\f(8.6×10-16,1.0×10-5))=eq\r(86)×10-6(mol·L-1),pH約為9;H3AsO4為弱酸。依據上述計算,在廢水中加入石灰乳,并調整pH=3,只有硫酸根離子可能形成沉淀,加入氫氧化鈉調整pH=7,能夠使銅離子沉淀,通入空氣將亞鐵離子氧化為鐵離子,加入氫氧化鈉調整pH=5~7,形成FeAsO4沉淀。(1)沉淀A的主要成分為硫酸鈣。(2)常溫下pH=7的溶液中Cu2+的物質的量濃度為eq\r(\f(Ksp[CuOH2],1.0×10-72))=eq\f(2.2×10-20,1.0×10-72)=2.2×10-6mol·L-1,此時c(Fe2+)=eq\r(\
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