國林科技-市場前景及投資研究報告：國產(chǎn)臭氧發(fā)生器半導(dǎo)體裝備

國產(chǎn)臭氧發(fā)生器領(lǐng)先者，半導(dǎo)體裝備開創(chuàng)新紀元國林科技（

300786.SZ

）公司深度報告投資評級：買入

（

首次

）2023年10月19日報告日期：投

資

要

點?

國內(nèi)臭氧發(fā)生器龍頭公司，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化。臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體領(lǐng)域有兩大應(yīng)用，其中臭氧水發(fā)生裝置主要用于半導(dǎo)體前道工藝環(huán)節(jié)的濕法清洗，臭氧氣體發(fā)生裝置可用于CVD和ALD等薄膜沉積環(huán)節(jié)及部分干法清洗環(huán)節(jié)。當(dāng)前我國半導(dǎo)體臭氧設(shè)備市場主要被美國MKS等外企壟斷，由于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移及產(chǎn)業(yè)安全等要求，未來高端設(shè)備不論是整機自研、零部件配套等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)國產(chǎn)自主可控乃是大勢所趨。公司已實現(xiàn)半導(dǎo)體臭氧設(shè)備核心技術(shù)突破，生產(chǎn)的臭氧水機產(chǎn)生的臭氧水濃度可達80-150PPm，臭氧氣體發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧氣體濃度可達200-300mg/L，均已取得相關(guān)專利，產(chǎn)品性能可對標(biāo)海外龍頭。目前產(chǎn)品正在客戶端驗證，驗證結(jié)束后可立即投產(chǎn)量產(chǎn)，將有望加速半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的。?

高品質(zhì)乙醛酸供需矛盾突出，公司臭氧制酸生產(chǎn)工藝成熟，具備量產(chǎn)條件。目前國內(nèi)高品質(zhì)乙醛酸產(chǎn)品基本依賴進口，國林科技專有乙醛酸制備方法“臭氧氧化順酐法”，產(chǎn)品品質(zhì)高、可產(chǎn)生副產(chǎn)品甲酸鉀且轉(zhuǎn)化效率基本達到100%。?

盈利預(yù)測：水務(wù)處理、廢水治理、煙氣脫硝領(lǐng)域等下游需求輪動，保障公司在傳統(tǒng)領(lǐng)域的穩(wěn)定發(fā)展；新興領(lǐng)域拓展順利，公司半導(dǎo)體臭氧清洗設(shè)備突破關(guān)鍵核心技術(shù)，有望實現(xiàn)設(shè)備，新疆高品質(zhì)乙醛酸項目產(chǎn)能有序爬坡中，將帶來顯著業(yè)績增長。預(yù)計2023-2025年的歸母凈利潤分別為0.26、0.91、1.55億元，EPS分別為0.14、0.50、0.84元，當(dāng)前股價對應(yīng)PE分別為126、37、22倍。首次覆蓋，給與“買入”評級。誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效2預(yù)

測

指

標(biāo)預(yù)測指標(biāo)2022A2932023E5242024E8542025E1,09328.0%155主營收入（百萬元）增長率（%）-41.0%1879.0%2663.0%91歸母凈利潤（百萬元）增長率（%）-76.3%0.1046.5%0.14245.3%0.5070.2%0.84攤薄每股收益（元）ROE（%）1.4%2.1%7.3%12.4%資料：Wind、華鑫證券研究所誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效3風(fēng)

險

提

示1、設(shè)備驗證周期過長；2、中低端臭氧發(fā)生器競爭激烈；3、乙醛酸項目爬坡不及預(yù)期；誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效41.專精特新小巨人，多元布局筑壁壘2.臭氧發(fā)生器行業(yè)龍頭，傳統(tǒng)業(yè)務(wù)穩(wěn)步發(fā)展目錄3.半導(dǎo)體清洗及薄膜沉積專用設(shè)備，加速中CONTENTS4.橫向切入乙醛酸制備市場，產(chǎn)能逐步釋放5.投資建議誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效5一、

專精特新小巨人，多元布局筑壁壘?

專精特新小巨人，業(yè)務(wù)持續(xù)拓展，向乙醛酸、半導(dǎo)體等領(lǐng)域延伸。1994年國林科技成立，自主研制臭氧設(shè)備獲得國家專利；2002年至2012年間，陸續(xù)成功研制國內(nèi)首臺3kg/h、50kg/h、120kg/h等多個中大型臭氧發(fā)生器，打破進口壟斷局面，填補國內(nèi)大型臭氧發(fā)生設(shè)備的制造空白；2015年公司登陸新三板，并于2019年成功在深交所上市。多年來公司以臭氧技術(shù)為核心，多次參與臭氧行業(yè)標(biāo)準編制，持續(xù)為不同領(lǐng)域客戶提供多樣化的臭氧系統(tǒng)解決方案。圖表1：三十年技術(shù)沉淀打造行業(yè)冠軍1994年青島國林實業(yè)有限責(zé)任公司成立2010年公司參與主編《水處理用臭氧發(fā)生器》CJ/T322-2010正式發(fā)布實施2020年至今2002年成功研制“3kg/h大型中頻臭氧發(fā)生器”2019年深交所上市2012年自主研制的“大型120kg/h臭氧發(fā)生器”性能達到國際先進水平2003年—2008年2021年募投建設(shè)年產(chǎn)2.5萬噸高品質(zhì)晶體乙醛酸項目；被評為國家級專精特新“小巨人”2022年2004年2009年2011年|2018年乙醛酸項目進入試生產(chǎn)階段；半導(dǎo)體清洗設(shè)備進入客戶驗證階段1994年自主研發(fā)單機產(chǎn)量“20kg/h大型臭氧發(fā)生器”2015年新三板上市||2012年2002年2008年成為全球第三家能夠制造50kg/h以上臭氧發(fā)生器的企業(yè)2017年公司主持制定《水處理用臭氧發(fā)生器技術(shù)要求》國家標(biāo)準資料：公司招股說明書、公司官網(wǎng)、公司公告、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效7?

公司董事長丁香鵬先生兼經(jīng)理一職，持有公司28.73%的股份；實控人參與公司經(jīng)營，熟悉公司日常運營，更有益于制定企業(yè)長期戰(zhàn)略及決策。管理團隊核心人員張磊、王承寶等人同時是公司元老級別的核心技術(shù)人員，在公司工作多年，深刻了解公司技術(shù)研發(fā)理念、研發(fā)體系以及管理政策。?

2022年發(fā)布股權(quán)激勵計劃，首次向62名激勵對象授予限制性股票347.4萬股，深度綁定核心員工，利于公司遠期發(fā)展。圖表2：公司股權(quán)穿透圖核心管理層實際控制人28.73%1.50%1.91%1.19%64.9%1.77%丁香鵬王承寶張磊王海燕朱若英其他股東青島國林科技集團有限公司（300786.SZ）采用臭氧氧化技術(shù)，生產(chǎn)高品質(zhì)晶體乙醛酸、乙醛酸水溶液及甲酸鉀業(yè)務(wù)向乙醛酸、半導(dǎo)體、健康醫(yī)療等領(lǐng)域多元化延伸100%新疆國林100%66.67%99.67%100%100%100%70.23%青島賀力德95%青島國林流青島國林新材料科技青島國林半導(dǎo)體技術(shù)青島新能源科技青島國林陶瓷新材料科技青島朗科電子科技青島國林健康技術(shù)新材料低溫科技體科技臭氧設(shè)備用于半導(dǎo)體清洗、薄膜沉積工藝環(huán)節(jié)資料：Wind、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效8?

國林科技作為一家專業(yè)從事臭氧設(shè)備研制、銷售及服務(wù)的公司，掌握臭氧系統(tǒng)設(shè)備的全套核心技術(shù)，產(chǎn)品以大型臭氧發(fā)生器為主，涵蓋全系列臭氧設(shè)備，目前產(chǎn)品在市政給水、工業(yè)廢水、煙氣脫硝、精細化工等行業(yè)有廣泛應(yīng)用。圖表3：公司產(chǎn)品覆蓋了大、中、小型臭氧發(fā)生器，以大型臭氧發(fā)生器為主產(chǎn)品分類產(chǎn)品展示應(yīng)用場景大型臭氧發(fā)生器采用玻璃和非玻璃兩種放電介質(zhì)技術(shù)，容性負載臭氧發(fā)生器專用大功率中頻逆變電源技術(shù)；已應(yīng)用于市政給水、市政污水、工業(yè)廢水、煙氣脫硝、化工氧化、食品飲料消大型臭氧發(fā)生器氧氣源1kg

空氣源10-30kg

氧氣源110-120kg

毒、醫(yī)用治療等領(lǐng)域。臭氧發(fā)生器中小型臭氧發(fā)生器采用玻璃和非玻璃兩種放電介質(zhì)技術(shù)，容性負載臭氧發(fā)生器專用大功率中頻逆變電源技術(shù)；已應(yīng)用于食品飲料消毒、醫(yī)用治療、水產(chǎn)養(yǎng)殖、糧食存儲等領(lǐng)域?？諝庠?00g空氣源/氧氣源200-800g中、小型臭氧發(fā)生器空間消毒機、泳池專用設(shè)備、高濃度臭氧水機等專用臭氧發(fā)生器用于空間消毒、泳池水體消毒殺菌、實驗室等專用領(lǐng)域。空間消毒設(shè)備射流投加系統(tǒng)PSA制氮負壓泳池機高度臭氧水機尾氣分解系統(tǒng)VPSA制氧射流投加系統(tǒng)、氮氣添加系統(tǒng)、尾氣分解系統(tǒng)等與臭氧發(fā)生器組合成臭氧發(fā)生系統(tǒng)。臭氧配套系統(tǒng)氮氣添加系統(tǒng)PSA制氧使用分子篩進行加壓吸附、減壓脫附來提取高純度氧氣和氮氣；廣泛應(yīng)用于化工、水處理、石化、造紙等多個領(lǐng)域。制氧/制氮設(shè)備PSA制氮、PSA制氧、VPSA制氧資料：公司招股說明書、公司官網(wǎng)、公司公告、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效9?

