GBT 7232-2012 金屬熱處理工藝 術(shù)語

金屬熱處理工藝術(shù)語Terminologyofmetal中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局I前言 Ⅲ 12總類 13退火類 54正火類 75淬火類 8 7固溶和時(shí)效熱處理類 8滲碳類 9滲氮類 1710滲其他非金屬及滲金屬類 11共滲類 12表面處理及復(fù)合熱處理類 1913組織類 14熱處理缺陷類 26附錄A(規(guī)范性附錄)中文索引 29附錄B(規(guī)范性附錄)英文索引 34Ⅲ1采用適當(dāng)?shù)姆绞綄?duì)金屬材料或工件(以下簡稱工件)進(jìn)行加熱、保溫和冷卻以真空熱處理vacuumheattreatment;l在真空度低于1×10?Pa(通常是10~1～10-3Pa)的環(huán)境中加熱的熱處理工藝。2磁場(chǎng)熱處理magneticfieldheattreatment;thermomagnetictreatment可控氣氛熱處理controlledatmosphereheatt在低于1×105Fa(通常是10-1～10-3Pa)的特定氣氛中利用工件(陰極)和用極之國等離子體加熱將鋼在奧低體化后先淬火至Ms-M/間的溫度，形成一定數(shù)量的馬氏體和殘留奧氏體，再在Ms-分配的馬氏體和高碳線留奧氏體復(fù)相組織的熱處理形變熱處理thermo-mechan3熱處理工藝周期heattreatmentcycle工件或加熱介質(zhì)在工藝規(guī)定溫度下恒溫保持一定時(shí)間的操作。恒溫保4工件加熱至Acg或Ac?以上，以全部或部分獲得奧氏體組織的操作稱為奧氏體化。工件進(jìn)行奧氏熱處理冷卻過程中在某一指定溫度區(qū)間或某一溫度下，工件或介馬氏體臨界冷卻速度criticalcoolingrateformartensitietransfo規(guī)定試樣心部的冷卻速度隨溫度變化的特性曲線，它反映了液態(tài)介質(zhì)對(duì)表征淬火介質(zhì)從熱工件中吸取熱量的能力的指標(biāo)，以H值來表示。幾種介質(zhì)的淬火冷卻烈度見表1?？諝庥退械?強(qiáng) 強(qiáng)烈連續(xù)冷卻轉(zhuǎn)變continuouscoolin5等溫轉(zhuǎn)變圖TTTdiagram;time-temperature-transformationdiagram;isothermaltransformation工件的材料中不平衡組織在給定溫度恒溫保持時(shí)，從到達(dá)該溫度至開始發(fā)生組織轉(zhuǎn)變所經(jīng)歷的3退火類為防止工件在熱形變加工后的冷卻過程中因氫呈氣6中間退火processannealing;intermediateannealing;int為消除工件形變強(qiáng)化效應(yīng)，改善塑性，便于實(shí)施后繼工序而進(jìn)行的工序間退火。均勻化退火homogenizingannealing以減少工件化學(xué)成分和組織的不均勻程度為主要目的，將其加熱到高溫并長時(shí)間保溫，然后緩慢冷卻的退火。為使工件中細(xì)微的顯微組成物沉淀或球化的退火。例如某些奧氏體不銹鋼850℃附近進(jìn)行穩(wěn)定化退火，沉淀出TiC、NbC、TaC,防止耐晶間腐蝕性能降低。為去除工件塑性變形加工、切削加工或焊接造成的內(nèi)應(yīng)力及鑄件內(nèi)存在的殘余應(yīng)力而進(jìn)行的退火。將工件完全奧氏體化后緩慢冷卻，獲得接近平衡組織的退火。不完全退火partialannealing;incompleteannealing相變區(qū)退火臨界區(qū)退火將工件部分奧氏體化后緩慢冷卻的退火。晶粒粗化退火coarse-grainedannealing將工件加熱至比正常退火較高的溫度，保持較長時(shí)間，使晶粒粗化以改善工件的切削加工性能。中間不冷至室溫，前后連續(xù)的兩次退火。快速退火rapidannealing采用高能束或其他能源將工件加熱至比正常退火較高的溫度并短暫保溫的退火。亞相變點(diǎn)退火sub-criticalannealing亞臨界點(diǎn)退火工件在低于Ac?的溫度進(jìn)行的退火工藝的總稱。其中包括亞相變點(diǎn)球化退火、再結(jié)晶退火、去應(yīng)力退火等。用連續(xù)作業(yè)爐實(shí)施的退火。7工件在壓力低于1×10?Pa(通常是10-1～10-3Pa)的環(huán)境中進(jìn)行的退火。