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文檔簡(jiǎn)介

氣動(dòng)控制系統(tǒng)組成重慶電子工程職業(yè)學(xué)院01氣體狀態(tài)參數(shù)03氣動(dòng)控制系統(tǒng)組成02氣體狀態(tài)方程式040506任務(wù)練習(xí)一氣體狀態(tài)參數(shù)

1.密度:?jiǎn)挝惑w積內(nèi)所含氣體的質(zhì)量稱為密度,單位kg/m3。

2.壓力:可分為絕對(duì)壓力、表壓力和真空度來(lái)衡量。

(1)絕對(duì)壓力:以絕對(duì)真空作為起點(diǎn)的壓力值。一般在表示絕對(duì)壓力的符號(hào)的右下腳標(biāo)注“ABS”,即PABS。

(2)表壓力:高出當(dāng)?shù)卮髿鈮旱膲毫χ怠S蓧毫Ρ頊y(cè)得的壓力值即為表壓力。在工程計(jì)算中,常將當(dāng)?shù)卮髿鈮毫τ脴?biāo)準(zhǔn)大氣壓代替,即令Pa=101325Pa。

(3)真空度:低于當(dāng)?shù)卮髿鈮旱膲毫χ?。真空壓力等于絕對(duì)壓力與大氣壓之差,真空壓力在數(shù)值上與真空度相同,但應(yīng)在其數(shù)值前加負(fù)號(hào)。

一、氣體狀態(tài)參數(shù)

3.理想氣體:沒(méi)有粘性的氣體稱為理想氣體,目的是簡(jiǎn)化解題。

4.完全氣體:是一種假想的氣體,它的分子是一些彈性的、不占有體積的質(zhì)點(diǎn),分子間除相互碰撞外,沒(méi)有相互作用力。

5.標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):指溫度20℃、相對(duì)濕度65%、壓力0.1Mpa時(shí)的空氣狀態(tài)。標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下,空氣的密度ρ=1.185kg/m3。

6.基準(zhǔn)狀態(tài):指溫度0℃、壓力101.3Kpa的干空氣狀態(tài)?;鶞?zhǔn)狀態(tài)下,空氣的密度ρ=1.293kg/m3。

一、氣體狀態(tài)參數(shù)二氣體狀態(tài)方程

1.理想氣體狀態(tài)方程

pV=nRT

單位:

pPa;Vm3;TK;nmol;

R摩爾氣體常數(shù)8.314J/(mol*K)。

理想氣體狀態(tài)方程也可表示為:

pVm=RT

pV=(m/M)RT二、氣體狀態(tài)方程

2.法則

1)波義爾法則(等溫)

一定質(zhì)量的氣體,若其狀態(tài)變化是在溫度不變的條件下進(jìn)行的,則稱為等溫過(guò)程。P1V1=P2V2

2)查理法則(等容,體積不變)

一定質(zhì)量的氣體,若其狀態(tài)變化是在體積不變的條件下進(jìn)行的,則稱為等容過(guò)程。P1/T1=P2/T1

3)蓋-呂薩克法則(等壓)

一定質(zhì)量的氣體,若其狀態(tài)變化是在壓力不變的條件下進(jìn)行的,則稱為等壓過(guò)程。V1/V2=T1/T2二、氣體狀態(tài)方程

3.伯努利方程式

或者

P0:速度為零處的壓力,成為總壓力

P:靜壓力

v:氣體流動(dòng)速度

流速高處壓力低,流速低處壓力高。它表明單位體積氣體的壓力能和動(dòng)能之和保持不變。二、氣體狀態(tài)方程三氣體控制系統(tǒng)組成

氣動(dòng)控制系統(tǒng)的主要由氣動(dòng)元件,與機(jī)械、電氣、電子(包含PLC控制器和微電腦)等部分或全部綜合構(gòu)成的控制回路,使氣動(dòng)元件按生產(chǎn)工藝要求的工作狀況,自動(dòng)按設(shè)定的順序或條件動(dòng)作的一種自動(dòng)化技術(shù)。

氣動(dòng)控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)如下圖所示,系統(tǒng)主要由氣源、氣源處理元件、控制元件和執(zhí)行元件組成。

三、氣動(dòng)控制系統(tǒng)組成

由產(chǎn)生、處理和貯存壓縮空氣的設(shè)備組成的系統(tǒng)稱為氣源系統(tǒng)。氣源系統(tǒng)包括有空氣壓縮機(jī)、儲(chǔ)氣罐、空氣凈化設(shè)備和輸氣管道等,它為氣動(dòng)設(shè)備提供恒壓、清潔、干燥和足夠流量的壓縮空氣,是氣動(dòng)系統(tǒng)的能源裝置。氣源的核心是空氣壓縮機(jī),它將原動(dòng)機(jī)的機(jī)械能轉(zhuǎn)換為氣體的壓力能,通常壓縮機(jī)和儲(chǔ)氣罐為一體式設(shè)計(jì)。執(zhí)行元件主要有氣缸、擺動(dòng)馬達(dá)和氣馬達(dá)??刂圃话銥殚y門(mén),包括壓力控制閥、流量控制閥、方向控制閥等,即我們常用的電磁閥。

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