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文檔簡介
PAGE4PAGE實用文檔一、前期施工準備階段1.技術準備⑴施工前首先對設計文件進行現場調查,恢復中線,復核橫斷面。⑵永臨結合設計排水系統,設計原則:水不對路基產生危害,不排入農田、耕地,不污染自然水源,不引起沖刷和淤積。⑶臨時排水系統包括:塹頂截排水溝及引至永久排水系統的溝渠,地下水路塹施工時的臨時排水系統。2.現場準備。⑴調查自然狀態(tài)下山體穩(wěn)定狀況,分析施工期間邊坡穩(wěn)定性,發(fā)現問題及時加固處理。同時做好地下設備的調查和勘察工作。⑵清理現場,做好塹頂截排水設施。施工前切實做好地表排水工程,排出的水不得危及附近建筑物、道路和農田。二、土質路塹1.施工方法在平緩橫坡上,采用橫向臺階開挖方式,深路塹采用分層開挖方式。路塹開挖以機械施工為主,靠近基床底層表面及邊坡部分輔以人工開挖。土方調運采用大馬力推土機、挖掘機配合自卸汽車運輸。2.施工工藝路塹施工工藝流程見圖4.1。路塹邊坡,根據測設的邊樁位置,由人工配合挖掘機刷坡。不設圬工防護的邊坡,每10m邊坡范圍插桿掛線人工刷坡,有防護地段緊跟開挖及時做好邊坡防護。邊坡上由于孤石等造成的坑穴、凹槽,采用挖臺階漿砌片石嵌補?;?,當開挖接近路基面標高時,鑒別核對土石狀況,土質路塹要調查核對基床范圍內土質是否滿足技術要求,必要時進行補充勘探。檢驗基床范圍土質及地基允許承載力是否滿足設計要求,如滿足設計要求,測設基床表層斷面和標高,按每10m間距掛線,人工開挖基床表層表面,并按設計要求進行整修;如不滿足設計要求,需對基床按設計要求進行換填、改良或加固處理后,再分層填筑到設計標高。不符合要求土不符合要求土石方是機械開挖運輸施工組織準備場地清理測量放樣山體穩(wěn)定檢查施作塹頂水溝預加固否檢查地基允許承載力修整基床表面爆破開挖運輸符合要求邊坡及路基面整修加固及防護路基面檢驗路塹成型合格碾壓、整修不合格圖4.1路塹施工工藝流程圖改良或加固基床三、石質路塹根據現場收集到的情況、核實的工程數量,按工期要求、施工難易程度和人員、設備、材料準備情況,編制實施性的施工組織設計,報現場監(jiān)理工程師、業(yè)主以及公安部門批準,及時提出開工報告。對無法采用挖掘機和大馬力推土機開挖的石質路塹,采用梯段松動控制爆破方法施工,靠近邊坡采用預留光爆層法,實施光面爆破。路基面和側溝采用淺孔爆破。配合自卸車,實行挖、裝、運一條龍作業(yè)。爆破施工流程:施爆區(qū)管線調查→爆破設計與設計審批→配備專業(yè)施爆人員→爆區(qū)放樣→用機械或人工清除施爆區(qū)覆蓋層和強風化巖面→放樣與布孔→鉆孔→爆破器材檢查與測驗→炮孔檢查與廢渣清除→裝藥并安裝引爆器材→布置安全崗和撤出施爆區(qū)及飛石、強地震波影響區(qū)內的人、畜→起爆→清除瞎炮→解除警戒→測定爆破效果(包括飛石、地震波對施爆區(qū)內外構成損傷及損失)→裝、運石方與整修邊坡→至設計高程。光面爆破按設計線裝藥,將炸藥和導爆索用細繩捆綁在竹片上裝入孔中,并將竹片未綁炸藥一側置于保護巖層一側;對于開挖深度大于6.0m,且石方數量較大的工點,采用小型潛孔鉆機鉆孔,實施梯段松動控制爆破;對于開挖深度小于6.0m,且石方數量較小的工點,采用風槍鉆孔,實施梯段松動控制爆破;為提高破碎效果,降低大塊率,并降低爆破震動效應,采用寬孔距、小排距梅花形布孔,并采用導爆管毫秒雷管實施逐排微差擠壓爆破。硬質巖石基床施工,將路基面做成平面,施工時采用控制爆破,做到路基面平順,肩棱整齊,發(fā)現凹凸不平處用滲水土補平,加強碾壓。為保證基底平整堅實,不論采用潛孔鉆機還是風槍鉆孔進行爆破,到最底層2.0m時,均用風槍鉆孔進行爆破,并嚴格控制鉆孔深度和孔底標高,適當縮小孔距和排距,采用逐排微差起爆方法。深孔梯段爆破、光面爆破的炮眼布置、裝藥結構、起爆網路布置情況詳見圖4.2、4.3、4.4、4.5、4.6。a=3ba=3ba=3ba=3b1.2a′a′bbw1w1w1w1HH2.00半路塹橫向爆破炮孔橫斷面布置圖4.2寬孔距小排距梅花形半路塹橫向爆破炮孔平面布置H2.0H2.0低挖深地段(一般為6~8m)HH2.0光爆孔光爆孔預留光爆層高挖深地段(一般挖深超過10m)圖4.3全路塹開挖橫斷面圖HHHH2.0hhw1w1w1寬孔距小排距梅花形全路塹開挖縱斷面布孔圖bw1a=3ba=3b2bbw1a=3ba=3b2b圖4.4寬孔距小排距梅花形全路塹開挖平面布孔圖121234561234123412345連通管8段6段4段1段10段起爆雷管孔內導爆管孔內導爆雷管圖4.6寬孔距小排距孔內延期微差擠壓爆破網絡1——雷管腳線2——堵塞段,一般不小于0.75W13——上部裝藥,一般為總裝藥量的1/3~1/44——間隔段,可采用鉆碴5——底部裝藥6——雷管注:只有在大直徑炮孔φ>150mm和高梯段H>10m時,才有可能需要間隔裝藥。主爆孔間隔裝藥結構示意圖光面爆破連續(xù)裝藥結構示意圖光
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