工件加熱奧氏體化后，過冷到珠光體轉(zhuǎn)變區(qū)的中段，在珠光體形成過程中塑性加工成形的聯(lián)合保護(hù)氣氛退火protective時(shí)間，接著重新升溫到A?點(diǎn)以上不多的溫度，保溫一段時(shí)間，隨之又緩慢冷卻到A?點(diǎn)以下不多的溫8工件加熱奧氏體化后以適當(dāng)方式冷卻獲得馬氏體或(和)貝氏體組織的熱處理工藝。最常見的有水淬冷僅對(duì)工件需要課化的局部進(jìn)行的淬火。表面淬火surfacehardening穿透淬火throughhandening工件從表面至心部全部硬化的淬火。激光淬火laserharde9將工件在真空度低于1×10?Pa的加熱爐中進(jìn)行加熱予以奧氏體化，隨之在氣體或液體介質(zhì)中進(jìn)雙介質(zhì)淬火interruptedquench馬氏體分級(jí)淬火martemperng工件加熱奧氏體化后浸入溫度稍高或稍低于Ms點(diǎn)的堿浴或鹽浴中保持適當(dāng)時(shí)間，在工件整體達(dá)工件滲碳或碳氮共參后直接淬火冷卻的工藝自冷淬火selquenchhargdening工件淬火冷卻到室溫后，繼續(xù)在致冷設(shè)備或低溫介質(zhì)中冷卻至Mf以下溫度(一般在-60℃~鋼制圓柱試樣在某種介質(zhì)中淬冷后，中心得到全部馬氏體或50%馬氏體組織的最大直徑，以dc在淬火冷卻烈度為無限大的理想淬冷介質(zhì)中淬火冷卻時(shí)，圓柱鋼試樣全部淬高強(qiáng)度鋼絲或鋼帶制造中的一種特殊處理方法。其工藝過程是奧氏體化后在Ac?以下適當(dāng)溫度(~500℃)的熱浴中等溫或在強(qiáng)制流動(dòng)的氣流中冷卻以獲得索氏體或形成馬氏體的快速冷卻過程中因工件的Ms點(diǎn)較高而自發(fā)回火的現(xiàn)象。低碳鋼在淬火冷卻時(shí)就發(fā)工件在250℃~500℃之間進(jìn)行的回火。感應(yīng)加熱回火inductionheat工件加熱至適當(dāng)溫度并保溫，使過剩相充分溶解，然后快速冷卻以獲得過飽和固溶體的熱處理為改善某些奧氏體鋼的組織以提高材料韌度，將工件加熱到高溫使過理。例如高錳鋼(Mn13)加熱到1000℃~1100℃保溫后水冷，以消除沿晶界或滑移帶析出的碳化物，工件經(jīng)固溶處理或淬火后在室溫或高于室溫的適當(dāng)溫度保溫，以達(dá)到分級(jí)時(shí)效處理interruptedageingtreatment;stepageing某些經(jīng)固溶處理的鋁合金自然時(shí)效硬化后，在低于固溶處理溫度(120℃~180℃)短時(shí)間加熱后離子滲碳plasmacarburizing;ioncarburizi在低于1×10?Pa(通常是10Pa～10~1Pa)滲碳?xì)夥罩?，利用工?陰極)和陽極之間產(chǎn)生的等離子體進(jìn)行的滲碳。流態(tài)床滲碳fluidizedbedcarburizing在含碳的流態(tài)床中進(jìn)行的滲碳。電解滲碳electrolyticcar在作為陰極的工件和與之同置于鹽浴中的石墨陽極之間接通電源進(jìn)行的滲碳。真空滲碳partialpressurecarburizing;vacuumcarburizing低壓滲碳lowpressurecarburizing在低于1×10?Pa的條件下于滲碳?xì)夥罩羞M(jìn)行的滲碳。在950℃以上進(jìn)行的滲碳。局部滲碳localizedcarburizing;selectivecarburizing僅對(duì)工件某一部分或某些區(qū)域進(jìn)行的滲碳。薄工件從表面至中心全部滲透的滲碳。碳化物彌散強(qiáng)化滲碳carbidedispersioncarburizing使?jié)B碳表層獲得細(xì)小分散碳化物以提高工件服役能力的滲碳。薄層滲碳sheetcarburizing工件滲碳淬火后，表面總硬化層深度或有效硬化層深度≤0.3mm的滲碳。工件滲碳淬火后，表面總硬化層深度或有效硬化層深度達(dá)3mm以上的滲碳。工件因某種原因脫碳后，為恢復(fù)初始碳含量而進(jìn)行的滲碳。碳勢(shì)carbonpotential表征含碳?xì)夥赵谝欢囟认赂淖児ぜ砻婧剂磕芰Φ膮?shù)，通常用氧探頭監(jiān)控，還可以采用碳含量<0.06%的碳素鋼箔片在含碳?xì)夥罩械钠胶夂剂慷勘O(jiān)測(cè)。指氣氛中水蒸氣開始凝結(jié)的溫度，露點(diǎn)與氣氛中的水汽含量成正比，氣氛中的水汽含量愈高，露點(diǎn)愈高。進(jìn)行氣體滲碳時(shí)，可通過測(cè)定露點(diǎn)間接確定氣氛的碳勢(shì)。