玻璃制品光學(xué)鍍膜技術(shù)考核試卷

玻璃制品光學(xué)鍍膜技術(shù)考核試卷考生姓名：__________答題日期：_______年__月__日得分：_________判卷人：_________

一、單項(xiàng)選擇題（本題共20小題，每小題1分，共20分，在每小題給出的四個(gè)選項(xiàng)中，只有一項(xiàng)是符合題目要求的）

1.光學(xué)鍍膜按功能分類，以下哪一項(xiàng)不屬于光學(xué)鍍膜的功能？（）

A.反射鍍膜

B.抗反射鍍膜

C.透明鍍膜

D.磨砂鍍膜

2.下列哪種材料常用作光學(xué)鍍膜的底層材料？（）

A.氧化硅

B.氧化鋁

C.碳化硅

D.鉻

3.在光學(xué)鍍膜中，用來提高膜層附著力的鍍膜材料是（）

A.鈦

B.鋁

C.鎳

D.金

4.下列哪種光學(xué)鍍膜技術(shù)不屬于物理氣相沉積？（）

A.磁控濺射

B.離子束鍍膜

C.電子束蒸發(fā)

D.化學(xué)氣相沉積

5.以下哪種光學(xué)鍍膜材料具有高折射率？（）

A.氧化硅

B.氧化鋅

C.硅氧化物

D.氮化硅

6.在光學(xué)鍍膜過程中，以下哪種現(xiàn)象會(huì)導(dǎo)致膜層應(yīng)力增大？（）

A.鍍膜速率過快

B.鍍膜速率過慢

C.鍍膜溫度過高

D.鍍膜溫度過低

7.以下哪種光學(xué)鍍膜結(jié)構(gòu)具有減反射功能？（）

A.單層膜

B.雙層膜

C.多層膜

D.以上都對(duì)

8.下列哪種光學(xué)鍍膜技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)大面積均勻鍍膜？（）

A.磁控濺射

B.電子束蒸發(fā)

C.離子束鍍膜

D.激光鍍膜

9.在光學(xué)鍍膜中，以下哪種材料具有優(yōu)異的耐候性？（）

A.鋁

B.鈦

C.鉻

D.鎳

10.以下哪個(gè)因素會(huì)影響光學(xué)鍍膜的折射率？（）

A.鍍膜材料

B.鍍膜速率

C.鍍膜溫度

D.以上都對(duì)

11.以下哪種光學(xué)鍍膜結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)寬帶減反射？（）

A.單層膜

B.雙層膜

C.多層膜

D.帶通濾光片

12.在光學(xué)鍍膜中，以下哪種材料常用于制備反射膜？（）

A.氧化硅

B.氧化鋁

C.鉻

D.金

13.以下哪種方法可以檢測(cè)光學(xué)鍍膜的厚度？（）

A.折射率測(cè)量

B.透射率測(cè)量

C.針刺法

D.光學(xué)顯微鏡

14.以下哪種因素會(huì)影響光學(xué)鍍膜的附著力？（）

A.鍍膜材料

B.基底材料

C.鍍膜工藝

D.以上都對(duì)

15.在光學(xué)鍍膜中，以下哪種材料具有較低的介電常數(shù)？（）

A.氧化硅

B.氧化鋁

C.氮化硅

D.鈦

16.以下哪種光學(xué)鍍膜技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)膜層厚度控制？（）

A.磁控濺射

B.電子束蒸發(fā)

C.離子束鍍膜

D.激光鍍膜

17.在光學(xué)鍍膜過程中，以下哪種現(xiàn)象可能導(dǎo)致膜層出現(xiàn)針孔？（）

A.鍍膜速率過快

B.鍍膜速率過慢

C.鍍膜室壓力過高

D.鍍膜室壓力過低

18.以下哪種光學(xué)鍍膜結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)特定波長的光透過？（）

A.反射膜

B.減反射膜

C.濾光片

D.透明膜

19.在光學(xué)鍍膜中，以下哪種材料具有優(yōu)異的導(dǎo)電性？（）

A.氧化硅

B.氧化鋁

C.鉻

D.鋁

20.以下哪種因素會(huì)影響光學(xué)鍍膜的光學(xué)性能？（）

A.鍍膜材料

B.鍍膜工藝

C.鍍膜環(huán)境

D.以上都對(duì)