公司作為臭氧設(shè)備行業(yè)龍頭，市政給水、市政污水、工業(yè)廢水、煙氣治理為公司產(chǎn)品主要下游，四大行業(yè)營收占比接近90%。其中自2019年以來，工業(yè)廢水領(lǐng)域營收占比最大，2022年占比為32.9%；而市政污水營收占比從2018年的23.8%降低至2022年16.1%。?

工業(yè)廢水領(lǐng)域，公司先后為中海油、中石化、中石油等各地分公司提供數(shù)十套大型臭氧發(fā)生器；在市政領(lǐng)域，合作各地自來水廠和污水廠；煙氣脫硝處理行業(yè)，公司設(shè)備成功應(yīng)用于上海石化、云南石化、國網(wǎng)寧夏、寶鋼集團等眾多公司。圖表4：2018-2022年主營業(yè)務(wù)收入構(gòu)成（%）圖表5：公司部分下游客戶100%10.1%10.3%13.2%11.9%13.6%90%80%70%60%50%40%30%20%10%0%29.3%26.2%19.4%7.7%33.2%6.4%9.3%2.6%7.1%6.4%9.0%4.8%19.1%17.4%16.4%16.1%23.8%39.5%201938.7%202038.9%202132.9%202227.2%2018工業(yè)廢水處理

市政污水

市政給水

煙氣處理

制氧機（行業(yè)）

其他資料：Wind、公司公告、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效10總體來看，公司營業(yè)收入呈現(xiàn)穩(wěn)定增長態(tài)勢，歸母凈利潤保持一定增速。?

2022年公司營收2.93億元，同比下滑40.95%；實現(xiàn)歸母凈利潤1800萬元。公司業(yè)績短期承壓，主要系因為疫情導(dǎo)致臭氧發(fā)生器下游的項目推遲，進展不及預(yù)期；乙醛酸項目自2022年6月開始試生產(chǎn)，而下半年新疆疫情封控等原因?qū)е庐a(chǎn)能爬坡延后，整個項目投入較大也使得公司費用上升較快。?

2023年H1公司營收1.36萬元，同比增長7.42%，歸母凈利潤-649.36萬元，同比下降177.82%；利潤下降主要受國內(nèi)外經(jīng)濟形勢不景氣和客戶調(diào)試驗收工作延期的影響；且子公司項目尚處于起步階段，收入增長較慢，業(yè)務(wù)投入較大導(dǎo)致相關(guān)成本、費用增長較快。?

隨著公司半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器業(yè)務(wù)、新疆乙醛酸項目穩(wěn)步推進，逐漸放量，我們預(yù)計公司業(yè)績有望恢復(fù)快速增長。圖表6：2018年-2023年H1營業(yè)收入情況（億元）圖表7：2018年-2023年H1歸母凈利潤情況（億元）0.960%6.080%60%40%20%0%0.8057.3%0.760.80.735.3%0.614.960.7240%5.04.03.02.01.00.017.9%4.0220%11.4%3.730.623.4%3.35-5.0%11.3%0.50%2.930.47.7%-20%-40%-60%-80%-100%0.30.181.36-41.0%-20%-40%-60%0.20.1-76.3%0.0201820192020202120222023H1-0.06201820192020總營收（億元）202120222023H1(0.1)(0.2)歸母凈利潤（億元）YOY（%）YOY（%）資料：Wind、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效11?

利潤率較為穩(wěn)定。2018-2020年公司毛利率維持在40%以上，銷售凈利率約20%左右。2021年受到原材料價格上漲以及乙醛酸項目籌備影響，利潤率有所下降；2022年宏觀經(jīng)濟不景氣以及新疆疫情影響乙醛酸項目產(chǎn)能爬坡不及預(yù)期，從而影響整體利潤情況。?

費用率控制有效。2018-2021年，期間費用率總計下降0.8pct，整體費用率呈現(xiàn)下降趨勢。2022年由于營收減少疊加三費增長，期間費用率漲幅較大。隨著疫情影響消除，乙醛酸產(chǎn)能釋放疊加設(shè)備訂單修復(fù)，我們預(yù)計公司利潤情況將逐步轉(zhuǎn)好，三費將得到有效控制。圖表8：2018-2022年公司利潤率情況（%）圖表9：2018-2022年費用率情況(%)42%25%20%15%10%5%35%0.8%0.6%0.4%0.2%0.0%-0.2%-0.4%-0.6%-0.8%40.8%19.4%40.7%18.4%0.60%30.4%41%40%39%38%37%36%35%34%33%32%40.3%30%0.28%25%20%15%10%5%15.3%19.9%20.06%-0.17%37.3%16.9%15.7%14.9%14.6%8.89%9.14%9.04%7.55%8.22%6.90%35.4%-0.49%6.28%10.47%6.41%6.1%2022-0.71%0%0%2018201920202021銷售凈利率（%；右軸）20182019期間費用率（%）20202021銷售費用率（%）財務(wù)費用率（%；右軸）2022銷售毛利率（%；左軸）管理費用率（%）資料：Wind、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效12圖表11：公司非公開發(fā)行股票募投項目（萬元）?

長期來看公司運營能力提高。2021年應(yīng)收賬款周轉(zhuǎn)率和存貨周轉(zhuǎn)率均有提升，資產(chǎn)負債率較2020年下降顯著；2022年由于宏觀環(huán)境變化及疫情原因，短期影響公司經(jīng)營。?

2021年公司現(xiàn)金流變化主要系原材料價格上漲、乙醛酸項目工程建設(shè)投入資金以及非公開發(fā)行股票融資等因素，導(dǎo)致現(xiàn)金流波動較大。序號項目名稱投資總額擬用募集資金金額2.5萬噸/年高品質(zhì)晶體乙醛酸項目（一期）136,000.0036,000.0036,000.0036,000.00合計圖表10：2018-2022年公司運營情況圖表12：2018-2022年公司現(xiàn)金流情況3.0%2.5%2.0%1.5%1.0%0.5%0.0%40.0%35.0%30.0%25.0%20.0%15.0%10.0%5.0%42.7%2.6%32102.3%2.3%34.5%26.5%1.5%19.3%1.1%26.2%21.1%1.1%20182019202020212022-1-2-3-41.0%0.6%20180.6%20220.0%201920202021應(yīng)收賬款周轉(zhuǎn)率（%）存貨周轉(zhuǎn)率（%）資產(chǎn)負債率（%；右軸）經(jīng)營活動現(xiàn)金流（億元）投資活動現(xiàn)金流（億元）籌資活動現(xiàn)金流（億元）資料：Wind、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效13二、

臭氧發(fā)生器行業(yè)龍頭傳統(tǒng)業(yè)務(wù)穩(wěn)步發(fā)展?

臭氧發(fā)生器是用于制取臭氧氣體（O3）的裝置。臭氧易于分解無法儲存，需現(xiàn)場制取現(xiàn)場使用（特殊的情況下可進行短時間的儲存），所以凡是能用到臭氧的場所均需使用臭氧發(fā)生器。臭氧發(fā)生器在飲用水，污水，工業(yè)氧化，食品加工和保鮮，醫(yī)藥合成，空間滅菌等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。?

臭氧發(fā)生器是氧氣通過介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生臭氧所必需的裝置，是臭氧系統(tǒng)最核心的裝置，與氣源裝置、接觸反應(yīng)裝置、尾氣處理裝置、檢測控制儀表等共同組成一套完善的臭氧系統(tǒng)。通常按照每小時產(chǎn)生的臭氧量，臭氧發(fā)生器分為：小型（5g/h-100g/h）、中型（>100g/h-1000g/h）、大型（>1kg/h）。圖表13：臭氧系統(tǒng)設(shè)備圖表14：臭氧發(fā)生器分類自動控制系統(tǒng)分類具體產(chǎn)品冷卻裝置氣源裝置按每小時產(chǎn)生臭氧量分為小型（5g/h-100g/h）、中型（>100g/h-1000g/h）、大型（>1kg/h）按臭氧發(fā)生單元的機構(gòu)形式分為管式和板式。目前工業(yè)應(yīng)用普遍采用管式臭氧發(fā)生器發(fā)生器分為工頻（50Hz、60Hz）、中頻（100Hz-1000Hz）、高頻（＞1000Hz）。工頻臭氧發(fā)生器放電需要高電壓，臭氧出氣濃度低、體積大、效率低，目前處于淘汰階段按介質(zhì)阻擋放電的頻率分為空氣型和氧氣型?？諝庑鸵愿稍餄崈舻膲嚎s空氣為原料；氧氣型以工業(yè)氧氣或現(xiàn)場制氧為原料按供氣氣源按冷卻方式分為水冷卻和空氣冷卻。用于水處理、煙氣處理等領(lǐng)域的大型發(fā)生器多為水冷卻；用于空氣消毒、果蔬保鮮等領(lǐng)域的小型發(fā)生器多為空氣冷卻尾氣處理裝置接觸反應(yīng)裝置儀器儀表資料：公司官網(wǎng)、公司招股說明書、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效15圖表16：2019年中國臭氧發(fā)生器下游應(yīng)用市場結(jié)構(gòu)（%）?