滲碳工件含碳量高于原材料的表層由滲碳工件春面中內(nèi)至碳含量為規(guī)定值處(一般為0.4%C的垂直距離工件滲碳碎火眉的表面到規(guī)定硬度一般為550HV)處的垂直距離，以CHD表示。測(cè)是維氏硬度時(shí)所用的試驗(yàn)助為3.807N(1kg)3倍于滲碳卒火有效硬化層深度的區(qū)域。在氣氛碳勢(shì)從1%降至0.9%時(shí)，1m(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下)氣體可傳遞到工件表面的碳量，單位g/m3。單位時(shí)間(s)內(nèi)氣氛傳遞到工件表面單位面積的碳量(碳通量)與氣氛碳勢(shì)和工件表面含碳量(碳碳化物形成元素carbideformingelement;carbid氮與金屬元素形成的化合物。碳鋼滲氮時(shí)常見的氮化物有Y-F滲氮層包括化合物層(白亮層)和擴(kuò)散層，其深度從工件表面測(cè)至基體組織復(fù)合氮化物complexnitride兩種或多種元素(通常是金屬元素)與氮構(gòu)成的化合物。氮化物形成元素nitrideformingelement;nitrideformer鋼中與氮的化學(xué)親和力比鐵高的合金元素。滲氮工件表層以e-FeasN為主的白亮層，也叫化合物層。在既不增加氮又不脫氮的中性介質(zhì)中進(jìn)行的與滲氮熱循環(huán)相同的試驗(yàn)。目的是了解按這種熱循環(huán)滲氮后工件心部組織和辦學(xué)性能是否能滿足預(yù)定的要求。10滲其他非金屬發(fā)滲金屬類將硼滲入任件養(yǎng)層的化學(xué)熱處理工藝，其中包括用粉末或顆粒狀的滲硼介質(zhì)進(jìn)行的固體滲硼，用熔融滲硼介質(zhì)進(jìn)行的液體滲硼，在電解的熔融滲棚介質(zhì)中進(jìn)行的電解滲硼用氣體滲硼介質(zhì)進(jìn)行的滲硼。的滲硼氣體介質(zhì)中，利用工件(陰極)利陽極之間產(chǎn)生的等離子體進(jìn)行的餐硼滲硼過程中在工件表面形成的硼的化合物。將硅滲入工件表層的化學(xué)熱處理工藝。其中包括用粉末滲硅介質(zhì)進(jìn)行的固體滲硅，用氣體滲硅介質(zhì)進(jìn)行的滲硅。將硫滲入工件表層的化學(xué)熱處理工藝。工件在含有被滲金屬元素的滲劑中加熱到適當(dāng)溫度并保溫，使這些元素滲入表層的化學(xué)熱處理工離子滲金屬ioninfiltrationofmetal工件在含有被滲金屬元素的等離子場(chǎng)中加熱到較高溫度，金屬原子以較高速率在表面沉積并向內(nèi)部擴(kuò)散的工藝。多元共滲multicomponentthermochemicaltre透入工件材料使之產(chǎn)生塑性形變強(qiáng)化的表面技術(shù)?？稍诠ぜ砻娈a(chǎn)生深達(dá)1mm及以上的強(qiáng)化層和殘鋼件或模具在含有Cr、V、Nb等元素的高溫硼砂鹽浴中表面滲入這些元素形成碳化物耐磨層的化學(xué)氣相沉積chemicalvapordeposition;CVD通過化學(xué)氣相反應(yīng)在工件表面形成薄膜的工藝。chemicalvapordeposition;PACVD利用各種等離子體的能量促使反應(yīng)氣體離解、活化以增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)的化學(xué)氣相沉積。其中包括：射頻放電等離子體化學(xué)氣相沉積、微波等離子體化學(xué)氣相沉積、ECR(電子回旋共振)微薄等離子體化學(xué)氣相沉積、直流電弧等離子體噴射化學(xué)氣相沉積等?；鹧娉练ecombustionflamechemicalvaporde采用通電的燈絲加熱反應(yīng)氣體的化學(xué)氣相沉積。采用在燈絲和襯底間施加偏壓的方法產(chǎn)生等離子體，提高沉積速率，改善薄膜材料質(zhì)量的化學(xué)氣相沉積。利用激光的熱或光子能量效應(yīng)使反應(yīng)氣體活化的化學(xué)氣相沉積。其中包括：光化學(xué)氣相沉積，光熱解化學(xué)氣相沉積等。利用金屬有機(jī)化合物作為反應(yīng)氣體的化學(xué)氣相沉積。強(qiáng)流脈沖電子束輻照highcurrentpulsedelectronbeamirradiation高能量密度的射束作用到材料表面時(shí)，入射能量瞬間聚積在材料表面的薄層中，被加熱層的溫度迅及抗氧化等性能獲得改善。利用非轉(zhuǎn)移型電弧等離子體(等離子弧)為熱源的熱噴涂方法。采用氣體產(chǎn)生并穩(wěn)定等離子弧的等離子噴涂方法，稱為氣穩(wěn)等離子噴涂。