二、多選題（本題共20小題，每小題1.5分，共30分，在每小題給出的四個(gè)選項(xiàng)中，至少有一項(xiàng)是符合題目要求的）

1.下列哪些因素會(huì)影響光學(xué)鍍膜的質(zhì)量？（）

A.鍍膜材料

B.鍍膜速率

C.鍍膜溫度

D.鍍膜室氣壓

2.以下哪些材料可以用于制備增透膜？（）

A.氧化硅

B.氧化鋁

C.硅氧化物

D.氮化硅

3.以下哪些技術(shù)屬于物理氣相沉積技術(shù)？（）

A.磁控濺射

B.電子束蒸發(fā)

C.離子束鍍膜

D.化學(xué)氣相沉積

4.光學(xué)鍍膜可以應(yīng)用在以下哪些領(lǐng)域？（）

A.眼鏡

B.攝影鏡頭

C.太陽能電池板

D.顯示器屏幕

5.以下哪些方法可以用來清洗鍍膜前的玻璃基底？（）

A.蒸汽清洗

B.化學(xué)清洗

C.水洗

D.離子清洗

6.以下哪些因素會(huì)影響磁控濺射鍍膜的質(zhì)量？（）

A.濺射功率

B.工作氣體

C.鍍膜室氣壓

D.基底溫度

7.以下哪些材料可以用于制備光學(xué)濾光片？（）

A.鉻

B.銅鉻合金

C.氧化硅

D.氧化鋁

8.以下哪些條件有利于提高光學(xué)鍍膜的耐久性？（）

A.選用高耐腐蝕材料

B.控制適宜的鍍膜溫度

C.增加膜層厚度

D.選用低附著力的鍍膜材料

9.以下哪些現(xiàn)象可能導(dǎo)致光學(xué)鍍膜出現(xiàn)缺陷？（）

A.基底清洗不徹底

B.鍍膜速率過快

C.鍍膜室氣壓波動(dòng)

D.鍍膜材料雜質(zhì)過多

10.以下哪些技術(shù)可以用于檢測(cè)光學(xué)鍍膜的折射率？（）

A.折射率測(cè)量儀

B.透射率測(cè)量儀

C.?橢偏儀

D.光譜儀

11.以下哪些材料可以用于制備高反射膜？（）

A.鋁

B.銀合金

C.氧化硅

D.氧化鋁

12.以下哪些因素會(huì)影響電子束蒸發(fā)鍍膜的質(zhì)量？（）

A.電子束功率

B.蒸發(fā)速率

C.基底溫度

D.鍍膜室氣壓

13.以下哪些特點(diǎn)屬于光學(xué)鍍膜的優(yōu)點(diǎn)？（）

A.提高光學(xué)元件的透光率

B.增強(qiáng)光學(xué)元件的耐磨損性

C.改善光學(xué)元件的外觀

D.降低光學(xué)元件的成本

14.以下哪些方法可以改善光學(xué)鍍膜的附著力和耐久性？（）

A.選用合適的底層材料

B.進(jìn)行預(yù)處理

C.控制鍍膜工藝參數(shù)

D.使用特殊的鍍膜材料

15.以下哪些材料可以用于制備防指紋鍍膜？（）

A.氟化物

B.硅氧化物

C.有機(jī)硅

D.氧化鋁

16.以下哪些因素會(huì)影響離子束鍍膜的質(zhì)量？（）

A.離子源類型

B.離子束電流

C.鍍膜室氣壓

D.基底溫度

17.以下哪些光學(xué)鍍膜可以用于光學(xué)傳感器？（）

A.反射膜

B.增透膜

C.鏡面膜

D.濾光片

18.以下哪些現(xiàn)象可能導(dǎo)致光學(xué)鍍膜表面出現(xiàn)劃痕？（）

A.鍍膜過程中的機(jī)械損傷

B.鍍膜后不當(dāng)?shù)那鍧嵅僮?/p>

C.鍍膜材料硬度過高

D.基底表面粗糙度不適當(dāng)