水處理為臭氧發(fā)生器主要應(yīng)用市場。2019年，臭氧發(fā)生器在水處理領(lǐng)域(包括飲用水、市政污水、工業(yè)廢水、泳池用水等處理)應(yīng)用市場占比約為55%，煙氣處理應(yīng)用市場占比約為9%。?

隨著水污染、大氣污染成為影響人民生活的重要問題，國家對環(huán)境保護的日益重視以及國家環(huán)保政策執(zhí)行力度的加大，市場對臭氧設(shè)備的需求增長迅速，2022年中國臭氧發(fā)生器市場規(guī)模約52.74億元。20%水處理食品行業(yè)煙氣脫硝醫(yī)療衛(wèi)生其他2%9%55%14%圖表15：臭氧系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域圖表17：2016-2022年中國臭氧發(fā)生器市場規(guī)模（億元）水處理市政污水市政給水石化廢水印染廢水泳池消毒煙氣處理食品飲料精細化工6052.745044.639.3240302010034.728.621.87紙漿漂白1...201620172018201920202022中國臭氧發(fā)生器規(guī)模（億元）資料：公司招股說明書、前瞻產(chǎn)業(yè)研究院、共研網(wǎng)、九洲龍公司公眾號、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效16?

在我國臭氧發(fā)生器市場中，中小型產(chǎn)品較多，市場份額合計共約74.3%，相關(guān)設(shè)備企業(yè)競爭激烈。主要系中小型臭氧發(fā)生器多數(shù)應(yīng)用于空間消毒、小流量水處理和化工氧化等領(lǐng)域，技術(shù)要求不高，行業(yè)進入門檻較低，且新進入的企業(yè)一般從低端的中小型產(chǎn)品做起，參與競爭企業(yè)較多，而競爭手段趨向于以價格競爭為主。?

大型臭氧發(fā)生器技術(shù)門檻高，核心競爭者有限。大型臭氧發(fā)生器對臭氧產(chǎn)生效率、設(shè)備穩(wěn)定性、功耗等要求更高，存在較高技術(shù)壁壘，目前國內(nèi)掌握核心臭氧技術(shù)的企業(yè)不多，僅有十幾家。同時客戶在高端應(yīng)用領(lǐng)域的臭氧設(shè)備采購中，對供應(yīng)商設(shè)定了很高的技術(shù)條件、規(guī)模要求和既往工程業(yè)績的要求，進入門檻較高。圖表18：2020年中國臭氧發(fā)生器細分產(chǎn)品占比（%）

圖表19：國產(chǎn)臭氧發(fā)生器行業(yè)情況15.78%第一梯隊：國林科技、新大陸（龍凈新陸）、玨辰環(huán)保、賽萊默、蘇邦環(huán)保、三康、康爾等25.70%第一梯隊大型臭氧發(fā)生器中型臭氧發(fā)生器小型臭氧發(fā)生器第二梯隊：廣州百豐環(huán)保、長沙湘麓環(huán)保、上海環(huán)總實業(yè)等第二梯隊第三梯隊：其他小型區(qū)域性臭氧發(fā)生器廠商第三梯隊58.52%資料：、前瞻產(chǎn)業(yè)研究院、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效17圖表20：傳統(tǒng)國產(chǎn)大型臭氧發(fā)生器處于一定劣勢?

臭氧發(fā)生器大型化發(fā)展已成定局。隨著市政給水、市政污水處理、工業(yè)廢水處理和煙氣脫硝等行業(yè)的發(fā)展，單臺10kg/h以上的大型臭氧發(fā)生器成為主流型號，但當(dāng)前大型臭氧設(shè)備基本依賴于進口，包括德國Wedeco、瑞士Ozonia、法國Triligaz（已被Wedeco收購）等海外知名廠商。?

我國臭氧技術(shù)起步較晚，大型臭氧發(fā)生器設(shè)備較國外產(chǎn)品有一定差距。目前國內(nèi)擁有成熟大型臭氧發(fā)生技術(shù)的企業(yè)有國林科技、龍凈新陸等。序號存在問題工頻能耗大，效率低：臭氧能耗在20kw/h以上，設(shè)備功率在25w-29kw1臭氧濃度低：空氣源一般為8-12mg/L，氧氣源濃度為15-25mg/L234氣體流量大：一般在80-140m3/h，為國外同類產(chǎn)品3-4倍放電介質(zhì)采用玻璃管，易損壞，維護周期短圖表21：國產(chǎn)大型臭氧發(fā)生器發(fā)展趨勢發(fā)展趨勢資料：《淺談國產(chǎn)工業(yè)用大型臭氧發(fā)生器的現(xiàn)狀與發(fā)展方向》、上海諾博環(huán)保公眾號、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效17國林科技產(chǎn)品型號眾多，大型臭氧發(fā)生器技術(shù)水平處于海內(nèi)外第一梯隊。?

與德國Wedeco、瑞士Ozonia的20kg/h大型臭氧發(fā)生器參數(shù)比較可以看出，國林科技在最高臭氧濃度、能耗等方面均與國際龍頭接近，在最高臭氧產(chǎn)量和氣體流量上有一定差距。?

與國內(nèi)臭氧發(fā)生器制造商龍凈新陸對比上，國林科技在產(chǎn)品研發(fā)上具有一定的先發(fā)優(yōu)勢，空氣源產(chǎn)品綜合性能更佳。圖表22：海內(nèi)外廠商大型臭氧發(fā)生器產(chǎn)品對比品牌Wedeco1-300Ozonia1-300龍凈新陸1-120國林科技1-120臭氧產(chǎn)量（kg/h）選取的產(chǎn)品型號選取氧氣源120kg/h型號空氣源20kg/h型號選取氧氣源120kg/h型號空氣源20kg/h型號選取20kg/h型號選取20kg/h型號氧氣源空氣源6-15%2-6%—16%5%6510-12.8%2.9%8-10%2-2.5%204-240臭氧濃度范圍（wt%）氧氣源空氣源192冷卻水量（m3/h）———8060-80氣體流量（Nm3/h）臭氧能耗（KWh/kg）52-520680-820618.7-7746.5-8（氧氣源）13-16（空氣源）7-7.5（氧氣源）14-16（空氣源）109.7資料：威德高官網(wǎng)、奧宗尼亞官網(wǎng)、龍凈新陸公司官網(wǎng)、公司官網(wǎng)、《凈水廠常用進口臭氧發(fā)生器設(shè)備選型對比》、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效19?

介質(zhì)阻擋放電技術(shù)是工業(yè)用臭氧發(fā)生器的核心技術(shù)，介質(zhì)材料的性能決定了臭氧發(fā)生器產(chǎn)量、濃度、電耗及運行可靠性。國內(nèi)外主流的臭氧設(shè)備制造商均有技術(shù)專利：Wedeco采用專利Effizon第二代放電管技術(shù)，Ozonia使用AT（AdvantageTechnology）非玻璃介電體技術(shù)和新推出的IGS+技術(shù)，日本富士電機系統(tǒng)株式會社、三菱電機均采用玻璃介質(zhì)放電技術(shù)。?

國林科技通過自主研發(fā)，掌握了臭氧系統(tǒng)設(shè)備制造和已有應(yīng)用領(lǐng)域的全部環(huán)節(jié)的關(guān)鍵技術(shù)，同時掌握DTA非玻璃放電體技術(shù)和DBS玻璃介質(zhì)放電技術(shù)。此外公司臭氧發(fā)生器及其系統(tǒng)設(shè)備中核心零部件均為公司自制，部分常規(guī)部件采用外購，少部分低端零配件及罐體噴塑等技術(shù)含量較低的工藝為外協(xié)加工。圖表23：工業(yè)上主要采用介質(zhì)阻擋放電法制備圖表24：DTA非玻璃臭氧電管和DBS玻璃臭氧放電管示意圖DTA非玻璃臭氧電管示意圖DBS玻璃臭氧放電管示意圖資料：公司招股說明書、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效20圖表25：公司技術(shù)體系成熟，結(jié)構(gòu)完整?

公司通過對核心技術(shù)的持續(xù)研發(fā)及技術(shù)集成，形成了具有自身特點的、成熟的技術(shù)體系，并且在市政給水、市政污水、工業(yè)廢水、煙氣脫硝處理領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。臭氧應(yīng)用技術(shù)飲用水臭氧應(yīng)用技術(shù)市政污水臭氧應(yīng)用技術(shù)工業(yè)廢水臭氧應(yīng)用技術(shù)煙氣脫硝臭氧應(yīng)用技術(shù)?