采用液體產(chǎn)生并穩(wěn)定等離子弧的等離子噴涂方法，稱為液穩(wěn)等離子噴涂。采用水產(chǎn)生并穩(wěn)定等離子弧的等離子噴涂方法，稱為水穩(wěn)等離子噴涂。熱噴涂thermalspraying將熔融狀態(tài)的噴涂材料，通過高速氣流使其霧化噴射在零件表面上，形成噴涂層的金屬表面加工方法。鹽浴氮碳共滲復(fù)合處理quenchpolishquench;QPQtreatment工件先在鹽浴中進(jìn)行氮碳共滲和氧化處理，經(jīng)中間拋光后，再在氧化鹽浴中處理，以提高工件耐磨性和抗蝕性的復(fù)合熱處理工藝。13組織類金相檢驗(yàn)metallographicex泛指對(duì)金屬宏觀組織及顯微組織進(jìn)行的檢驗(yàn)。指金屬組織中化學(xué)成分、晶體結(jié)構(gòu)和物理性能相同的組分。其中包括固溶體、金屬化合物及純物質(zhì)(如石墨)。泛指用金相觀察方法看到的由形態(tài)、尺寸不同和分布方式不同的一種或多種相構(gòu)成的總體，以及各種材料缺陷和損傷的類型和形態(tài)。金屬試樣的磨面經(jīng)適當(dāng)處理后用肉眼或借助放大鏡觀察到的組織。將用適當(dāng)方法(如侵蝕)處理后的金屬試樣的磨面或其復(fù)型或用適當(dāng)方法制成的薄膜置于光學(xué)顯微鏡或電子顯微鏡下觀察到的組織。多晶體材料內(nèi)以晶界分開、晶體學(xué)位向基本相同的小晶體。多晶體材料中相鄰晶粒的界面。相鄰晶粒晶體學(xué)位向差小于10°的晶界稱為小角晶界；相鄰晶粒晶體學(xué)位向差較大的晶界稱為大角晶界。相界面interphasebou相鄰兩種相的分界面。兩相的點(diǎn)陣在跨越界面處完全匹配者稱為共格界面，部分匹配者稱為半共格界面，基本不匹配者稱為非共格界面。晶粒內(nèi)相互間晶體學(xué)位向差很小(<3°)的小晶塊。亞晶粒之間的界面稱為亞晶界。意指多晶體內(nèi)晶粒的大小?？捎镁ЯＬ?hào)、晶粒平均直徑、單位面積或單位體積內(nèi)的晶粒數(shù)目定量表征。由美國材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)(ASTM)制定，并被世界各國采用的一種表達(dá)晶粒大小的編號(hào)。晶粒號(hào)(N)與放大100倍的視野上每平方英寸(1英寸=25.4mm)面積內(nèi)的晶粒數(shù)(n)之間的關(guān)系為n=2N-1。實(shí)際檢驗(yàn)時(shí)一般采用放大100倍的組織與標(biāo)準(zhǔn)晶粒號(hào)圖片對(duì)比的方法判定。樹枝晶組織dendriticstructure金屬鑄件或鍛件中呈樹枝狀分布的晶體(晶粒)。是指晶粒尺寸在納米級(jí)的多晶體。由于晶粒極細(xì)，大量的原子位于晶粒之間的界面上，這種獨(dú)特的結(jié)構(gòu)特征使納米晶體在化學(xué)、物理、力學(xué)性能等方面成為不同于普通多晶體和非晶態(tài)合金的一種新型材料，其界面成了一種不可忽視的結(jié)構(gòu)組元。獲得納米晶的制備過程稱為納晶化過程。金屬凝固時(shí)，從液相同時(shí)柳出，緊密相鄰的兩種或多種固相構(gòu)成的鑄態(tài)組織。固態(tài)金屬自高溫冷卻時(shí)，從同一母相中同時(shí)析出，緊密相鄰的兩種或多種不同的相構(gòu)成的組織。含有一種或多種)針狀相的組織片層狀組織lamellarsfructure兩種或多種膊層狀相交替重疊形成的共晶組織，共析組織及其他組織在912以黃穩(wěn)定存在，晶體結(jié)構(gòu)為體心立方的純鐵在912℃390C穩(wěn)定存在，晶體結(jié)構(gòu)為面心立方的純鐵。a鐵中溶入一種或多種溶質(zhì)而素構(gòu)成的固溶體。γ鐵中溶入碳和(或)其他元素構(gòu)成的固溶體。它是以英國冶金學(xué)家R.Austen的名字命名的。在共析溫度以下存在的奧氏體。晶體結(jié)構(gòu)屬于正交系，化學(xué)式為近似Fe?C的間隙化合物。是鋼和鑄鐵中常見的固相。鋼鐵中碳與一種或數(shù)種金屬元素構(gòu)成的化合物的總稱。兩種金屬元素與碳構(gòu)成的化合物稱為三元碳化物或復(fù)合碳化物，如(Fe、Cr)?C、(Cr、Fe),C。等。3種或更多種金屬元素與碳構(gòu)成的化合物(Fe、密排六方結(jié)構(gòu)，化學(xué)式為Fez?C的過渡型碳化物。x碳化物x-carbide黑格碳化物Haggcarbide高碳鋼中的片狀馬氏體回火析出的一種過渡型碳化物。