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ProtectingGroups

inOrganicSynthesis1選擇保護(hù)基的原則:(1)保護(hù)基的供應(yīng)來源,包括經(jīng)濟(jì)程度。(2)保護(hù)基團(tuán)必須能容易進(jìn)行保護(hù),且保護(hù)效率高。(3)保護(hù)基的引入對化合物的結(jié)構(gòu)論證不致增加過量的復(fù)雜性,如保護(hù)中忌諱產(chǎn)生新的手性中心。(4)保護(hù)以后的化合物必須承受的起以后進(jìn)行的反應(yīng)和后處理過程。(5)保護(hù)基以后的化合物對分離、純化、各種層析技術(shù)要穩(wěn)定。(6)保護(hù)基團(tuán)在高度專一的條件下能選擇性、高效率地被除去。(7)去保護(hù)過程的副產(chǎn)物和產(chǎn)物能容易被分離。

呼之即來,揮之即去。

切莫請神容易,送神難。2羥基的保護(hù)基1).酯類保護(hù)基t-BuCO(Pivalyl新戊?;?Piv);PhCO;MeCO;ClCH2COetal.90%

Nicolaou,K.C.;Webber,S.E.Synthesis,1986,4533酯類保護(hù)基的除去(cleavage)

堿性條件下水解,水解能力:

t-BuCO(Piv)<PhCO<MeCO<ClCH2CO

常用的堿:K2CO3,NH3,NH2NH2,Et3N,i-Pr2NEtetal

去除Piv一般用較強(qiáng)的強(qiáng)堿體系,如KOH/H2O,LiAlH4,DIBAL,KBH(OEt)3

4ClCH2CO的去除可以用硫脲,氨/甲醇,苯,吡啶水溶液,NH2CH2CH2SH,NH2CH2CH2NH2,PhNHCH2CH2NH2等除去。52).硅醚保護(hù)基硅醚保護(hù)基主要有:

Me3Si(trimethylsilyl,TMS);Et3Si(triethylsilyl,TES);

t-BuMe2Si(tert-butyldimethylsilyl,TBDMSorTBS)i-Pr3Si(triisopropylsilyl,TIPS)t-BuPh2Si(tert-butyldiphenylsilyl,TBDPS)酸水解相對穩(wěn)定性:TMS(1)<TES(64)<TBDMS(20,000)<TIPS(700,000)<TBDPS(5,000,000)堿水解相對穩(wěn)定性:TMS(1)<TES(50)<TBDMS=TBDPS(20,000)<TIPS(100,000)硅醚保護(hù)基的除去:(F-Si142kcal/mol;O-Si112kcal/mol)通常用HF/CH3CN;TBAF/THF;HF.Py/CH3CN6TMSether:

TMSClorTMSOTfinpyridine,NEt3,i-Pr2NEt,imidazole,DBU7TESether:

TESCl/Imid.DMAP;TESOTf/Py.or2,6-dimethylpyridine(2,6-lutidine)8TBDMSether:

TBDMSCl/imid./DMF;TBDMSOTf/2,6-lutidine9TBDPSether:

TBDPSCl/imidazole/DMF,catalyst:DMAP,solvent:CH2Cl210TIPSether:

TIPSCl/DMF/imidazole.11Cleavage

12Cleavage13Cleavage14Cleavage15cleavage16烷基醚類:Me(甲基醚)reagent:MeI;(MeO)2SO2;MeOTfcleavage:TMSI/CH3Cl(CH2Cl2orMeCN)orBBr3/CH2Cl2Bn(芐基醚)reagent:PhCH2BrorPhCH2Clcleavage:H2/10%Pd/C,Raney-Ni,Rh-Al2O3;Li(Na)/NH3PMB(對甲氧基芐基醚);DMBorDMPB(3,4-二甲氧基芐基醚)reagent:PMBCl;p-MeOC6H4CH2O-C(=NH)CCl3cleavage:DDQ,CANTr(三苯甲基醚)reagent:TrCl/Py/DMAP;TrOTf/2,6-lutidineclaevage:HCO2H-H2O;HCO2H-t-BuOH;HCl/MeCN;Na/NH3tert-butyl(叔丁基醚)reagent:isobutene/CH2Cl2;t-BuO-C(=NH)CCl3cleavage:HCO2H;CF3CO2H;HBr-HOAc,FeCl3;TiCl4;TMSIallyl(烯丙基醚)reagent:Allylbromidecleavage:t-BuOK/DMSO/NaOH17烷氧基烷基醚:MOM(甲氧基甲基醚)methoxymethyletherMTM(甲硫基甲基醚)methylthiomethyletherMEM(甲氧基乙氧基甲基醚)methoxyethoxymethyletherBOM(芐氧基甲基醚)benzyloxymethyletherSEM(三甲硅基乙氧基甲基醚)trimethylsilylethoxymethyletherreagents:RClorRBr/NaH/THFcleavage:MOMHCl/THF/H2O(1:2:1);Lewisacid:Me3SiBr/CH2Cl2;Me2BBr/CH2Cl2MTMAgNO3/2,6-lutidine;HgCl2/CaCO3MEMZnBr2/CH2Cl2;HBr/THF;TiCl4/CH2Cl2;Me2BBr/CH2Cl2

BOMNa/NH3/EtOH,H2/Pd(OH)2/C;Raney-Ni/EtOH;BF3/PhSH/CH2Cl2SEMHCl/MeOH;Lewisacid;THP(四氫吡喃)tetrahydropyraneetherreagents:DHP(3,4-dihydro-2H-pyran)

cleavage:HOAc/THF/H2O(4:2:1)18O,O-Acetals(縮醛和縮酮)Reagents:Acetone;benzaldehyde,cyclo-ketoneCleavage:Acid;Lewisacid1,2或1,3-二醇的保護(hù):19醛酮的保護(hù):O,O-acetals:1,3-dioxalane(5-numberring)and1,3-dioxane(6-numberring)Catalyst:p-TsOH,CSA,PPTs20Carboxylicacid:1)MethylesterReagent:MeOH/HCl;MeOH/TMSCl;MeOH/SOCl2;MeI/KHCO3Cleavage:LiOH,KOH,NaOH/MeOH,THF21Carboxylicacid22)tert-butylesterReagent:isobutene/H2SO4Cleavage:aceticacid/isopropanol;TFA/CH2Cl222Carboxylicacid3:3)MOM(methoxymethyl),MEM(2-methoxyethoxymethyl),BOM(benzyloxymethyl),MTM(methylthiomethyl),SEM(2-trimethylsilylethoxymethyl)TCE(2,2,2-trichloroethyl)TMSE(2-trimethylsilylethyl)TsE(2-tosylethyl)Bn(benzyl)allyl(allyl)ester

23Aminogroup1:1)Boc(tert-butoxycarbonyl)Reagent:(Boc)2O;BocON(2-(tert-butoxycarbonyloxyimino)phenylacetonitrile)Cleavage:TFA;TFA/CH2Cl224Aminogroup22)Cbz(

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