大型臭氧系統(tǒng)設(shè)備專業(yè)化、集成化要求高，設(shè)備價值量較高且使用壽命一般在10年以上，因此客戶在選擇設(shè)備廠商時更注重產(chǎn)品使用效果、公司過往業(yè)績、公司行業(yè)口碑情況。國林科技參與多項行業(yè)標(biāo)準編制、多次承擔(dān)行業(yè)重大研發(fā)項目，公司的大型臭氧設(shè)備、大型VPSA制氧設(shè)備成功研制并在各領(lǐng)域廣泛應(yīng)用，產(chǎn)品性能可對標(biāo)海外，已改變我國高端臭氧設(shè)備長期以來進口的局面，并在逐漸實現(xiàn)進口替代。臭氧系統(tǒng)設(shè)備集成、在線檢測與遠程診斷控制核心技術(shù)臭氧發(fā)生器系列產(chǎn)品研制技術(shù)臭氧系統(tǒng)配套產(chǎn)品研制技術(shù)臭氧發(fā)生室技術(shù)臭氧專用中高頻電源技術(shù)臭氧發(fā)生器控氣源處理系統(tǒng)臭氧投加系統(tǒng)臭氧投加系統(tǒng)制技術(shù)臭氧發(fā)生器核心技術(shù)臭氧放電體介質(zhì)阻擋放電技術(shù)臭氧專用電源控制技術(shù)及關(guān)鍵器件技術(shù)臭氧專用中高頻變壓器關(guān)鍵器件技術(shù)臭氧發(fā)生室安全運行保護關(guān)鍵器件技術(shù)資料：公司招股說明書、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效21圖表27：相同水質(zhì)下，臭氧和膜技術(shù)對比?

臭氧-生物活性炭工藝是目前飲用水深度處理最為成熟的工藝，在世界發(fā)達國家已得到廣泛運用。該工藝集活性炭物理吸附、臭氧化學(xué)氧化、生物降解及臭氧滅菌消毒等功效為一體，處理微污染水中的有機物、氨氮、色度、濁度、嗅味等。?

目前我國飲用水深度處理工藝主要有臭氧-生物活性炭與粉末碳+超濾膜（膜技術(shù)）兩種。膜技術(shù)在飲用水深度處理領(lǐng)域目前尚處于起步階段，對于進水水質(zhì)要求較高，處理流程較為復(fù)雜，且運行成本較高。技術(shù)路徑臭氧-生物活性炭粉末碳+超濾膜可達標(biāo)可達標(biāo)可去除小分子有機物出水濁度小于0.1NTU小分子有機物去除較少減少AOC（生物可同化有機碳），有利管網(wǎng)水的生物穩(wěn)定性出水質(zhì)量細菌病毒大量減少，有效去除兩蟲基建造價（元/m3/d）圖表26：臭氧在飲用水處理工藝中的應(yīng)用示意圖300左右300-330臭氧0.051（3mg/L投放量，液氧1000元/噸，電耗10kwh/kgO3）粉末碳0.0055（1mg/L，5500元/噸）膜折舊0.044（膜價運轉(zhuǎn)費用（元/m3）活性炭0.042（碳價1.1萬

80元/m3/d，用5年）元/噸嗎，每年補碳10%，用4年）合計0.093電耗0.07（0.1kwh/m

）3合計0.1195水中溴離子高時，溴酸鹽易超標(biāo)微生物泄漏膜絲易折斷膜污染需要有效清洗優(yōu)缺點冬季膜通量減少節(jié)省占地面積冬天生物炭去除污染物效果差資料：公司招股說明書、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效22圖表28：2012-2020年全國&城市供水量及增速（億立方米；%）?

全國供水總量保持基本穩(wěn)定，城鎮(zhèn)供水總量穩(wěn)步提升。截至2020年全國供水總量為5812.9億立方米，增速變動幅度較小，水利部指出，到2025年新增供水能力3.6%3.5%7000600050004%2.7%2.5%2.3%2.2%3%1.7%2%0.2%1%290億立方米，5年CAGR為1%。城鎮(zhèn)供水量持續(xù)增長，40000%30002020年受到疫情影響，增速稍微放緩。-1%-2%-3%-4%200010000?

新版飲用水標(biāo)準即將落地，深度處理需求增長。2022年新修訂的《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準》發(fā)布，提高了水中游離氯余量及消毒副產(chǎn)物的指標(biāo)限值。2019年全國298家自來水廠的采樣調(diào)研結(jié)果顯示，34%水廠原水為III-IV水，必須采用深度處理技術(shù)才能滿足水質(zhì)標(biāo)準的要求。而2019年調(diào)研中298個水廠深度處理率僅為17.8%，市政給水領(lǐng)域深度處理需求量仍存在較大的增長空間。201220132014201520162017201820192020全國供水總量（億立方米）全國供水量YOY（%）城市供水總量（億立方米）城市供水量YOY（%）圖表29：2019年市政給水深度處理技術(shù)情況指標(biāo)調(diào)研結(jié)果樣本量298家水廠（涵蓋全國7大流域）設(shè)計規(guī)模原水水質(zhì)中小型水廠64.9%，大型水廠35.1%I-II類水66%，III-IV類水34%?

公司較早進入市政水處理領(lǐng)域，產(chǎn)品性能可對標(biāo)海外公司。2008年公司中標(biāo)有Ozonia、Wedeco等海外廠商參與的昆山自來水第三水廠20萬噸/天自來水的臭氧系統(tǒng)設(shè)備招標(biāo)，打破了市政給水行業(yè)使用大型臭氧設(shè)備完全依賴進口的局面。總體工藝應(yīng)用64.1%僅采用常規(guī)處理工藝，17.8%增設(shè)深度處理工藝67.9%采用臭氧活性炭技術(shù)，28.3%采用膜處理技術(shù)深度處理工藝應(yīng)用資料：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院、住建部、《2019年中國城鎮(zhèn)水務(wù)行業(yè)發(fā)展報告》、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效23圖表31：臭氧處理難降解有機工業(yè)廢水的優(yōu)勢?

臭氧在廢水處理中應(yīng)用廣泛，在市政污水、印染、石化、造紙、制藥等行業(yè)中發(fā)揮重要作用。臭氧可以實現(xiàn)脫色和除臭功能，同時氧化難以降解的有機物，促進污泥沉淀。廢水類型特點及臭氧處理效果具有水量大、有機污染物濃度高、色度深、含鹽量高、水印染廢水

質(zhì)變化大等特點；臭氧進行深度處理可滿足廢水處理要求，?

廢水處理一般分為：1）預(yù)處理，以機械方法為主；2）生物處理法，去除膠體和溶解狀態(tài)的有機物；3）深度處理。臭氧因為具備強氧化性、殺菌消毒及脫色除臭等功能，通常在深度處理環(huán)節(jié)使用。有顯著脫色效果，且不產(chǎn)生有機氯等有害物質(zhì)濃度高、COD值高且波動性大，毒性大、可生化性差、含制藥廢水

鹽量高；臭氧預(yù)處理效果較好，可將有毒有害物質(zhì)氧化為可生化的小分子，實現(xiàn)高效處理圖表30：臭氧在污水處理領(lǐng)域的應(yīng)用示意圖有機物多為石油裂解物質(zhì)和烴類衍生物；臭氧技術(shù)對廢水煉油廢水深度處理可保證出水水質(zhì)，實現(xiàn)煉油廢水的重復(fù)利用污染物成分復(fù)雜、濃度高、毒性大、處理難度大；臭氧對焦化廢水

焦化廢水中COD/揮發(fā)酚及色度的去除率可達91%/99%/985以上廢棄泥漿和井下作業(yè)廢液具有成分負責(zé)、腐蝕性強等特點；礦業(yè)廢水

臭氧處理可以達到綜合治理的目的，對于氰化廢水的處理效果顯著污染性極強的高濃度有機廢水，已知有機污染物高達77種；垃圾滲濾液臭氧技術(shù)與其他技術(shù)組合處理?？纱蠓岣呱锝到庑詮U水中的木質(zhì)素是不為生化法降解的穩(wěn)定化合物；臭氧技造紙廢水

術(shù)可以對廢水進行脫色、除臭，對有毒的化合物具有消毒等作用資料：公司招股說明書、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效24?

污水排放量逐年增長，污水處理廠數(shù)量穩(wěn)定增長。據(jù)住建部公布數(shù)據(jù)顯示，2015-2021年，我國城市污水排放總量持續(xù)提升，2021年城市污水排放量達到625.08億立方米，同比增長9.4%。隨著城市和縣城污水處理率逐漸接近100%，污水處理量將與排放量同步提升，新建污水處理廠數(shù)量將保持穩(wěn)定增長。據(jù)水處理廠數(shù)量達到4706座。研究院預(yù)測，2022年我國城市和縣域污?

國林科技在污水處理領(lǐng)域經(jīng)驗豐富，客戶合作案例廣泛，多個項目成為行業(yè)典范，包括北京高碑店市政污水處理、揚州化工園區(qū)廢水處理、紹興柯橋江濱印染廢水處理等。圖表32：2016-2022年中國城市和縣域污水處理廠數(shù)量圖表33：公司合作案例高碑店污水處理50004500400035003000250020001500100050047067%6%5%4%3%2%1%0%451643264140391937813552，02016201720182019202020212022數(shù)量（座）YOY（%）資料：公司公告、研究院、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效25?

煙氣脫硝技術(shù)一般是指對燃燒排放的尾氣進行脫硝處理（即后端脫硝），主要技術(shù)有選擇性催化還原法（SCR）、選擇性非催化還原法（SNCR）和氧化脫硝法。臭氧可作為氧化劑在氧化脫硝過程中使用。?