晶體結(jié)構(gòu)屬單斜系，化學(xué)式為Fe?Cz。鐵素體薄層(片)與碳化物(包括滲碳體)薄層(片)交替重疊組成的共析組織。珠光體領(lǐng)域pearlitecolony諸鐵素體、碳化物薄片位向大致相同的一個(gè)珠光體團(tuán)所占的空間。在光學(xué)金相顯微鏡下放大600倍以上才能分辨片層的細(xì)珠光體。它是以英國冶金學(xué)家H.C.Sorby的名字命名的。托氏體在光學(xué)金相顯微鏡下已無法分辨片層的極細(xì)珠光體。它是以法國金相學(xué)家L.Troost的名字命名的。鋼鐵或非鐵金屬中通過無擴(kuò)散共格切變型轉(zhuǎn)變(馬氏體轉(zhuǎn)變)形成的產(chǎn)物統(tǒng)稱馬氏體。鋼鐵中馬氏體轉(zhuǎn)變的母相是奧氏體，由此形成的馬氏體化學(xué)成分與奧氏體相同，晶體結(jié)構(gòu)為體心立方，可被看作是過飽和α固溶體。主要形態(tài)是板條狀和片狀。它是以德國冶金學(xué)家A.Martens的名字命名的。鑄鐵或高碳高合金鋼中由奧氏體(或其轉(zhuǎn)變的產(chǎn)物)與碳化物(包括滲碳體)組成的共晶組織。它是以德國冶金學(xué)家A.Ledebur的名字命名的。碳的一種同素異構(gòu)體，晶體結(jié)構(gòu)屬于六方系，是鑄鐵中常出現(xiàn)的固相。其空間形先析相pro-eutectoidpha固溶體發(fā)生共析轉(zhuǎn)變前析出的固相。例如先析鐵素體、先析碳化物等。過飽和固溶體中形成的溶質(zhì)原子偏聚區(qū)(如鋁銅合金中的GP區(qū))或化學(xué)成分及晶體結(jié)構(gòu)與之不同的析出相(例如鋁銅合金人工時(shí)效時(shí)形成的CuAl?)。彌散相dispersedphase從過飽和固溶體中析出或在化學(xué)熱處理滲層中形成以及在其他生產(chǎn)條件下形成的細(xì)小、彌散分布的固相。貝氏體bainite鋼鐵奧氏體化后，過冷到珠光體轉(zhuǎn)變溫度區(qū)與Ms之間的中溫區(qū)等溫，或連續(xù)冷卻通過這個(gè)中溫區(qū)時(shí)形成的組織。這種組織由過飽和α固溶體和碳化物組成。它是以美國冶金學(xué)家E.C.Bain的名字命名的。在貝氏體轉(zhuǎn)變區(qū)較高的溫度范圍內(nèi)形成的貝氏體。其典型形態(tài)是以大致平行、碳輕微過飽和的鐵素體板條為主體，短棒狀或短片狀碳化物分布于板條之間。在含硅、鋁的合金鋼中碳化物全部或部分被殘留奧氏體所取代，下貝氏體lowenbainite在貝氏體轉(zhuǎn)變度較低的溫度范圍內(nèi)形成的貝氏體。其主體是雙凸透鏡片狀碳過飽和鐵素體，片中分布著與片閘縱向軸呈55°~65角平行排列的碳化物。殘留奧氏體retainedaustenite工件溶火冷卻至室溫后殘存的奧氏體。金屬顯微組織中具有同梯特征的部分。例如退火態(tài)亞共析鋼中的鐵素體，珠光體。魏氏組織widmanstattenstracture組織組分之一，呈局狀或針狀沿母相特定晶面析出的顯微組織。是以從鐵鎳隕石中發(fā)現(xiàn)這種組織的奧地利礦物學(xué)家J.Wdmanstatten的名字命名的。金屬材料中兩種組織組分呈條帶狀沿?zé)嶙冃伟钕蚍蛑缕叫薪惶媾帕械慕M織。例如鋼材中的鐵素體帶-珠光體帶，珠光體帶-滲碳體帶等。粒狀珠光體globularpearlite碳化物呈顆粒狀彌散分布于鐵素體基體中的珠光體。亞結(jié)構(gòu)單個(gè)晶體或晶粒內(nèi)部呈網(wǎng)絡(luò)狀的間界。它是比顯微組織細(xì)一級(jí)的組織，例如位錯(cuò)、層錯(cuò)、微細(xì)孿晶等。晶體中常見的一維缺陷(線缺陷)。在透射電子顯微鏡下金屬薄膜試樣的衍襯像中表現(xiàn)為彎曲的線條。面心立方、密排六方、體心立方等常見金屬晶體中密排晶面堆垛層次局部發(fā)生錯(cuò)誤而形成的二維晶體學(xué)缺陷(面缺陷)。在透射電子顯微鏡下的金屬薄膜試樣衍襯像中表現(xiàn)為彎曲的線條?；瑒?dòng)中的位錯(cuò)列在領(lǐng)先位錯(cuò)受阻時(shí)形成塞積的現(xiàn)象，在透射電子顯微鏡下金屬薄膜試樣衍襯像中表現(xiàn)為接近平行排列的短弧線。晶體結(jié)構(gòu)中原子空缺的位置。屬于零維晶體學(xué)缺陷。金屬中諸晶粒晶體學(xué)位向接近一致的組織。由之轉(zhuǎn)變?yōu)樾孪嗟脑枷?。工件回火冷卻過程中殘留奧氏體發(fā)生轉(zhuǎn)變形成的馬氏體。14熱處理缺陷類工件加熱時(shí)，介質(zhì)中的氧、二氧化碳和水蒸氣等與之反應(yīng)生成氧化物的過程。