19.以下哪些材料可以用于制備光學(xué)鍍膜的防護(hù)層？（）

A.鈦

B.鎳

C.鉻

D.硅氧化物

20.以下哪些因素會(huì)影響多層光學(xué)鍍膜的設(shè)計(jì)和制備？（）

A.各層材料的折射率

B.膜層的厚度

C.光譜特性

D.鍍膜工藝條件

三、填空題（本題共10小題，每小題2分，共20分，請(qǐng)將正確答案填到題目空白處）

1.光學(xué)鍍膜按功能可分為反射膜、抗反射膜、透明膜和_______膜等。

2.磁控濺射鍍膜技術(shù)中，濺射靶材一般由_______材料制成。

3.在光學(xué)鍍膜中，_______材料的折射率通常較低，適合用作減反射膜。

4.鍍膜過程中，為了提高膜層與基底的結(jié)合力，常采用_______技術(shù)對(duì)基底進(jìn)行預(yù)處理。

5.用來衡量光學(xué)鍍膜耐環(huán)境侵蝕能力的性能指標(biāo)是_______。

6.多層光學(xué)鍍膜的設(shè)計(jì)中，_______是決定光束透射與反射的關(guān)鍵因素。

7.透過率與入射光角度有關(guān)的光學(xué)鍍膜現(xiàn)象稱為_______。

8.在光學(xué)鍍膜中，_______材料的導(dǎo)電性能較好，常用于制備透明導(dǎo)電膜。

9.常用的光學(xué)鍍膜檢測(cè)設(shè)備中，_______可以精確測(cè)量膜層的厚度和折射率。

10.為了防止光學(xué)鍍膜在運(yùn)輸和安裝過程中受到損傷，通常會(huì)在鍍膜表面增加一層_______。

四、判斷題（本題共10小題，每題1分，共10分，正確的請(qǐng)?jiān)诖痤}括號(hào)中畫√，錯(cuò)誤的畫×）

1.光學(xué)鍍膜技術(shù)可以顯著提高光學(xué)元件的透光率和光學(xué)性能。（）

2.在所有光學(xué)鍍膜技術(shù)中，電子束蒸發(fā)鍍膜是最快的一種。（）

3.光學(xué)鍍膜的耐久性主要取決于鍍膜材料的選擇和鍍膜工藝的控制。（）

4.磁控濺射鍍膜過程中，提高濺射功率會(huì)使得膜層厚度增加。（）

5.透射率測(cè)量是檢測(cè)光學(xué)鍍膜厚度的常用方法。（）

6.鍍膜過程中，基底溫度過高會(huì)導(dǎo)致膜層應(yīng)力增大。（）

7.在光學(xué)鍍膜中，所有材料的折射率都高于基底材料的折射率。（）

8.鍍膜前的基底清洗是保證鍍膜質(zhì)量的關(guān)鍵步驟。（）

9.多層光學(xué)鍍膜的設(shè)計(jì)中，各層膜厚度的選擇完全自由，沒有特定的規(guī)律。（）

10.防指紋鍍膜的主要作用是提高光學(xué)元件的透光率和耐久性。（）

五、主觀題（本題共4小題，每題5分，共20分）

1.請(qǐng)簡述玻璃制品表面光學(xué)鍍膜的主要目的及其在實(shí)際應(yīng)用中的重要性。

2.描述磁控濺射鍍膜技術(shù)的原理，并列舉其在制備光學(xué)鍍膜過程中的優(yōu)點(diǎn)。

3.請(qǐng)解釋什么是減反射膜，以及它是如何實(shí)現(xiàn)減少光學(xué)元件表面反射的？

4.討論在光學(xué)鍍膜過程中可能出現(xiàn)的缺陷，并提出相應(yīng)的解決措施。

標(biāo)準(zhǔn)答案

一、單項(xiàng)選擇題

1.D

2.A

3.C

4.D

5.B

6.C

7.D

8.A

9.C

10.D

11.C

12.C

13.A

14.D

15.A

16.A

17.C

18.C

19.A

20.D

二、多選題

1.ABCD

2.ABCD

3.ABC

4.ABCD

5.ABCD

6.ABCD

7.ABC

8.ABC

9.ABCD

10.ABC

11.AB

12.ABC

13.ABC

14.ABCD

15.ABC

16.ABCD

17.ABCD

18.ABC

19.ABCD

20.ABCD

三、填空題

1.鏡面膜

2.金屬

3.氧化硅

4.預(yù)處理

5.耐候性

6.折射率和厚度

7.極化效應(yīng)

8.鋁

9.橢偏儀

10.保護(hù)膜

四、判斷題

1.√

2.×

3.√

4.×

5.√

6.√

7.×

8.√

9.×

10.×

五、主觀題（參考）

1.光學(xué)鍍膜的主要目的是提高光學(xué)元件的透光率、減少反射和散射，以及增強(qiáng)其耐磨損和耐腐蝕性能。在實(shí)際應(yīng)用中，光學(xué)鍍膜能顯著提升眼鏡、鏡頭、顯示器等產(chǎn)品的光學(xué)性能，延長使用壽命。

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