臭氧氧化脫硝技術(shù)能夠滿足新的煙的資本開支。臭氧氧化脫硝技術(shù)優(yōu)勢明顯，已在國內(nèi)多個熱電廠應(yīng)用。圖表34：臭氧在煙氣處理領(lǐng)域的應(yīng)用示意圖

圖表35：后端脫硝技術(shù)對比放標(biāo)準《火電廠大氣污染物排放標(biāo)準》，此外大型臭氧設(shè)備的國產(chǎn)化也降低工廠控制方式脫硝原理優(yōu)缺點應(yīng)用特點通過選擇合適的催化劑將反應(yīng)溫度降到290-430℃，還原劑（氨、尿素等）有選擇性的與煙氣中的NOX反應(yīng)以達到脫硝效果優(yōu)點：脫除效率達90%，技術(shù)成熟，容易操作缺點：建設(shè)投資大；催化劑多為進口，價格昂貴；脫硝運行成本高技術(shù)成熟、應(yīng)用最廣泛SCR優(yōu)點：設(shè)備占地面積小、

常用于小型鍋爐煙氣溫度在870-1200℃

投資少

和工業(yè)爐窯上的時，將氨、尿素等還原劑

缺點：大型鍋爐脫除率

脫硝、常配合其NSCR噴入延期中僅有30%-50%；液氨存

他脫硝技術(shù)共同儲存在安全問題使用優(yōu)點：無須還原劑、脫除率超90%；可配合濕法同時脫硝用強氧化劑將不可溶的低大型火電廠有運行成本優(yōu)勢；石油石化行業(yè)運行穩(wěn)定、良好低溫氧化脫

價態(tài)氮氧化物氧化成可溶硝技術(shù)的高價泰氮氧化物，再利用堿化吸收洗滌工藝缺點：實踐應(yīng)用案例較少資料：公司招股說明書、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效26圖表36：公司上海寶鋼梅山鋼鐵項目?

雙碳政策推動煙氣脫硝行業(yè)發(fā)展。《“十四五”工業(yè)綠色發(fā)展規(guī)劃》要求，深入推進鋼鐵行業(yè)超低排放改造，穩(wěn)步實施水泥、焦化、玻璃等行業(yè)超低排放改造；“十四五”期間，中國煙氣治理行業(yè)市場容量接近5000億元，主要集中在新建火電、異地搬遷煙氣治理及尚未完成的超低排放。?

火電裝機、投資規(guī)模穩(wěn)定增長，帶動煙氣處理發(fā)展?！笆奈濉被痣娍偼顿Y共約4000億元；2022年電規(guī)總院發(fā)布《未來三年電力供需形勢分析》，保障未來三年1.4億千瓦煤電按期投產(chǎn)。?

公司在煙氣脫硝領(lǐng)域深度耕耘，成功合作中石油、中石化、上海寶山鋼廠等多個客戶。圖表37：“十四五”期間火電新增裝機（萬千瓦）圖表38：中國火電投資規(guī)模（億元）60001400117440%30%20%10%0%5000500012001200500012001000800600400200090940003000200010000777740672630568-10%-20%-30%-40%-50%2020年2021年2022年2023E2024E2016201720182019202020212022

2023E

2024EYOY（%）新增煤電裝機量（萬千瓦）火電完成投資額（億元）資料：北極星火力發(fā)電網(wǎng)、中電聯(lián)、公司公告、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效27?

臭氧產(chǎn)品性能提升，下游應(yīng)用持續(xù)擴張。1）精細化工行業(yè)，公司依靠在大型臭氧設(shè)備的技術(shù)優(yōu)勢，在業(yè)內(nèi)樹立良好的品牌形象和口碑，大量大型臭氧設(shè)備在精細化工行業(yè)應(yīng)用；2）傳統(tǒng)消毒行業(yè)，公司擁有大量優(yōu)質(zhì)客戶，如娃哈哈、康師傅、農(nóng)夫山泉、銀鷺食品等；3）軍工、航天領(lǐng)域，公司憑借先進的技術(shù)和優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，為軍工企業(yè)的項目提供多套臭氧設(shè)備。?

此外，公司持續(xù)對于超大型臭氧發(fā)生系統(tǒng)進行研制，不斷提升臭氧發(fā)生濃度以保持競爭優(yōu)勢。公司立研項目有包括紙漿漂白臭氧發(fā)生器應(yīng)用系統(tǒng)、半導(dǎo)體級高濃度臭氧水系統(tǒng)、光伏級高濃度臭氧水系統(tǒng)、電子級超純臭氧氣體發(fā)生器、家用臭氧水機等。圖表39：公司部分客戶案例圖表40：公司部分立研項目（截至2023年H1）項目名稱項目進展超大型臭氧發(fā)生系統(tǒng)研制樣機設(shè)計完成，零部件加工階段醫(yī)用制氧機樣機組裝測試完成，模具設(shè)計開發(fā)階段項目已完成驗收高濃度臭氧發(fā)生器的研制半導(dǎo)體高濃度臭氧水機的研制項目已完成驗收半導(dǎo)體、光伏高濃度臭氧發(fā)生室性能測試階段資料：公司公告、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效28三、

半導(dǎo)體清洗及薄膜沉積專用設(shè)備，

加速中?

半導(dǎo)體產(chǎn)品可細分為四大類：集成電路、分立器件、光電子器件和傳感器，其中集成電路作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的核心，長期占據(jù)行業(yè)銷售規(guī)模的80%以上。?

從產(chǎn)業(yè)鏈角度來看，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈涉及材料、設(shè)備等支撐性行業(yè)，芯片設(shè)計、晶圓制造和封測行業(yè)，產(chǎn)品終端應(yīng)用行業(yè)等。以集成電路為代表的半導(dǎo)體產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，下游應(yīng)用行業(yè)的需求增長是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展的核心驅(qū)動力。圖表41：半導(dǎo)體產(chǎn)品分類圖表42：半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游：原材料+設(shè)備模擬電路中游：制造芯片設(shè)計下游：應(yīng)用集成電路微處理器邏輯電路存儲器硅片光刻膠網(wǎng)絡(luò)通信消費電子汽車電子工業(yè)控制軍事太空虛擬現(xiàn)實半導(dǎo)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最大消費領(lǐng)域光掩模特種氣體體

拋光材料

濺射靶材材料半導(dǎo)體產(chǎn)品分立器件IGBT濕電子化學(xué)品封裝材料晶圓制造MOSFET二極管前道七大工藝步驟擴散設(shè)備

光刻設(shè)備刻蝕設(shè)備

清洗設(shè)備離子注入設(shè)備晶閘管半導(dǎo)體設(shè)光電子器件傳感器封裝測試薄膜沉積設(shè)備MEMS后道：先進封裝備

機械拋光設(shè)備人工智能圖像傳感器......檢測設(shè)備*

標(biāo)黃部分為公司產(chǎn)品應(yīng)用環(huán)節(jié)資料：電子工程世界、《盛美上海招股說明書》、前瞻產(chǎn)業(yè)研究院、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效30?

半導(dǎo)體專用設(shè)備在產(chǎn)業(yè)鏈中占據(jù)重要地位。半導(dǎo)體專用設(shè)備的技術(shù)復(fù)雜、設(shè)備價值量較高，客戶對設(shè)備的技術(shù)參數(shù)、運行的穩(wěn)定性有苛刻要求，從而保障生產(chǎn)效率、質(zhì)量和良率，因此半導(dǎo)體專用設(shè)備技術(shù)壁壘高，客戶驗證周期長、難度大。?

集成電路是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)難度最高、附加值最大的產(chǎn)品，制造過程通常可分為前道工藝（晶圓制造）和后道工藝（封裝測試）兩大類。其中，前道晶圓制造共有七大步驟，分別為氧化擴散、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜生長、清洗與拋光、金屬化，而前道專用設(shè)備的投資占比也在80%左右。圖表43：以集成電路為例，專用設(shè)備可分為前道、后道兩大類圖表44：集成電路領(lǐng)域晶圓加工設(shè)備投資占比超80%氧化/擴散光刻刻蝕清洗硅片制造長晶&切磨拋設(shè)備2%擴散爐氧化爐涂膠顯影設(shè)備光刻設(shè)備介質(zhì)刻蝕設(shè)備金屬刻蝕設(shè)備邊緣刻蝕設(shè)備單片清洗設(shè)備槽式清洗設(shè)備組合式清洗設(shè)備18%薄膜沉積設(shè)備光刻設(shè)備24%10%2.5%10%6%退火爐對準檢測設(shè)備刻蝕設(shè)備單片氧化設(shè)備晶圓加工離子注入設(shè)備工藝控制設(shè)備清洗設(shè)備封裝測試拋光薄膜生長離子注入注塑機機械拋光設(shè)備金屬沉淀設(shè)備介質(zhì)層沉積設(shè)備原子層沉積設(shè)備電鍍設(shè)備離子注入設(shè)備檢測設(shè)備清洗設(shè)備其他設(shè)備其他加工設(shè)備封裝設(shè)備8%10%8%封裝測試后道封裝測試工藝CP&FT測試設(shè)備資料：盛美半導(dǎo)體招股說明書、電子工程世界、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效31?

半導(dǎo)體設(shè)備收入的增長與晶圓廠擴張息息相關(guān)。前道工藝（即晶圓制造）中半導(dǎo)體專用設(shè)備在晶圓廠擴產(chǎn)的資本支出中占比約80%，晶圓廠產(chǎn)能的持續(xù)擴張將會穩(wěn)步推動半導(dǎo)體設(shè)備的市場規(guī)模擴大。?