工件加熱時(shí)介質(zhì)中生成的氧沿工件表層的晶界向內(nèi)擴(kuò)散，發(fā)生合金元素晶界氧化的過程。工件加熱時(shí)介質(zhì)與工件中的碳發(fā)生反應(yīng)，使表層含碳量降低的現(xiàn)象。熱處理時(shí)附著在工件、夾具、爐壁表面形成的非晶態(tài)碳。淬火冷卻時(shí)工件中產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力超過材料斷裂強(qiáng)度，在工件上形成裂紋的現(xiàn)象。淬火冷卻畸變quenchingdistortion工件原始尺寸或形狀于淬火冷卻時(shí)發(fā)生的變化。淬火冷卻應(yīng)力quenchingstress工件淬火冷卻時(shí)，因不同部位出現(xiàn)瞬間溫差及組織轉(zhuǎn)變不同步而產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力。工件加熱和(或)冷卻時(shí)，由于不同部位出現(xiàn)溫差而導(dǎo)致熱脹和(或)冷縮不均所產(chǎn)生的應(yīng)力。熱處理過程中因工件不同部位組織轉(zhuǎn)變不同步而產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力。殘余應(yīng)力residualstress;internalstr工件在各部位已無溫差且不受外力作用的條件下存留下來的內(nèi)應(yīng)力。工件的原始尺寸或形狀在熱處理(淬火、深冷處理和回火)時(shí)發(fā)生的變化。工件淬火硬化后，表面硬度偏低的局部小區(qū)域。工件加熱溫度過高，致使晶界氧化和部分熔化的現(xiàn)象。工件加熱溫度偏高而使晶粒過度長大，以致力學(xué)性能顯著降低的現(xiàn)象。工件因吸收或殘留有氫而導(dǎo)致韌度降低和延時(shí)斷裂強(qiáng)度降低的現(xiàn)象，工件中的氫呈氣態(tài)析出引起的一種缺陷。在縱向斷口上表現(xiàn)為接近圓形或橢圓形的銀白色斑點(diǎn)在侵蝕后的宏觀磨片上表現(xiàn)為發(fā)裂。含鉻、錳、硅等合金元素的滲碳工件滲碳淬火后可能出現(xiàn)的缺陷組織，在光學(xué)金相顯微鏡下呈斷續(xù)工件表層中碳化物沿奧氏體晶界呈網(wǎng)狀析出而形成的缺陷組織。高鉻合金鋼因析出σ相而引起的脆化現(xiàn)象。工件淬火后在某些溫度區(qū)間回火產(chǎn)生韌度下降的現(xiàn)象?；鼗鸫嘈酝ǔ７譃椴豢赡婊鼗鸫嘈院涂赡婊鼗鸫嘈?。不可逆回火脆性irreversibletemperembrittlement第一類回火脆性鋼件淬火后在300℃左右的溫度區(qū)間回火后出現(xiàn)韌度下降的現(xiàn)象。已產(chǎn)生這類脆性的鋼件置于更高溫度回火后，其脆性逐漸消失，再在300℃左右溫度回第二類回火脆性含有鉻、錳、鎳等元素的合金鋼工件淬火后，在脆化溫度區(qū)(400℃~550℃)回火火后緩慢冷卻所產(chǎn)生的脆性。這種脆性可通過高于脆化溫度的再次回火并快速冷卻予以消除。消除后，若再次在脆化溫度區(qū)回火或在更高的溫度回火后緩慢冷(規(guī)范性附錄A奧氏體…………13.21奧氏體化………2.36奧氏體等溫轉(zhuǎn)變圖……………2.46奧氏體連續(xù)冷卻轉(zhuǎn)變圖………2.47B薄層滲碳………8.15保護(hù)氣氛熱處理………………2.13保護(hù)氣氛退火…………………3.27貝氏體…………13.37貝氏體等溫淬火………………5.24表面淬火…………5.4表面熱處理………2.7表面熔凝處理…………………5.10不可逆回火脆性………………14.21不完全退火……3.13C殘留奧氏體……13.40殘余應(yīng)力………14.差溫加熱………2.30沉淀硬化…………7.3穿透滲碳………8.13穿透淬火…………5.5磁場(chǎng)熱處理……2.11淬火冷卻…………5.2淬火冷卻畸變…………………14.6淬火冷卻開裂…………………14.5淬火冷卻應(yīng)力…………………14.7淬火-碳分配熱處理……………2.16淬冷………………5.2淬冷烈度………2.43淬透性…………5.40淬透性帶………5.47淬透性曲線……5.46淬硬層…………5.41淬硬性…………5.39D帶狀組織………13.43氮分解率…………9.9氮化物……………9.8氮化物形成元素………………9.13氮?jiǎng)荨?