中國大陸成為全球晶圓新增產(chǎn)能中心。據(jù)JWInsights統(tǒng)計，2022年初中國大陸共有23座12英寸晶圓廠正在投產(chǎn)，總月產(chǎn)能約為104.2萬片，與規(guī)劃月產(chǎn)能156.5萬片相比仍有較大擴產(chǎn)空間。此外，JWInsights預(yù)測中國大陸未來五年（2022年-2026年）將新增25座12英寸晶圓廠，總規(guī)劃月產(chǎn)能超160萬片。截至2026年底，中國大陸12英寸晶圓廠的總月產(chǎn)能將超過276.3萬片。中國晶圓廠擴產(chǎn)將加快促進半導(dǎo)體設(shè)備的需求釋放。圖表45：中國大陸12英寸晶圓廠擴產(chǎn)情況（萬片）圖表46：全球及中國半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)備市場規(guī)模（億美元）120070%60%50%40%30%20%10%0%30025020015010050180%276.3165.10%160%140%120%100%80%60%40%20%0%1000800600449104.239187.740052.30%283269-10%-20%-30%-40%18746.80%2000131134826544493402021年初2022年初2026年末產(chǎn)能提升空間（%）2013

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2024E全球半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模（億美元）全球YOY（%；右軸）中國半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模（億美元）中國YOY（%；右軸）12英寸月產(chǎn)能（萬片）資料：集微咨詢、立鼎產(chǎn)業(yè)研究院、中國、華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院、智通財經(jīng)、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效32圖表48：2019-2022年中國晶圓廠設(shè)備國產(chǎn)化情況?

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中心從美日韓逐漸向中國大陸轉(zhuǎn)移。從2020年起，中國連續(xù)三年成為全球最大半導(dǎo)體市場，半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模在全球占比逐步提升。?

2022年10月，美國商務(wù)部宣布新的半導(dǎo)體限制措施，波動的國際情勢下，為保障供應(yīng)鏈的穩(wěn)定和持續(xù)，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈勢在必行。盡管半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率逐步提升，從2018年的5.03%上升至2022年的14.08%，但仍處于較低水平，而IC制造設(shè)備領(lǐng)域自給率更低，未來中國半導(dǎo)體專用設(shè)備公司發(fā)展空間廣闊。圖表47：中國半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模在全球市場占比（%）國產(chǎn)化率設(shè)備名稱去膠設(shè)備清洗設(shè)備主要國內(nèi)廠商2019年2022年＞90%＞90%北京屹唐半導(dǎo)體盛美半導(dǎo)體、北方華創(chuàng)、至純科技、芯源微20%左右＞30%20%左右中微、北方華創(chuàng)、北京屹唐半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備＞20%＞30%30%熱處理設(shè)備20%左右北方華創(chuàng)、北京屹唐半導(dǎo)體26.3%22.5%26.3%25%20%15%10%5%26.1%20.3%薄膜沉積設(shè)備10%左右北方華創(chuàng)、拓荊科技、中微等＜20%＞30%＜10%18.5%11.7%15.7%10%左右CMP

設(shè)備華海清科等芯源微等10.6%201314.5%涂膠顯影設(shè)備零的突破預(yù)計有零的突破0%光刻設(shè)備＜1%上海微電子等201420152016201720182019202020212022中國半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模在全球市場占比（%）資料：立鼎產(chǎn)業(yè)研究院、盛美半導(dǎo)體招股說明書、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效33?

清洗步驟主要用于去除晶圓加工過程中上一道工序遺留的超微細顆粒污染物、金屬殘留、有機物殘留，以及光阻掩膜殘留，也可根據(jù)需要進行硅氧化膜、氮化硅或金屬等薄膜材料的濕法腐蝕，為下一步工序準備好晶圓表面條件。?

清洗工藝應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的各個環(huán)節(jié)，清洗的效果直接影響到最終的芯片良率和產(chǎn)品性能。從硅片光刻加工，到刻蝕、沉積、拋光，再到封裝的前、后清洗，清洗工序占據(jù)了整個芯片生產(chǎn)總步驟的三分之一。圖表49：清洗貫穿芯片制造多晶硅晶圓制造氧化晶圓制造過程清洗包含：擴散前清洗材料清洗單晶硅片制造拉晶切割研磨拋光清洗單晶硅片刻蝕光刻刻蝕后清洗刻蝕離子注入后清洗去膠清洗濺射清洗離子注入光阻去除WAT測試成膜前/后清洗機械拋光后清洗等拋光后清洗保護層芯老化檢驗IC測試封裝過程清洗包含：TSV清洗片測試封裝打磨切割晶圓點測UBM/RDL清洗鍵合清洗等芯片封裝資料：盛美半導(dǎo)體招股說明書、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效34?

根據(jù)清洗介質(zhì)不同，半導(dǎo)體清洗技術(shù)主要分為干法清洗和濕法清洗兩種工藝路線。目前，濕法清洗是主流，占總清洗步驟數(shù)量的90%以上，濕法清洗針對不同的工藝需求，采用特定化學(xué)藥液和去離子水，對晶圓表面進行無損傷清洗，以去除晶圓制造過程中的雜質(zhì)，常輔以超聲波、加熱、真空等技術(shù)手段；干法清洗是指不使用化學(xué)溶劑，可清洗污染物比較單一，主要在28nm及以下技術(shù)節(jié)點的邏輯產(chǎn)品和存儲產(chǎn)品中應(yīng)用。?

其中濕法清洗技術(shù)，又可以分為化學(xué)、物理兩個方向。化學(xué)法主要通過將硅片浸入不同的化學(xué)藥劑從而達到清洗目的，分為RCA清洗、IMEC清洗、臭氧清洗等；物理方法則是將化學(xué)藥劑與物理方法結(jié)合，通過機械刷洗法、超聲波/兆聲波清洗法、二流體清洗法、旋轉(zhuǎn)噴淋法等物理技術(shù)，對硅片進行全面清洗。圖表50：清洗工藝介紹：濕法、干法并存發(fā)展類別清洗方法清洗介質(zhì)化學(xué)藥液去離子水清洗工藝主要廠商化學(xué)法溶液浸泡法主要用于槽式清洗設(shè)備，待清洗晶圓放入溶液中浸泡去除雜質(zhì)配置專用洗刷器，配合去離子水利用刷頭與晶圓表面摩擦清洗DNS、TEL等機械刷洗法SC-1溶液,去離

精細化的水氣二流體霧化噴嘴，通入液體介質(zhì)和高純氮氣，高純氮氣輔助液體二流體清洗芯源微盛美上海、北方華創(chuàng)TEL濕法（主要使用）子水等微霧化成極微細的液體粒子被噴射至晶圓表面物理法超聲波/兆聲波清洗化學(xué)溶劑+超聲波/兆聲波使用20-40kHz頻率的超聲波/1-3MHz工藝頻率的兆聲波清洗，內(nèi)部產(chǎn)生空腔泡，泡消失時將表面雜質(zhì)解吸批式旋轉(zhuǎn)噴淋法高壓噴淋去離子

清洗腔室配置轉(zhuǎn)盤，在旋轉(zhuǎn)過程中通過液體噴柱不斷向圓片表面噴淋液體去除水或清洗液圓片表面雜質(zhì)化學(xué)試劑的氣相等效物半干法全干法氣相清洗利用液體工藝中對應(yīng)物質(zhì)的汽相污物質(zhì)相等效物與圓片表面的沾互作用強電場作用下，氧氣產(chǎn)生等離子體，迅速使光刻膠氣化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)并被抽走TEL、盛美上海、北方華創(chuàng)干法等離子清洗束流清洗氧氣等離子體利用高能量的呈束流狀的物質(zhì)流與圓片表面的沾污雜質(zhì)發(fā)生相互作用而達到清除圓片表面雜質(zhì)高能束流狀物質(zhì)資料：盛美半導(dǎo)體招股說明書、芯源微招股說明書、36氪研究院、前瞻產(chǎn)業(yè)研究院、《微電子工藝清洗技術(shù)的原理及應(yīng)用》、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效35圖表51：硅片污染物雜質(zhì)分類以及一般清洗步驟雜質(zhì)分類存在形式造成的影響一般清洗過程（RCA清洗）造成芯片短路或大大降低芯片的測試性能顆粒主要是一些聚合物、光致抗蝕劑等清洗槽中加入含有去離子水和清洗劑的溶液。將待清洗的半導(dǎo)體芯片浸泡在溶液中，通過機械攪拌和超聲波清洗，去除芯片表面的有機和無機污染物有機物雜物在硅片上以多種方式存在，如皮膚油脂、防銹油、潤滑油等影響加工進程破壞極薄氧化層的完整性、影響器件穩(wěn)定性、造成微結(jié)構(gòu)缺陷或霧狀缺陷在硅片上以范德華引力、共價鍵以及電子轉(zhuǎn)移等三種表面方式存在將芯片放入含有酸性溶液的清洗槽中。酸性溶液可以去除芯片表面的金屬雜質(zhì)，確保芯片的純凈度金屬污染物氧化物硅晶圓經(jīng)過SC-1和SC-2溶液清洗后，由于雙氧水的強氧化力，在晶圓表面上會生成一層化學(xué)氧化層將芯片放入含有氫氟酸的清洗槽中進行浸泡。氫氟酸可以與氧化物反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)，去除氧化物層影響閘極氧化層的品質(zhì)圖表52：對比RCA，DI-O3+HF去除雜質(zhì)效果顯著?