等離子噴涂……12.21等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積…12.14等溫淬火………5.24等溫形變珠光體化處理………3.25等溫退火…………3.3等溫正火…………4.2等溫轉(zhuǎn)變………2.44等溫轉(zhuǎn)變圖……2.46低倍組織………13.4低溫回火…………6.6低壓滲碳………8.10滴注式滲碳………8.6第一類回火脆性………………14.21第二類回火脆性………………14.22電解滲碳…………8.9電解液淬火……5.29電子束淬火………5.9電子束輔助熱絲化學(xué)氣相沉積………………12.17定時(shí)淬火………5.33端淬試驗(yàn)………5.45多次回火…………6.9多重正火…………4.4多段滲氮…………9.6E二次馬氏體……13.52二段正火…………4.3F非晶晶化………2.分級(jí)時(shí)效處理……7.5復(fù)合氮化物……9.12復(fù)合熱處理……2.20G感應(yīng)淬火…………5.6感應(yīng)加熱回火…………………6.13感應(yīng)加熱退火…………………3.23膏劑滲碳…………8.3高能束熱處理…………………2.17高溫回火…………6.8鉻鋁共滲………共晶組織………13.14共析組織………13.15固溶處理…………7.1固體滲碳…………8.2光亮淬火………5.30光亮熱處理……2.10光亮退火…………3.7過冷奧氏體……13.22過燒……………14.13過時(shí)效處理………7.6H黑色組織………14.17化合物層…………2.5化學(xué)氣相沉積…………………12.13化學(xué)熱處理………2.4回火脆性………14.20回火穩(wěn)定性……6.11火焰沉積………12.15火焰淬火…………5.7J激光沖擊處理…………………激光淬火…………5.8激光輔助化學(xué)氣相沉積………12.18加熱速率………2.29加壓回火…………6.3接觸電阻加熱淬火……………5.13金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積………………12.19晶粒度…………13.局部淬火…………5.3局部熱處理………2.3均勻化退火………3.9K可鍛化退火……3.19可控氣氛熱處理………………2.12可逆回火脆性…………………14.22擴(kuò)散退火…………3.9L 冷卻曲線 2.40冷卻速度 冷卻制度 237理想臨界直徑 粒狀珠光體 離子鍍 離子轟擊熱處理 2.14離子滲氮 離子滲金屬 分……………10.7離子滲硼 離子滲碳 87離子碳氮共 離子注入 連續(xù)冷卻轉(zhuǎn)變 連續(xù)冷卻轉(zhuǎn)變圖 連續(xù)退火……W……………3.18兩次正火…………4.4流態(tài)床熱處理………………2.15流態(tài)床滲碳………8M馬氏體…………13.馬氏體分級(jí)淬火………………5.25馬氏體臨界冷卻速度…………2.39馬氏體時(shí)效處理…………………7.7彌散相…………13.36母相……………13.51模壓淬火………5.23N納米晶…………13.P噴霖論卻………5.20片層狀組織……13.17QQ-P熱處理………2.16氣體滲負(fù)…………9.3氣體溶碳………M…W………8.5氣體碳氮共滲 星烈淬火 強(qiáng)流脈沖電子束輻熙 強(qiáng)滲期 清潔熱處理 M……2.22球化退火 R熱處理……………2.1熱處理工藝周期………………2.26熱處理畸變……14.11熱絲輔助化學(xué)氣相沉積………12.16熱浴淬火………5.21S上貝氏體………13.38深層滲碳………8.16深冷處理………5.38滲氮………………9.1滲氮白亮層……9.14滲氮層深度……9.11滲金屬…………10.6滲碳………………8.1滲碳層…………8.滲碳層深度……8.24滲碳淬火有效硬化層深度……8.25滲碳件心部區(qū)域………………8.26滲碳體…………13.23石墨化退火……3.20時(shí)效處理…………7.4樹枝晶組織……13.12數(shù)字化淬火冷卻控制技術(shù)……5.36雙介質(zhì)淬火……5.22雙液淬火………5.22水韌處理…………7.2索氏體…………13.29索氏體化處理…………………5.50T碳傳遞系數(shù)……8.29碳氮共滲………碳含量分布……8.23碳化物…………13.24碳化物彌散強(qiáng)化滲碳…………8.14碳化物形成元素………………8.31特性冷卻曲線…………………2.41鐵素體…………13.20退火………………3.1脫氫處理…………3.6脫溶物…………13.35托氏體…………13.30UU形曲線………5.49W完全退火………3.12網(wǎng)狀碳化物組織………………14.18位錯(cuò)……………13.46位錯(cuò)塞積………13.48魏氏組織………13.42穩(wěn)定化處理……2.18穩(wěn)定化退火……3.10物理氣相沉積…………………12.12X下貝氏體………13.39先析相…………13.34相變應(yīng)力………14.9相變誘發(fā)塑性…………………2.23形變熱處理……2.19形變時(shí)效………7.修復(fù)熱處理……2.21旋轉(zhuǎn)加熱………2.32循環(huán)退火………3.28Y亞臨界點(diǎn)退火…………………3.17亞結(jié)構(gòu)…………13.45亞溫淬火………5.12亞相變點(diǎn)退火…………………3.17延遲淬火………5鹽浴氮碳共滲復(fù)合處理………12.23鹽浴滲碳…………8.4液體滲氮…………9.2移動(dòng)加熱………2.31一段滲氨……………g:有機(jī)聚合物水溶液淬…………5.18有效厚度 2.34有效加熱區(qū) 2.35預(yù)備熱處理 2.8預(yù)防白點(diǎn)退樂 預(yù)冷淬火 翼…………………I2.28余熱淬火 孕育期 Z再結(jié)晶退火………3.2真空回火…………6.2真空熱處理………2.9真空退火………3.22整體熱處理………2.2珠光體領(lǐng)域……13.28裝箱退火………3自然穩(wěn)定化處理…………………7.8組織組分………………W……13.4希臘字母x碳化物(黑格碳化物)………13.26Aageing……Bbainite…………………baking………………blankcarburizing………………blanknitriding………………………9.15boriding………………………boronizing……………………brightannealing………brightheattreatment……………bulkheattreatment……………………2Ccarbideformer………carbonactivity……………………carbonitriding…carbonmasstransfercoefficien………carbonprofile……………………carburizedcasedepthcharacteristiccoolingcurve………………chemicalvapordeposicomplexheattreatment……………compoundlayer………………continuouscoolingtransformationcontinuouscoolingtransfDdeepcarburizing……………………delayquenching…………………………5.32dewpoint…………………diehardening…………………differentialheating……………dislocationpileup………doubleannealing……………EFferrite……firststagetempering……………fluidizedbedcarburizing…………foghardening………Ggascarburizing……………gasnitriding……………gasquenching……glowdischargeboriding………grainboundary…………………grainboundaryengineeringgrainrefining……………………Hhardenabilityband…h(huán)ardenabilitycurve……………h(huán)ardeningcapacity………h(huán)eatingrate……………………h(huán)eatingschedule……………………h(huán)ightemperaturetempering…………………h(huán)omogencouscarburizing………………8.13Iincubationtime………inductionannealing…inductionhardeningintercriticalhardening…………………intermediateannealing…intermediatecoolingquenching………ioncarburizing………ionnitriding…………GB/T7232—2012isothermaltransformation………isothermaltransformationdiagram………ITdiagram………………JL lasertransformgfonhedening ?！?3.32 localizedquenchhardening………………5lowpressurecarblrizing………lowpressureeateatnent