傳統(tǒng)清洗技術(shù)不易控制清潔劑濃度、易造成污染和浪費。RCA晶圓清洗程序每天必需耗用45000噸(相當(dāng)于十座八時晶圓廠的每日用水量)以上的超純水，并在高溫下達成效果；同時所使用的化學(xué)藥劑也將會產(chǎn)生上百噸強酸強堿廢液(有害廢棄物)排放。且化學(xué)品在高溫下的揮發(fā)性，使?jié)崈粢旱慕M成濃度不易控制，降低潔凈效果。去離子水（DI）O3優(yōu)勢高效：臭氧具有高反應(yīng)性，有效分解各種污染物環(huán)保：臭氧與污染物反應(yīng)后恢復(fù)成氧氣效率：速效清潔多樣：用于各種清潔應(yīng)用安全臭氧化的去離子水（DI-O3）資料：《半導(dǎo)體硅片清洗工藝的發(fā)展研究》、《半導(dǎo)體濕法加工工藝流程》、風(fēng)機匯、GORE半導(dǎo)體、同林臭氧、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效36?

臭氧和去離子水溶液是PiranhaClean和RCASC-1和SC-2更清潔、安全和高效的替代品。臭氧和去離子水溶液緊隨其后進行的SC-2清洗步驟能有效去除銅、銀等金屬以及有機污染物，也可代替Piranha步驟用于輕有機物清洗。?

高濃度臭氧水清洗技術(shù)與傳統(tǒng)的清洗技術(shù)結(jié)合（RCA清洗、IMEC清洗法及單晶片清洗）可有效避免或減少濃硫酸、氫氟酸等化學(xué)藥劑的使用量，去除有機污染物的同時還能在晶圓表面形成一層致密的氧化膜。圖表53：針對可去除雜質(zhì)，臭氧工藝和不同清洗技術(shù)的對比清洗技術(shù)顆粒雜質(zhì)金屬雜質(zhì)有機物雜質(zhì)氧化物雜質(zhì)SPM（PrianhaClean）DHF（HF或稀釋HF）SC-1RACSC-2濃H2SO4濕法改良

DI-O3IMECHF

+

HCL稀釋HCL/O3混合物臭氧微泡法單晶片清洗DI-O3DI-O3臭氧化的去離子水產(chǎn)生氧化硅，稀釋的HF清除顆粒和金屬污染物，也可去除有機雜質(zhì)干冰清洗束流清洗技術(shù)干法UV/O3紫外-臭氧清洗氣相清洗利用清洗劑高溫氣化，氣流上升至材料表面發(fā)生冷凝，溶解掉材料表面的雜質(zhì)，再回落到分離池循環(huán)資料：《硅片清洗技術(shù)的研究進展》、《CSE半導(dǎo)體清洗工藝》、《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效37?

隨著芯片制程工藝技術(shù)節(jié)點的不斷提高，對每一步驟晶圓表面的污染物和殘留物的要求日益提升。2022年全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模為28.78億美元，預(yù)計到2024年，全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模將增至31.93億美元。?

長期以來，全球清洗設(shè)備市場都被迪恩士（DNS）、TEL、LAM與細美事（SEMES，三星子公司）把持，這四家公司合計市場占有率達到90%以上。2022年迪恩士和TEL兩家全球市場份額占比達77%，其次分別為Lam、SEMES、盛美，占比分別為12%、5%、3%。圖表54：2018-2024年全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模（億美元）圖表55：2022年全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場份額34.235302520151053%3%31.930.55%28.827.025.4迪恩士TEL12%Lam50%SEMES盛美其他27%0201820192020202120222024E全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模（億美元）資料：研究院、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效38?

我國半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模高速增長，2022年達到17億美元，預(yù)計2024年我國半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模有望達到27億美元。?

國產(chǎn)化率不斷提升。從2019年中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備招標(biāo)采購份額來看，我國半導(dǎo)體清洗設(shè)備的國產(chǎn)化率已經(jīng)超過20%。同時，我國半導(dǎo)體清洗設(shè)備產(chǎn)業(yè)也涌現(xiàn)出了一批優(yōu)秀的龍頭企業(yè)，如盛美半導(dǎo)體、北方華創(chuàng)、沈陽芯源等等，其中盛美半導(dǎo)體的半導(dǎo)體清洗設(shè)備制造技術(shù)最為靠前，其所占市場份額也遠超其他國內(nèi)企業(yè)。圖表56：2018-2024年中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模（億美元）圖表57：中國清洗設(shè)備企業(yè)產(chǎn)品及相關(guān)技術(shù)已具備技術(shù)

在研技術(shù)30252015105公司主要清洗設(shè)備產(chǎn)品27.0（nm)（nm)23.4單片清洗機單片、槽式組合清洗設(shè)備、全自動槽式清洗設(shè)備等盛美上海北方華創(chuàng)14-1305/717.016.1槽式清洗機28-13028-130141411.18.27.7至純科技

槽式&單片清洗機單片清洗機、全自動SCRUBBER清洗機、KS-M300半自動機臺芯源微28-13014020182019202020212022E2023E2024E中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備規(guī)模（億美元）資料：研究院、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效39圖表58：中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備、臭氧清洗設(shè)備市場規(guī)模測算20182019594.5-8%2020712.020%185.1235%26%6%20211026.044%2022E1076.55%2023E8742024E100014%全球半導(dǎo)體設(shè)備規(guī)模（億美元）YOY645.3-19%390.838%44.7%6%半導(dǎo)體設(shè)備規(guī)模中國半導(dǎo)體設(shè)備規(guī)模（億美元）YOY129.06136.746%268.56545%282.75%449.215%中國半導(dǎo)體設(shè)備占比半導(dǎo)體清洗設(shè)備占比中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備規(guī)模（億美元）中國半導(dǎo)體前道清洗設(shè)備占比20%6%23%6%29%26%6%44.9%6%6%7.78.211.116.117.080%23.427.080%80%80%80%80%80%中國半導(dǎo)體前道清洗設(shè)備規(guī)模（億美元）6.26.68.912.913.618.821.618%半導(dǎo)體前道清洗設(shè)備YOY59%3%38%58%20%25%根據(jù)MTK公司，半導(dǎo)體前道清洗設(shè)備單價300-500萬美元，此處假設(shè)市場均價400萬美元半導(dǎo)體前道清洗設(shè)備均價（萬美元/臺）4001554001646%40022235%40032245%4003395%40046938%40053915%中國半導(dǎo)體前道清洗設(shè)備銷售數(shù)量（臺）YOY1-3個腔體配備一臺臭氧發(fā)生器；根據(jù)MTK公司，半導(dǎo)體前道清洗設(shè)備一般為8-16腔，假設(shè)當(dāng)前每臺配備5臺臭氧發(fā)生器；每臺價格70萬元每臺配備臭氧水發(fā)生器數(shù)量2345555潛在市場規(guī)模（億元）2.173.456.2211.2811.8716.4118.87資料：MTK官網(wǎng)、華鑫證券研究所測算誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效40?

半導(dǎo)體制膜關(guān)鍵工藝，持續(xù)推動芯片性能提升。半導(dǎo)體行業(yè)中，薄膜常用于產(chǎn)生導(dǎo)電層或絕緣層、產(chǎn)生減反射膜提高吸光率、臨時阻擋刻蝕等作用，由于薄膜是芯片結(jié)構(gòu)的功能材料層，在芯片完成制造、封測等工序后會留存在芯片中，薄膜的技術(shù)參數(shù)直接影響芯片性能。由于半導(dǎo)體器件的高精度，薄膜通常使用薄膜沉積工藝來實現(xiàn)，晶圓表面的沉積物會在晶圓表面形成一層連續(xù)密閉的薄膜。?

薄膜制備可根據(jù)原理分為淀積法和滲入法，其中淀積法根據(jù)反應(yīng)環(huán)境可分為氣相法和液相法，氣相法根據(jù)反應(yīng)原理可分為化學(xué)氣相沉積和物理氣相沉積。圖表59：半導(dǎo)體薄膜制備方法分類化學(xué)氣相沉積（CVD）常壓CVD、低壓CVD、金屬有機物CVD、等離子CVD、原子層ALD等化學(xué)工藝外延電鍍（ECD）淀積法濺射蒸鍍磁控PVD、等離子化PVD（主要）物理氣相沉積（PVD）制備方法物理工藝蒸發(fā)旋涂方法旋涂玻璃（SOG）、旋涂絕緣介質(zhì)（SOD）滲入法資料：《半導(dǎo)體制造技術(shù)》、華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效41?

半導(dǎo)體薄膜設(shè)備細分種類眾多：根據(jù)不同原理鍍膜設(shè)備主要分為CVD設(shè)備（化學(xué)真空鍍）、PVD設(shè)備（物理真空鍍）和ALD設(shè)備（原子層沉積）。常用CVD設(shè)備包括PECVD、SACVD、APCVD、LPCVD等，ALD也是屬于CVD的一種，是先進制程部分工序節(jié)點所需的薄膜沉積設(shè)備；而PVD設(shè)備根據(jù)原理不同又可分為濺射PVD設(shè)備、蒸鍍PVD設(shè)備和離子鍍膜設(shè)備。?

總體來看，CVD設(shè)備占據(jù)著57%的薄膜沉積設(shè)備市場，領(lǐng)先于其他類型設(shè)備；其次是PVD，占比為25%；ALD及其他鍍膜設(shè)備占據(jù)著18%的市場份額。細分來看，PECVD

是占比最高的設(shè)備類型，占整體薄膜沉積設(shè)備市場的

33%；ALD設(shè)備目前占據(jù)市場的11%；SACVD是新興的設(shè)備類型，屬于圖表60：三種薄膜沉積工藝對比小。指標(biāo)ALDPVDCVD原理表面反應(yīng)沉積

蒸發(fā)凝固

氣相反應(yīng)沉積6%過程臺階覆蓋率速率層狀生長優(yōu)秀慢形核長大一般快形核長大好11%12%33%快溫度低低高層均勻性優(yōu)秀一般較好19%沉積時間，氣象分壓厚度控制成分反應(yīng)回圈次數(shù)

沉積時間均勻，雜質(zhì)少

無雜質(zhì)VDCVD式LPCVD濺射PVDALD其他易含雜質(zhì)資料：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院、研究院、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效42?

臭氧氣體可用作鹵素或過氧化氫等傳統(tǒng)前體的替代品，用于半導(dǎo)體CVD和ALD薄膜沉積工藝。APCVD和CVD（化學(xué)氣相沉積）機器是在腔體中使用臭氧氣體，在腔體后使用臭氧破壞器。在原子層沉積中，臭氧用于氧化基板表面，從而可以沉積具有明確厚度的高質(zhì)量保形薄膜。?

使用臭氧優(yōu)勢顯著：1）臭氧作為一種高反應(yīng)性物質(zhì)，可以滲透到狹小的空間和空腔中，使其成為在高縱橫比結(jié)構(gòu)上沉積薄膜的理想選擇；2）臭氧是強氧化劑，非常適合沉積氧化膜。在原子層沉積中使用可以減少工藝步驟的數(shù)量并提高沉積工藝的效率，達到縮短沉積時間，減少前驅(qū)體使用、材料浪費等效果；3）臭氧具備高環(huán)保性能不會產(chǎn)生有害的副產(chǎn)品，便于運輸和儲存，使其成為傳統(tǒng)前體的更可持續(xù)的替代品。圖表62：臭氧ALD與用水ALD對比：更穩(wěn)定圖表63：原子層沉積工藝中使用臭氧的優(yōu)勢臭氧優(yōu)勢顯著OxygenSourceElectrochemicalPotential（V）Symbol精確控制薄膜厚度和高質(zhì)量薄膜（活性氧化劑）HydroxylRadicalOzone臭氧產(chǎn)生厚度均勻、晶體結(jié)構(gòu)明確的薄膜OH*O32.8快速有效地與前體反應(yīng)，從而加快薄膜生長并提高效率高反應(yīng)性適用性強2.081.781.23可用于沉積各種材料，包括金屬、氧化物和氮化物臭氧反應(yīng)通常在相對較低的溫度下發(fā)生，這使其適用于對溫度敏感的基板，有助于降低基板損壞或降解的風(fēng)險，從而改進熱原子層沉積工藝。HydrogenPeroxideOxygenH2O2O2低溫加工低成本廉價的反應(yīng)物，有助于保持ALD工藝的低成本資料：同林臭氧、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效43?

全球薄膜沉積設(shè)備持續(xù)穩(wěn)定發(fā)展。根據(jù)MaximizeMarketResearch數(shù)據(jù)統(tǒng)計，全球半導(dǎo)體薄膜沉積市場預(yù)計到2025年將達到340億美元，五年復(fù)合增長率為14.6%。其中市場將以存儲、AMOLED顯示屏以及太陽能電站等新興應(yīng)用需求的增加為驅(qū)動薄膜沉積市場增長的核心動力。?

薄膜沉積設(shè)備投資在晶圓制造工藝中占比18%，受益于中國半導(dǎo)體專用設(shè)備市場規(guī)模的擴大，薄膜沉積設(shè)備市場規(guī)模有望在2024年超80億美元。圖表64：全球薄膜沉積設(shè)備市場規(guī)模（億美元）圖表65：中國薄膜沉積設(shè)備市場規(guī)模（億美元）9050%45%40%35%30%25%20%15%10%5%34021%35025%20%15%10%5%45%80.98030018%25070.370605040302010035%38%16%50.948.32001501005010%11%33.38%15%24.67%23.26%5%00%0%201820192020202120222023E2024E2025E201820192020202120222023EYOY2024E全球薄膜沉積設(shè)備市場規(guī)模（億美元）YOY（%）中國薄膜沉積設(shè)備規(guī)模（億美元）資料：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院、盛美半導(dǎo)體招股說明書、立鼎產(chǎn)業(yè)研究院、華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院、中國、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效44?

目前薄膜沉積設(shè)備市場由海外公司主導(dǎo)。全球半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備市場由應(yīng)用材料（AMAT）、泛林半導(dǎo)體（Lam）、東京電子（TEL）、先晶半導(dǎo)體（ASMI）等海外公司占絕大部分市場。2019年，在CVD市場中，應(yīng)用材料（AMAT）全球占比約為30%，泛林半導(dǎo)體（Lam）和TEL分別為21%和19%，三大廠商合計達70%；PVD市場方面，應(yīng)用材料（AMAT）則壟斷了占85%的份額，處于絕對龍頭地位；ALD設(shè)備龍頭東京電子（TEL）和先晶半導(dǎo)體（ASMI）分別占據(jù)了31%和29%的市場。?

2021年，國內(nèi)企業(yè)在國際市場有一席之地。CVD方面，國內(nèi)市場絕大部分份額仍然被美國及日韓廠商占據(jù)，主要企業(yè)為AMAT、LAM、WONIKIPS、TEL等龍頭企業(yè)，其中拓荊以3.1%的市占率位居第七；PVD方面，AMAT同樣一家獨大，占據(jù)近60%的市場份額，國內(nèi)主要企業(yè)為北方華創(chuàng)。圖表66：各類薄膜沉積設(shè)備市場競爭格局CVDPVDALD15%30%30%40%31%TEL應(yīng)用材料應(yīng)用材料其他泛林半導(dǎo)體TELASM其他其他85%19%21%29%資料：集微網(wǎng)、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效45?

中國薄膜沉積設(shè)備行業(yè)長坡厚雪，國內(nèi)設(shè)備廠商積極布局沉積設(shè)備。目前主要設(shè)備商有有拓荊科技、北方華創(chuàng)、中微公司與盛美上海，其中沈陽拓荊布局PECVD、SACVD以及ALD，產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于國內(nèi)14nm以上晶圓制造產(chǎn)線；北方華創(chuàng)布局PVD、APCVD、APCVD以及用于功率等的PECVD、ALD，其中PVD設(shè)備獨領(lǐng)風(fēng)騷；中微公司2022年新的針對MiniLED市場的MOCVD將實現(xiàn)0-1放量，WLPCVD研發(fā)也取得突出進展；盛美上海前道大馬士革ECD設(shè)備已實現(xiàn)批量訂單；SiNLPCVD客戶端進行量產(chǎn)認證，未來有望放量賦能。圖表67：國內(nèi)廠商沉積設(shè)備布局情況拓荊科技PECVD北方華創(chuàng)中微公司MOCVD國內(nèi)企業(yè)相關(guān)產(chǎn)品布局PolarisG6208時北方華創(chuàng)PVD、CVD、ALDPVDeVictorGX20PF-300TPF-200T8時12時exiTexiTinH630Prismo系列MOCVD、LPCVD、ALD12時中微公司拓荊科技微導(dǎo)納米盛美上海eVictorAX30SACVDHORISL6371LPCVDLPCVDAPCVDPECVD、ALD、SACVD（國內(nèi)唯一）THEORIS302/FLOURIS201CVD盛美上海SA-300T12時SA-200T8時SES630AECDUltraECPmapALDEPEE550EPEEALDPECVDLPCVDUltraFnECD、LPCVD、ALDThermalALDPE-ALDThermalALDPE-ALDALD客戶驗證中ALD資料：華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院、立鼎產(chǎn)業(yè)研究院、EET、華鑫證券研究所整理誠信、專業(yè)、穩(wěn)健、高效46圖表68：中國半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備、臭氧氣體發(fā)生器市場規(guī)模測算（美元匯率為7.3）2018129.0618%2019136.7418%2020185.1218%2021268.5718%2022E282.718%2023E390.818%2024E449.218%中國半導(dǎo)體設(shè)備規(guī)模（億美元）薄膜沉積設(shè)備占比中國薄膜沉積設(shè)備規(guī)模（億美元）23.224.66%33.335%57%48.345%57%50.95%70.338%57%80.915%57%YOYCVD設(shè)備占比57%13.257%57%CVD設(shè)備規(guī)模（億美元）YOY14.06%19.035%27.645%29.05%40.138%46.115%拓荊科技PECVD設(shè)備均價在1300萬/臺，考慮到反應(yīng)腔體數(shù)量提升設(shè)備價格提高，且不同類型CVD設(shè)備價格差異較大（新型高端設(shè)備價格超2000萬），此處假設(shè)市場平均1500萬/臺薄膜沉積設(shè)備規(guī)模CVD設(shè)備單價（萬元/臺）150064411%2.6150068315009241500134111%1500141211%1500195111%1500224311%中國CVD設(shè)備銷售數(shù)量（臺）ALD設(shè)備占比11%11%AL